[發(fā)明專利]一種磁控濺射真空鍍膜機(jī)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202310053611.1
• 申請日: 2023-02-03
• 公開（公告）號: CN116288198A
• 公開（公告）日: 2023-06-23
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 戴建新;戴科晨
• 申請（專利權(quán)）人: 常熟市虞華真空設(shè)備科技有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/50
• 代理公司: 南京蘇高專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 32204
• 代理人: 張俊范

本發(fā)明公開了一種磁控濺射真空鍍膜機(jī)，包括真空室蓋、真空室腔體、工件架組件和磁場裝置，真空室腔體頂部開口，真空室蓋蓋合于真空室腔體的頂部，真空室腔體的底面設(shè)有與真空抽氣系統(tǒng)連接的抽氣道，抽氣道內(nèi)設(shè)有靶材旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，靶材旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的周側(cè)面設(shè)有若干靶材安裝位，真空室腔體內(nèi)位于接口位置設(shè)有伸縮擋板，另設(shè)有燈絲固定架和工件架電連接點(diǎn)，工件架組件包括頂部屏蔽板和工件架，工件架包括本體和連接耳，連接耳兩端固定連接于本體，連接耳與頂部屏蔽板固定連接并絕緣，頂部屏蔽板由真空室腔體支撐，工件架電連接點(diǎn)與連接耳接觸并電連接，磁場裝置設(shè)置在真空室腔體外，其磁場橫穿真空室腔體。本發(fā)明結(jié)構(gòu)緊湊，可提高鍍膜效率。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種真空鍍膜機(jī)，特別是一種磁控濺射真空鍍膜機(jī)。

背景技術(shù)

磁控濺射真空鍍膜機(jī)主要用于陰極表面的等離子刻蝕清洗和鍍膜。濺射鍍膜的基本過程是燈絲作為陰極用來發(fā)射電子，陽極加上正電位可以實(shí)現(xiàn)自持輝光放電。靶和基片分別置于等離子體兩端，在靶上加負(fù)高壓，基片接地。由于靶電位相對于等離子體為負(fù)高壓，因此在靶附近形成暗區(qū)，等離子體中離子經(jīng)過暗區(qū)加速后轟擊靶表面進(jìn)行濺射。

在上述過程中，電子很容易從輝光區(qū)逸出并在容器壁上復(fù)合而被消耗，因此利用磁場來改變電子的運(yùn)動軌跡，將它較長時間地約束在輝光區(qū)內(nèi)，減少電子的散失和消耗，提高電子與氣體分子的碰撞幾率和離化效率。

現(xiàn)有技術(shù)中，多靶材的濺射通常是在真空室內(nèi)設(shè)置多個靶材安裝位，再設(shè)置對應(yīng)的擋板機(jī)構(gòu)將不需要處于工作狀態(tài)的靶材進(jìn)行遮蔽，為了考慮到鍍膜在工件上的均勻性，工件架相比于靶材安裝位尺寸設(shè)計較大，且有時會設(shè)置為可旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)，再加上需要設(shè)置磁場裝置，使得真空室整體上體型較大，抽真空時間較長，鍍膜區(qū)域空間大，靶材利用率降低，故不適于少批量小工件的鍍膜試驗(yàn)使用。

發(fā)明內(nèi)容

針對上述現(xiàn)有技術(shù)缺陷，本發(fā)明的任務(wù)在于提供一種磁控濺射真空鍍膜機(jī)，使鍍膜機(jī)結(jié)構(gòu)緊湊，減小真空室體積，提高操作效率。

本發(fā)明技術(shù)方案如下：一種磁控濺射真空鍍膜機(jī)，包括真空室蓋、真空室腔體、工件架組件和磁場裝置，所述真空室腔體頂部開口，所述真空室蓋蓋合于所述真空室腔體的頂部，所述真空室腔體的底面設(shè)有與真空抽氣系統(tǒng)連接的抽氣道，所述抽氣道內(nèi)設(shè)有靶材旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，所述靶材旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的周側(cè)面設(shè)有若干靶材安裝位，所述靶材旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)轉(zhuǎn)動時使所述靶材安裝位中的一個對準(zhǔn)所述抽氣道與所述底面的接口，所述真空室腔體內(nèi)位于所述接口位置設(shè)有用于開閉所述接口的伸縮擋板，所述真空室腔體內(nèi)設(shè)有燈絲固定架和工件架電連接點(diǎn)，所述燈絲固定架上固定連接有燈絲，所述工件架組件包括頂部屏蔽板和工件架，所述工件架包括本體和連接耳，所述連接耳兩端固定連接于所述本體，所述連接耳與所述頂部屏蔽板固定連接并絕緣，所述頂部屏蔽板由所述真空室腔體支撐使所述工件架的本體置于所述靶材旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的上方，所述工件架電連接點(diǎn)與所述連接耳接觸并電連接，所述磁場裝置設(shè)置在所述真空室腔體外，所述磁場裝置的磁場橫穿所述真空室腔體。

進(jìn)一步地，為了便于人員操作擋板和靶材旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，減少驅(qū)動機(jī)構(gòu)對真空的污染，所述真空室腔體設(shè)有磁力耦合推桿和旋轉(zhuǎn)握把，所述磁力耦合推桿的桿頭與所述伸縮擋板連接，所述旋轉(zhuǎn)握把設(shè)置于所述真空室腔體外，所述旋轉(zhuǎn)握把通過聯(lián)軸機(jī)構(gòu)驅(qū)動所述靶材旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)轉(zhuǎn)動。

進(jìn)一步地，所述靶材旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的轉(zhuǎn)軸通過齒輪組與所述聯(lián)軸機(jī)構(gòu)的轉(zhuǎn)軸傳動。

進(jìn)一步地，所述工件架的本體的頂部向上穿出所述頂部屏蔽板。在打開真空室蓋后即可更換工件架內(nèi)的工件。

進(jìn)一步地，所述真空室腔體的頂部設(shè)有支撐凸緣，所述頂部屏蔽板的邊沿由所述支撐凸緣支撐，所述頂部屏蔽板的頂面設(shè)有把手。如此便于取放整個工件架組件，從而露出真空室腔體以及靶材旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，方便清理腔體及更換靶材。

進(jìn)一步地，所述頂部屏蔽板與所述連接耳之間設(shè)有絕緣墊片，所述絕緣墊片的外周圍繞設(shè)有屏蔽罩，所述屏蔽罩與所述絕緣墊片之間留有間隙。屏蔽罩的設(shè)置可以減少鍍膜時在絕緣墊片上的沉積而導(dǎo)致頂部屏蔽板與連接耳導(dǎo)通，可延長工件架組件的使用時間。