[發(fā)明專利]一種鈣鈦礦太陽電池組件的制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202310075067.0 | 申請日: | 2023-02-07 |
| 公開(公告)號: | CN116096108A | 公開(公告)日: | 2023-05-09 |
| 發(fā)明(設計)人: | 蘇維燕;初文靜;林金錫;林金漢 | 申請(專利權)人: | 常州亞瑪頓股份有限公司 |
| 主分類號: | H10K30/50 | 分類號: | H10K30/50;H10K71/00;H10K71/10;H10K71/40 |
| 代理公司: | 常州佰業(yè)騰飛專利代理事務所(普通合伙) 32231 | 代理人: | 馬曉敏 |
| 地址: | 213021 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 鈣鈦礦 太陽電池 組件 制備 方法 | ||
1.一種鈣鈦礦太陽電池組件的制備方法,其特征在于,該方法包括如下步驟:
S1、提供透明襯底(1),將所述透明襯底(1)清洗干凈,備用;
S2、在所述的透明襯底(1)上鍍透明導電層(1-1),然后對所述透明導電層(1-1)進行p1道劃線,形成若干p1凹槽通道(2);所述的p1凹槽通道(2)將所述的透明導電層(1-1)分隔成若干段;
S3、在所述的透明導電層(1-1)上放置一體式掩膜板,然后真空鍍膜,在若干段所述的透明導電層(1-1)上分別鍍設形成空穴傳輸層(1-2);其中:所述的一體式掩膜板包括A區(qū)和B區(qū);
S4、將所述的空穴傳輸層(1-2)退火/干燥后,利用真空鍍膜工藝在所述的空穴傳輸層(1-2)上鍍設鈣鈦礦吸收層(1-3);
S5、將所述的鈣鈦礦吸收層(1-3)退火/干燥后,在所述鈣鈦礦吸收層(1-3)上鍍設電子傳輸層(1-4);
S6、將所述的電子傳輸層(1-4)退火/干燥后,取下所述一體式掩膜板的A區(qū),形成p2凹槽通道(3);
S7、利用所述一體式掩膜板的B區(qū),在所述的電子傳輸層(1-4)上形成電連接層(1-5)和用于子電池分隔的p3凹槽通道(4);
S8、將所述電連接層(1-5)退火/干燥后,取下所述一體式掩膜板的B區(qū),然后進行p4道清邊處理,在所述電連接層(1-5)的兩端引線形成電回路,然后鋪設封裝材料進行層壓,形成子電池串聯(lián)的鈣鈦礦太陽能電池組件。
2.根據權利要求1所述的一種鈣鈦礦太陽電池組件的制備方法,其特征在于,步驟S1中所述的透明襯底(1)的材質為透明玻璃或柔性襯底材料。
3.根據權利要求1所述的一種鈣鈦礦太陽電池組件的制備方法,其特征在于,步驟S2中所述的劃線采用激光劃線或機械劃線,且所述的p1凹槽通道(2)的寬度為30-50nm;所述的透明導電層(1-1)的厚度為75-85nm;
所述的透明導電層(1-1)的材質選自銦錫氧化物、銦鋅氧化物、鋁摻雜氧化鋅或摻氟錫氧化物中的一種。
4.根據權利要求1所述的一種鈣鈦礦太陽電池組件的制備方法,其特征在于,步驟S3中所述的空穴傳輸層(1-2)的厚度為25-35nm;所述空穴傳輸層(1-2)的材質為NiOx或MoO3氧化物;
所述的空穴傳輸層(1-2)與所述透明導電層(1-1)的寬度比值為0.8-0.9。
5.根據權利要求1所述的一種鈣鈦礦太陽電池組件的制備方法,其特征在于,步驟S4中真空鍍膜的溫度為90-110℃;所述鈣鈦礦吸收層(1-3)的厚度為450-550nm;
其中:鈣鈦礦的化學式表示為ABX3;A表示Cs+、CH3NH3+和HN?CH(NH2)2+中的一種正離子,B表示Pb2+、Sn2+中的一種金屬離子,X表示Cl-、Br-和I-中的一種離子。
6.根據權利要求1所述的一種鈣鈦礦太陽電池組件的制備方法,其特征在于,步驟S5中所述的電子傳輸層(1-4)的材質選自富勒烯、富勒烯衍生物、TiO2或SnO2中的一種。
7.根據權利要求1所述的一種鈣鈦礦太陽電池組件的制備方法,其特征在于,步驟S6中所述的p2凹槽通道(3)的寬度為80-100nm。
8.根據權利要求1所述的一種鈣鈦礦太陽電池組件的制備方法,其特征在于,步驟S7中所述的電連接層(1-5)的材質選自于金、銀、鋁或金屬氧化物ZnO、MoO中的一種。
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