[發明專利]一種用于提高LDI激光曝光機對位精度的系統及其方法在審
| 申請號： | 202310162840.7 | 申請日： | 2023-02-24 |
| 公開（公告）號： | CN115993757A | 公開（公告）日： | 2023-04-21 |
| 發明（設計）人： | 黎康;彭俊;李曉軍 | 申請（專利權）人： | 湖南維勝科技有限公司 |
| 主分類號： | G03F9/00 | 分類號： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 長沙市護航專利代理事務所(特殊普通合伙) 43220 | 代理人： | 謝新苗 |
| 地址： | 410100 湖南省長*** | 國省代碼： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 用于 提高 ldi 激光 曝光 對位 精度 系統 及其 方法 | ||
1.一種用于提高LDI激光曝光機對位精度的系統，其特征在于，包括圖像識別單元、印制電路板和處理器，其中：
所述印制電路板上設有若干個獨立且呈矩形的待識別分區，每一個待識別分區的四個角上均設有對位孔；
圖像識別單元，與處理器連接，并在處理器的控制下用于識別抓取對位孔的坐標并傳輸給處理器；
處理器，根據所接收的對位孔坐標計算坐標位置關系，基于所計算的坐標位置關系實現LDI激光曝光機與印制電路板的對位，即可控制LDI激光曝光機對印制電路板進行曝光。
2.如權利要求1所述的用于提高LDI激光曝光機對位精度的系統，其特征在于，若干個所述待識別分區為N×M陣列分布，其中，N表示行數，M表示列數。
3.如權利要求2所述的用于提高LDI激光曝光機對位精度的系統，其特征在于，每一個所述對位孔的孔徑為0.6-3.5mm。
4.如權利要求3所述的用于提高LDI激光曝光機對位精度的系統，其特征在于，相鄰兩列所述對位孔或相鄰兩行所述對位孔的孔中心最小距離均為220mm。
5.如權利要求4所述的用于提高LDI激光曝光機對位精度的系統，其特征在于，所述圖像識別單元包括若干個并可橫向和縱向位移的圖像識別單元。
6.一種用于提高LDI激光曝光機對位精度的方法，其特征在于，所述方法基于權利要求1-5任一項所述的用于提高LDI激光曝光機對位精度的系統實現LDI激光曝光機與印制電路板的精準對位，至少包括以下步驟：
S1、將待曝光的印制電路板進行分區使得該印制電路板上具有若干個獨立且呈矩形的待識別分區，并在每一個待識別分區的四個角上均設置對位孔；
S2、將所述印制電路板放置在預設位置，基于處理器控制圖像識別單元按列或按行識別印制電路板上的對位孔坐標，直至完成所述印制電路板上所有對位孔坐標；
S3、處理器根據所接收的所有對位孔坐標計算坐標位置關系，并基于所計算的坐標位置關系完成LDI激光曝光機與所述印制電路板的精準對位，從而實現所述印制電路板的曝光。
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