[發明專利]一種磷化銦拋光藥液及拋光方法

在審

• 申請號: 202310114774.6
• 申請日: 2023-02-15
• 公開（公告）號: CN116333601A
• 公開（公告）日: 2023-06-27
• 發明（設計）人: 呂春富;王卿偉;童三紅;胡文青;宋志強
• 申請（專利權）人: 中鍺科技有限公司
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02;H01L21/02;B24B1/00
• 代理公司: 南京中律知識產權代理事務所(普通合伙) 32341
• 代理人: 李建芳

1.一種磷化銦拋光藥液，其特征在于：包括配合使用的粗拋藥液1和精拋藥液2；

粗拋藥液1由三氯異氫尿酸、二氧化硅磨料A和高純水組成，其中，三氯異氫尿酸、二氧化硅磨料A和高純水的重量比為(18-36)：(80-120)：(3000-5000)；

精拋藥液2由三氯異氰尿酸、有機酸、二氧化硅磨料B、高純水和酸性活性劑，其中，有機酸為蘋果酸、乳酸或檸檬酸中的至少一種，三氯異氰尿酸、有機酸、二氧化硅磨料B、高純水和酸性活性劑的重量比為(60-120)：(60-300)：(100-300)：(20000-50000)：(60-150)。

2.如權利要求1所述的磷化銦拋光藥液，其特征在于：精拋藥液2中，當有機酸為蘋果酸時，三氯異氰尿酸、有機酸、二氧化硅磨料B、高純水和酸性活性劑的重量比為(60-120)：(100-300)：(100-300)：(20000-50000)：(60-150)；

當有機酸為乳酸時，三氯異氰尿酸、有機酸、二氧化硅磨料B、高純水和酸性活性劑的重量比為(60-120)：(80-240)：(100-300)：(20000-50000)：(60-150)；

當有機酸為檸檬酸時，三氯異氰尿酸、有機酸、二氧化硅磨料B、高純水和酸性活性劑的重量比為(60-120)：(60-180)：(100-300)：(20000-50000)：(60-150)。

3.如權利要求1或2所述的磷化銦拋光藥液，其特征在于：粗拋藥液1中，三氯異氫尿酸的有效氯含量大于90％，純度要求AR級；二氧化硅磨料粒徑要求60-140nm，有效磨料濃度29-45％，磨料化學級別EL級；高純水純度要求不低于18MΩ.cm。

4.如權利要求1或2所述的磷化銦拋光藥液，其特征在于：粗拋藥液2中，三氯異氫尿酸的有效氯含量大于90％，純度要求AR級；有機酸的純度要求AR級；二氧化硅磨料粒徑要求10-30nm，有效磨料濃度25-35％，磨料化學級別EL級；高純水純度要求不低于18MΩ.cm；酸性活性劑使用苯磺酸鈉，純度要求AR級。

5.一種磷化銦晶片的拋光方法，采用權利要求1-4任意一項所述的磷化銦拋光藥液，其特征在于：包括如下步驟：

步驟一：上盤操作，在陶瓷盤上粘貼防酸無蠟墊，將待粗拋的晶片放入防酸無蠟墊孔內，并壓緊晶片；

步驟二：將帶有晶片的陶瓷盤吸附在粗拋光機頭上，降下粗拋光機頭，開啟粗拋藥液1蠕動泵，待粗拋藥液1流出時，開啟拋光機運轉按鈕完成粗拋，其中，粗拋光機頭轉速50-70轉/min、拋光機定盤轉速60-90轉/min，粗拋藥液1的出液速度為700-800ml/min，粗拋去除量為1.5-2μm/min；

步驟三：將陶瓷盤吸附在精拋光機頭上，降下精拋光機頭，開啟精拋藥液2蠕動泵，待精拋藥液2流出時，開啟拋光機按鈕完成精拋，其中，精拋光機頭轉速40-80轉/min，拋光機定盤轉速50-90轉/min，精拋藥液2的出液速度為500-600ml/min，精拋時間為8-15分鐘；

步驟四：將卡塞放置在溢流高純水的整理箱內，精拋結束，取下陶瓷盤、并用花灑沖水10-15秒，再用取片器取下并吸住晶片、并用花灑沖洗10-15秒，然后將晶片插入卡塞，待陶瓷盤上晶片全部取下，把帶有晶片的卡塞放入甩干機，甩干。

6.如權利要求5所述的磷化銦晶片的拋光方法，其特征在于：步驟一中，陶瓷盤平整度不大于2μm；防酸無蠟墊采用聚氨酯發泡制造，平整度不大于10μm。

7.如權利要求5或6所述的磷化銦晶片的拋光方法，其特征在于：步驟二中，粗拋使用瑞德X62-360-銅型拋光機，蠕動泵型號：BT600L型，泵頭轉速0-500轉可調。

8.如權利要求5或6所述的磷化銦晶片的拋光方法，其特征在于：步驟三中，精拋采用AM-ADL810單面拋光機，蠕動泵型號：BT600L型，泵頭轉速0-500轉可調。

9.如權利要求5或6所述的磷化銦晶片的拋光方法，其特征在于：步驟四中，甩干機采用CXS-2150型的甩干機，甩干時，先沖洗、再氮氣烘干，沖洗水壓0.2-0.3kg/cm2，沖洗轉速600±50轉/分鐘，沖洗時間為100±10秒；氮氣烘干溫度30-40℃，烘干時間300±10秒，烘干轉速1500±50轉。