[實用新型]一種電容鋁箔化成裝置

有效

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• 申請日: 2022-12-21
• 公開（公告）號: CN219385363U
• 公開（公告）日: 2023-07-21
• 發(fā)明（設計）人: 黃建江;石俊威
• 申請（專利權）人: 立敦電子科技（惠州）有限公司
• 主分類號: C25D11/16
• 分類號: C25D11/16
• 代理公司: 廣東知產律師事務所 44838
• 代理人: 林少波

1.一種電容鋁箔化成裝置，用于對鋁箔進行化成處理，其特征在于：所述電容鋁箔化成裝置包括化成槽、輸送輥組以及前處理槽，所述輸送輥組承托所述鋁箔，所述前處理槽設置于所述化成槽的前端，所述化成槽內容納有化成液，所述前處理槽內容納有清洗水，所述鋁箔在輸送輥組的承托下依次與所述前處理槽的清洗水及所述化成槽的化成液相接觸；

所述前處理槽外部設置有清洗管路，所述前處理槽的清洗水由所述前處理槽流出后行經所述清洗管路再進入所述前處理槽以形成循環(huán)水路。

2.根據權利要求1所述的電容鋁箔化成裝置，其特征在于：所述前處理槽中間設置一隔板，所述前處理槽通過所述隔板以形成初級水槽和次級水槽，所述初級水槽和所述次級水槽均容納有所述清洗水，所述鋁箔與所述初級水槽內的清洗水相接觸；

所述次級水槽的側壁設置有一溢流槽，所述溢流槽設置有貫穿所述次級水槽側壁的溢流口，所述溢流口與所述清洗管路連通；所述隔板的上邊沿高度低于所述前處理槽的上邊沿高度，所述溢流槽的上邊沿高度低于所述隔板的上邊沿高度，所述前處理槽內的清洗水形成兩級高差水位。

3.根據權利要求2所述的電容鋁箔化成裝置，其特征在于：所述清洗管路包括溢流管、排水支管、回流管、循環(huán)管、循環(huán)噴管及循環(huán)泵，所述溢流管一端連通至所述溢流口，所述排水支管一端連通至所述前處理槽的槽底，所述溢流管和所述排水支管的另一端均連通至所述回流管，所述回流管連通至所述循環(huán)泵的進水端，所述循環(huán)管一端連通至所述循環(huán)泵的出水端，所述循環(huán)管的另一端連通至所述循環(huán)噴管，所述循環(huán)噴管設置有若干噴水孔，所述噴水孔的噴灑方向朝向所述鋁箔。

4.根據權利要求3所述的電容鋁箔化成裝置，其特征在于：所述排水支管包括第一排水支管和第二排水支管，所述初級水槽設置有第一排水口，所述次級水槽設置有第二排水口，所述第一排水支管一端連通至所述第一排水口，所述第二排水支管的一端連通至所述第二排水口，所述第一排水支管和所述第二排水支管的另一端均連通至所述回流管。

5.根據權利要求4所述的電容鋁箔化成裝置，其特征在于：所述清洗管路還包括一排空管，所述排空管一端與所述回流管連通，所述排空管的另一端出口連通至外部環(huán)境。

6.根據權利要求5所述的電容鋁箔化成裝置，其特征在于：所述清洗管路還包括溢流閥、第一排水閥、第二排水閥、第三排水閥和循環(huán)閥，所述溢流閥設置于所述溢流管且位于所述溢流口與所述回流管之間，所述第一排水閥設置于所述第一排水支管且位于所述第一排水口與所述回流管之間，所述第二排水閥設置于所述第二排水支管且位于所述第二排水口與所述回流管之間，所述第三排水閥設置于排空管且位于所述回流管及與外部連通的出口之間，所述循環(huán)閥設置于回流管且靠近所述循環(huán)泵的進水端。

7.根據權利要求6所述的電容鋁箔化成裝置，其特征在于：所述輸送輥組包括第一轉輥和第二轉輥，所述第一轉輥設置于所述初級水槽的上方且部分浸沒于所述清洗水，所述第二轉輥設置于所述次級水槽的上方且部分浸沒于所述清洗水，所述鋁箔貼合所述第一轉輥的下部并與所述初級水槽內部的清洗水相接觸，所述鋁箔貼合所述第二轉輥的上部并遠離所述次級水槽內部的清洗水。

8.根據權利要求7所述的電容鋁箔化成裝置，其特征在于：所述輸送輥組還包括前輥、中間輥、化成轉輥及后輥，所述前輥、所述第一轉輥、所述第二轉輥、所述中間輥、所述化成轉輥及所述后輥依次排布；

所述前輥設置于所述初級水槽的前上方，所述中間設置于所述前處理槽與所述化成槽之間且位于所述化成槽的前上方，所述化成轉輥設置所述化成槽內部并浸沒于所述化成液，所述后輥設置于所述化成槽的后上方；所述中間輥、所述化成轉輥及所述后輥承托所述鋁箔以使所述鋁箔在所述化成槽處形成類“V”形移動路徑。

9.根據權利要求8所述的電容鋁箔化成裝置，其特征在于：所述前輥、所述第一轉輥、所述第二轉輥、所述中間輥、所述化成轉輥及所述后輥的轉動軸線方向與所述鋁箔的行進方向相垂直。

10.根據權利要求1所述的電容鋁箔化成裝置，其特征在于：所述電容鋁箔化成裝置還包括補水管，所述補水管設置于所述前處理槽的上方，所述補水管設置有若干出水孔，所述出水孔的出口朝向所述鋁箔。