[發明專利]一種磁控濺射真空鍍膜機

在審

• 申請號: 202310053611.1
• 申請日: 2023-02-03
• 公開（公告）號: CN116288198A
• 公開（公告）日: 2023-06-23
• 發明（設計）人: 戴建新;戴科晨
• 申請（專利權）人: 常熟市虞華真空設備科技有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/50
• 代理公司: 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙) 32204
• 代理人: 張俊范

1.一種磁控濺射真空鍍膜機，其特征在于，包括真空室蓋、真空室腔體、工件架組件和磁場裝置，所述真空室腔體頂部開口，所述真空室蓋蓋合于所述真空室腔體的頂部，所述真空室腔體的底面設有與真空抽氣系統連接的抽氣道，所述抽氣道內設有靶材旋轉機構，所述靶材旋轉機構的周側面設有若干靶材安裝位，所述靶材旋轉機構轉動時使所述靶材安裝位中的一個對準所述抽氣道與所述底面的接口，所述真空室腔體內位于所述接口位置設有用于開閉所述接口的伸縮擋板，所述真空室腔體內設有燈絲固定架和工件架電連接點，所述燈絲固定架上固定連接有燈絲，所述工件架組件包括頂部屏蔽板和工件架，所述工件架包括本體和連接耳，所述連接耳兩端固定連接于所述本體，所述連接耳與所述頂部屏蔽板固定連接并絕緣，所述頂部屏蔽板由所述真空室腔體支撐使所述工件架的本體置于所述靶材旋轉機構的上方，所述工件架電連接點與所述連接耳接觸并電連接，所述磁場裝置設置在所述真空室腔體外，所述磁場裝置的磁場橫穿所述真空室腔體。

2.根據權利要求1所述的磁控濺射真空鍍膜機，其特征在于，所述真空室腔體設有磁力耦合推桿和旋轉握把，所述磁力耦合推桿的桿頭與所述伸縮擋板連接，所述旋轉握把設置于所述真空室腔體外，所述旋轉握把通過聯軸機構驅動所述靶材旋轉機構轉動。

3.根據權利要求2所述的磁控濺射真空鍍膜機，其特征在于，所述靶材旋轉機構的轉軸通過齒輪組與所述聯軸機構的轉軸傳動。

4.根據權利要求1所述的磁控濺射真空鍍膜機，其特征在于，所述工件架的本體的頂部向上穿出所述頂部屏蔽板。

5.根據權利要求1所述的磁控濺射真空鍍膜機，其特征在于，所述真空室腔體的頂部設有支撐凸緣，所述頂部屏蔽板的邊沿由所述支撐凸緣支撐，所述頂部屏蔽板的頂面設有把手。

6.根據權利要求1所述的磁控濺射真空鍍膜機，其特征在于，所述頂部屏蔽板與所述連接耳之間設有絕緣墊片，所述絕緣墊片的外周圍繞設有屏蔽罩，所述屏蔽罩與所述絕緣墊片之間留有間隙。

7.根據權利要求1所述的磁控濺射真空鍍膜機，其特征在于，所述燈絲固定架成對設置并位于所述接口的兩側，所述燈絲與所述真空室腔體的側壁之間設有左右屏蔽板，所述頂部屏蔽板上位于所述工件架的本體的前后兩側設有縱向的前后屏蔽板。

8.根據權利要求1所述的磁控濺射真空鍍膜機，其特征在于，所述真空室蓋和所述真空室腔體的壁面均為中空結構并設有進出水口。在真空室蓋和真空室腔體上形成水套結構，利于鍍膜空間的散熱。