[發(fā)明專利]一種兩軸四框架伺服平臺

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202310026080.7
• 申請日: 2023-01-09
• 公開（公告）號: CN115930060A
• 公開（公告）日: 2023-04-07
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 黃麟;鄒書衡;王隱;周鵬
• 申請（專利權(quán)）人: 武漢恒新動力科技有限公司
• 主分類號: F16M11/12
• 分類號: F16M11/12;F16M11/18;F16M11/04;B64U20/80
• 代理公司: 湖北武漢永嘉專利代理有限公司 42102
• 代理人: 黃帥

本發(fā)明公開了一種兩軸四框架伺服平臺，包括外框方位軸系、外框俯仰軸系和內(nèi)框架軸系；在保留常規(guī)兩軸四框架高穩(wěn)定性和沒有過頂問題這兩個優(yōu)點的基礎(chǔ)上，大幅度減小了設(shè)備尺寸，外包絡(luò)更利于氣動優(yōu)化，亦更利于拓寬應(yīng)用型譜，同時層疊式的裝配形式更方便調(diào)校；內(nèi)框架采用平移副直線作動，唯一映射負(fù)載在承載平面偏航和俯仰運動，同時角度信息轉(zhuǎn)化為長度信息，相當(dāng)于不等比例的放大，尺寸進(jìn)一步細(xì)分，推進(jìn)力亦有提升空間，系統(tǒng)精度和動態(tài)性能大幅提升；內(nèi)框架三反饋閉環(huán)控制，進(jìn)一步提高內(nèi)框架系統(tǒng)運行精度和穩(wěn)定性。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于光電跟蹤穩(wěn)定平臺領(lǐng)域，具體涉及一種兩軸四框架伺服平臺。

背景技術(shù)

兩軸四框架伺服平臺通常作為機(jī)載光電跟蹤穩(wěn)定平臺使用，主要裝備于無人機(jī)，用于完成軍事偵察或跟瞄打擊。載機(jī)環(huán)境振動頻率范圍大，外部大氣湍流、散射等外部環(huán)境干擾對機(jī)載光電跟蹤穩(wěn)定平臺的跟瞄有著直接或間接的影響。由于機(jī)載環(huán)境的特殊性，光電跟蹤穩(wěn)定平臺的優(yōu)化方向在于更輕的重量，更小的外尺寸，更好的抗干擾能力，更高的跟瞄精度以及更高的響應(yīng)頻率。

常規(guī)的兩軸四框架光電平臺結(jié)構(gòu)如圖1所示，包括基座1、外方位電機(jī)2、外方位A框架3、外俯仰電機(jī)4、外俯仰E框架5、內(nèi)方位電機(jī)6、內(nèi)方位a框架7、內(nèi)俯仰電機(jī)8、內(nèi)俯仰e框架9和穩(wěn)定負(fù)載10；其中，外框架(外方位、外俯仰)在協(xié)同作動中起隨動作用，內(nèi)框架(內(nèi)方位、內(nèi)俯仰)高動態(tài)高精度起到主動跟蹤作用以及對來自載機(jī)的振動、外部大氣的湍流擾動及摩擦力矩進(jìn)行角運動隔離補(bǔ)償。常規(guī)的兩軸四框架光電平臺，解決了兩軸兩框架(方位、俯仰)無法做到的高穩(wěn)定精度以及過頂?shù)膯栴}(過頂問題：采用二軸即方位軸和俯仰軸的機(jī)械結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定跟蹤平臺，當(dāng)跟蹤目標(biāo)仰角過大時，方位角的變化率也隨之增大，方位軸的誤差將會變得很大，嚴(yán)重影響平臺的跟蹤精度，尤其當(dāng)目標(biāo)到達(dá)天頂時，方位角的變化率趨近無窮大，方位軸會失去作用，導(dǎo)致平臺失去跟蹤目標(biāo))，缺點在于兩軸四框架本質(zhì)上是兩套機(jī)構(gòu)，增加了設(shè)備的尺寸和重量，而且裝配工藝方面對同軸度、平行度和正交度要求極高，調(diào)校不便，擾動力矩較大，活動空間要求高。

國內(nèi)機(jī)載光電跟蹤穩(wěn)定平臺技術(shù)參數(shù)：

國外機(jī)載光電跟蹤穩(wěn)定平臺技術(shù)參數(shù)：