[實用新型]一種用于化學機械拋光的彈性膜和承載頭

有效

• 申請號: 202223573470.6
• 申請日: 2022-12-30
• 公開（公告）號: CN218891684U
• 公開（公告）日: 2023-04-21
• 發明（設計）人: 趙德文;溫世乾;孟松林;王宇
• 申請（專利權）人: 華海清科股份有限公司
• 主分類號: B24B37/32
• 分類號: B24B37/32;B24B37/34
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型公開了一種用于化學機械拋光的彈性膜和承載頭，所述彈性膜包括：圓形的底板部；外周壁，其包括直立部、褶皺部和第一水平延伸部，所述直立部沿所述底板部的周緣向上豎直延伸而成，所述褶皺部位于所述直立部之上，所述第一水平延伸部自所述褶皺部頂端朝向內側水平延伸而成；以及至少一個內周壁，其同心設置于所述外周壁的內側；其中，所述褶皺部為開口向內的梯形折邊。

技術領域

本實用新型屬于化學機械拋光技術領域，具體而言，涉及一種用于化學機械拋光的彈性膜和承載頭。

背景技術

化學機械拋光(Chemical?Mechanical?Polishing,CMP)是一種全局平坦化的超精密表面加工技術，是晶圓制造工序中的核心制程之一。拋光過程中，通常將晶圓吸合于承載頭的底面，承載頭在驅動組件的致動下與拋光墊同向旋轉并給予晶圓向下的載荷；拋光液供給于拋光墊的上表面并分布在晶圓與拋光墊之間，使得晶圓在化學和機械的共同作用下完成晶圓的化學機械拋光。

現有的承載頭配置多腔室彈性膜，以形成多個作用于晶圓不同區域的可調壓的腔室。現有彈性膜的邊緣部分設置的較為復雜，以增強晶圓邊緣區域的壓力調控能力。

但隨著制程節點的下移，現有的承載頭無法滿足拋光均勻性的要求；并且，彈性膜為易損易耗品，其可能會與拋光墊、保持環等部件相互耦合，增加拋光壓力調控的難度。因此，需要優化彈性膜的結構，提升承載頭的適用功能，保證晶圓拋光的穩定性。

實用新型內容

本實用新型實施例提供了一種用于化學機械拋光的彈性膜和承載頭，旨在至少解決現有技術中存在的技術問題之一。

本實用新型實施例的第一方面提供了一種用于化學機械拋光的彈性膜，包括：

圓形的底板部；

外周壁，其包括直立部、褶皺部和第一水平延伸部，所述直立部沿所述底板部的周緣向上豎直延伸而成，所述褶皺部位于所述直立部之上，所述第一水平延伸部自所述褶皺部頂端朝向內側水平延伸而成；

以及至少一個內周壁，其同心設置于所述外周壁的內側；

其中，所述褶皺部為開口向內的梯形折邊。

在一些實施例中，所述褶皺部包括第一斜板、連接板和第二斜板，所述第一斜板自所述直立部朝外向上延伸，所述連接板自所述第一斜板的頂端豎向延伸，所述第二斜板自所述連接板的頂端朝內向上延伸并與第一水平延伸部連接。

在一些實施例中，所述第二斜板與第一水平延伸部的連接處位于所述直立部的內側。

在一些實施例中，所述連接板的厚度小于或等于所述第一斜板及第二斜板的厚度。

在一些實施例中，所述連接板的外沿位于所述直立部的外側。

在一些實施例中，所述直立部的外周面開設有環狀的凹槽，所述連接板的外沿與所述凹槽的內周面對齊。

在一些實施例中，所述直立部的頂端設置有銜接部，所述銜接部沿所述直立部的內沿向上延伸設置，所述褶皺部自所述銜接部的頂端折邊而成。

在一些實施例中，所述銜接部的厚度大于所述第一斜板或第二斜板的厚度。

在一些實施例中，所述第二斜板與所述第一水平延伸部的連接處位于所述銜接部的內側。

本實用新型實施例的第二方面提供了一種用于化學機械拋光的彈性膜，其包括：

圓形的底板部；

外周壁，其包括直立部、褶皺部和第一水平延伸部，所述直立部沿所述底板部的周緣向上豎直延伸而成，所述褶皺部位于所述直立部之上，所述第一水平延伸部自所述褶皺部頂端朝向內側水平延伸而成；

以及至少一個內周壁，其同心設置于所述外周壁的內側；