[實(shí)用新型]一種電容鋁箔化成裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202223434428.6
• 申請(qǐng)日: 2022-12-21
• 公開（公告）號(hào): CN219385363U
• 公開（公告）日: 2023-07-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 黃建江;石俊威
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 立敦電子科技（惠州）有限公司
• 主分類號(hào): C25D11/16
• 分類號(hào): C25D11/16
• 代理公司: 廣東知產(chǎn)律師事務(wù)所 44838
• 代理人: 林少波

本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N電容鋁箔化成裝置，本申請(qǐng)?zhí)峁┧鲭娙蒌X箔化成裝置包括化成槽、輸送輥組以及前處理槽，所述輸送輥組承托所述鋁箔，所述前處理槽設(shè)置于所述化成槽的前端，所述化成槽內(nèi)容納有化成液，所述前處理槽內(nèi)容納有清洗水，所述鋁箔在輸送輥組的承托下依次與所述前處理槽的清洗水及所述化成槽的化成液相接觸；所述前處理槽外部設(shè)置有清洗管路，所述前處理槽的清洗水由所述前處理槽流出后行經(jīng)所述清洗管路再進(jìn)入所述前處理槽以形成循環(huán)水路。本申請(qǐng)?zhí)峁┑碾娙蒌X箔化成裝置通過在化成槽前端設(shè)置前處理槽，對(duì)鋁箔進(jìn)行化成前的清洗處理，可以清除鋁箔箔面所附著的雜質(zhì)，有效降低鋁箔化成時(shí)的箔面瑕疵，提升鋁箔化成質(zhì)量。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請(qǐng)涉及電解電容器鋁箔生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種電容鋁箔化成裝置。

背景技術(shù)

由于電子產(chǎn)業(yè)的迅速發(fā)展，尤其是通信產(chǎn)品、計(jì)算機(jī)、家電等整機(jī)市場的急劇擴(kuò)大，對(duì)關(guān)鍵元器件鋁電解電容器的需求不斷提升。而作為電解電容器制造的關(guān)鍵原材料，電子產(chǎn)業(yè)的迅速發(fā)展也對(duì)化成鋁箔產(chǎn)業(yè)的發(fā)展起了推波助瀾的作用。鋁電解電容器在傳統(tǒng)消費(fèi)電子領(lǐng)域穩(wěn)步增長的同時(shí)，其它運(yùn)用領(lǐng)域隨著結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)型與技術(shù)進(jìn)步，在節(jié)能燈、變頻器、新能源、車載控制等諸多新興領(lǐng)域得以拓展。

同時(shí)由于鋁電解電容器小型化、高性能化、片式化的要求越來越迫切，對(duì)化成鋁箔的制造工藝提出了更高的技術(shù)和質(zhì)量要求。尤其是目前汽車行業(yè)對(duì)于高容電解電容的要求越來越高，對(duì)高容電解電容化成鋁箔的質(zhì)量要求也相應(yīng)提升。

但目前高容堆疊用鋁箔的生產(chǎn)技術(shù)過程容易發(fā)生化成前置易斷箔、箔面燒傷等問題，難以保證穩(wěn)定的品質(zhì)要求。

申請(qǐng)人在技術(shù)研發(fā)過程中發(fā)現(xiàn)，現(xiàn)有的鋁箔化成裝置容易發(fā)生化成液濃度不穩(wěn)定、箔面附著雜質(zhì)顆粒等問題，從而導(dǎo)致化成鋁箔產(chǎn)品品質(zhì)受到不良影響，質(zhì)量難以穩(wěn)定。

因此，如何提高鋁箔化成質(zhì)量的穩(wěn)定性成為本領(lǐng)域的重要研究方向。

實(shí)用新型內(nèi)容

為了克服上述現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N電容鋁箔化成裝置，以減少鋁箔箔面雜質(zhì)附著、維持化成液的穩(wěn)定性，從而產(chǎn)出高品質(zhì)、高穩(wěn)定性的化成鋁箔產(chǎn)品。

本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N電容鋁箔化成裝置，用于對(duì)鋁箔進(jìn)行化成處理，所述電容鋁箔化成裝置包括化成槽、輸送輥組以及前處理槽，所述輸送輥組承托所述鋁箔，所述前處理槽設(shè)置于所述化成槽的前端，所述化成槽內(nèi)容納有化成液，所述前處理槽內(nèi)容納有清洗水，所述鋁箔在輸送輥組的承托下依次與所述前處理槽的清洗水及所述化成槽的化成液相接觸；

所述前處理槽外部設(shè)置有清洗管路，所述前處理槽的清洗水由所述前處理槽流出后行經(jīng)所述清洗管路再進(jìn)入所述前處理槽以形成循環(huán)水路。

在一種可選擇的實(shí)現(xiàn)方式中，所述前處理槽中間設(shè)置一隔板，所述前處理槽通過所述隔板以形成初級(jí)水槽和次級(jí)水槽，所述初級(jí)水槽和所述次級(jí)水槽均容納有所述清洗水，所述鋁箔與所述初級(jí)水槽內(nèi)的清洗水相接觸；所述次級(jí)水槽的側(cè)壁設(shè)置有一溢流槽，所述溢流槽設(shè)置有貫穿所述次級(jí)水槽側(cè)壁的溢流口，所述溢流口與所述清洗管路連通；所述隔板的上邊沿高度低于所述前處理槽的上邊沿高度，所述溢流槽的上邊沿高度低于所述隔板的上邊沿高度，所述前處理槽內(nèi)的清洗水形成兩級(jí)高差水位。

在一種可選擇的實(shí)現(xiàn)方式中，所述清洗管路包括溢流管、排水支管、回流管、循環(huán)管、循環(huán)噴管及循環(huán)泵，所述溢流管一端連通至所述溢流口，所述排水支管一端連通至所述前處理槽的槽底，所述溢流管和所述排水支管的另一端均連通至所述回流管，所述回流管連通至所述循環(huán)泵的進(jìn)水端，所述循環(huán)管一端連通至所述循環(huán)泵的出水端，所述循環(huán)管的另一端連通至所述循環(huán)噴管，所述循環(huán)噴管設(shè)置有若干噴水孔，所述噴水孔的噴灑方向朝向所述鋁箔。

根據(jù)前述實(shí)現(xiàn)方式所提供的技術(shù)方案，所述電容鋁箔化成裝置至少具有以下有益效果：

(1)通過在化成槽前端設(shè)置前處理槽，對(duì)鋁箔進(jìn)行化成前的清洗處理，可以清除鋁箔箔面所附著的雜質(zhì)，有效降低鋁箔化成時(shí)的箔面瑕疵，提升鋁箔化成質(zhì)量。