[實用新型]一種用于磁控濺射系統中靶材遮蔽的穹形檔板裝置

有效

• 申請號: 202223404291.X
• 申請日: 2022-12-19
• 公開（公告）號: CN219059106U
• 公開（公告）日: 2023-05-23
• 發明（設計）人: 楊文超;韋尚潮;廖昭勝
• 申請（專利權）人: 安徽外延科技有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 上海恩凡知識產權代理有限公司 31459
• 代理人: 汪賀玲

本實用新型涉及一種磁控濺射系統中用于遮蔽靶材的穹形檔板裝置，位于真空內部的靶座，靶座的內側設置靶材，靶材的前端設置擋板；位于真空外部設置的驅動結構，真空內部設置有與擋板連接的傳動結構；真空外部設置有與驅動結構連接的旋轉結構，旋轉結構的前端延伸至真空內部與傳動結構相接；旋轉結構包括前端平置的旋轉導入器，旋轉導入器由驅動結構驅動轉動；所述的傳動結構包括位于旋轉導入器前方的主動錐齒輪，以及位于靶座上的固定座，固定座上垂直旋轉導入器前端設置有旋轉軸，旋轉軸上設置從動錐齒輪，主動錐齒輪、從動錐齒輪嚙合構成錐齒輪組，旋轉軸上設置連接桿，擋板位于連接桿的前端，從動錐齒輪的轉動帶動連接桿前端的擋板的開合。

技術領域

本實用新型涉及磁控濺射系統，具體涉及一種磁控濺射系統中用于遮蔽靶材的穹形檔板裝置。

背景技術

磁控濺射是一種應用領域極廣泛的真空鍍膜技術，比如光學薄膜、微電子、新能源等。在磁控濺射系統中，多數使用多靶頭(磁控)濺射系統，即在一個系統中同時安裝多個靶材，這樣可以實現一個腔體多種材料的制備或者共濺射，同時減少了更換靶材的時間成本，提高效率。但是，多靶材同時存在的設備腔體中，會存在相互干擾，會造成靶材相互污染，影響膜層質量。即便是單靶材系統中，(設備)腔體氣氛控制不好，也會造成靶材中毒。為有效緩解此類情況，磁控濺射靶材前端一般都會安裝可以開關的擋板，將靶材保護起來。但是現有的(平面)擋板由于結構問題檔板和靶之間存在間隙，無法很好的遮蔽靶材。

發明內容

本實用新型的目的在于提供一種磁控濺射系統中用于遮蔽靶材的穹形檔板裝置，解決背景技術中的問題，為了更高質量的膜層生長，采用本實用新型的結構可以更好的遮蔽靶材，實現在濺射系統中更全面的靶材保護。

為了實現以上目的，本實用新型采用的技術方案為：一種磁控濺射系統中用于遮蔽靶材的穹形檔板裝置，包括：位于真空內部的靶座，靶座的內側設置靶材，靶材的前端設置擋板；位于真空外部設置的驅動結構，真空內部設置有與擋板連接的傳動結構；真空外部設置有與驅動結構連接的旋轉結構，旋轉結構的前端延伸至真空內部與傳動結構相接；

所述的旋轉結構包括前端平置的旋轉導入器，所述的旋轉導入器由驅動結構驅動轉動；所述的傳動結構包括位于旋轉導入器前方的主動錐齒輪，以及位于靶座上的固定座，固定座上垂直旋轉導入器前端設置有旋轉軸，旋轉軸上設置從動錐齒輪，主動錐齒輪、從動錐齒輪嚙合構成錐齒輪組，旋轉軸上設置連接桿，所述的擋板位于連接桿的前端，從動錐齒輪的轉動帶動連接桿前端的擋板的開合。

進一步的，所述的擋板為穹形擋板；所述的連接桿上沿靶座的長度方向設置水平槽口，所述的旋轉軸沿水平槽口的槽長方向可移，所述的旋轉軸緊鎖于所述的水平槽口中。

再進一步的，固定座上位于連接桿一側設置硬限位塊。

進一步的，所述的傳動結構與旋轉結構之間設置可伸縮傳動結構，所述的可伸縮傳動結構包括與旋轉導入器前端鉸接的水平不動桿，水平不動桿中同軸插置有可伸縮傳動桿，所述的可伸縮傳動桿沿水平不動桿的桿長方向來回可移，所述的可伸縮傳動桿上設置限位其轉動的轉動限制塊，所述的主動錐齒輪設置于可伸縮傳動結構的可伸縮傳動桿的最前端。

再進一步的，所述的驅動結構的步進電機的轉動帶動旋轉結構的旋轉導入器轉動。

再進一步的，步進電機上設置位置限位器，所述的位置限位器包括步進電機的轉動軸上設置的觸發塊，觸發塊的兩側設置限位開關，觸發塊距離兩側的限位開關的行程與穹形擋板開合的行程對應。

本實用新型的技術效果在于：采用本實用新型的結構可以更好的遮蔽靶材，實現在濺射系統中更全面的靶材保護。

附圖說明

圖1為本實用新型的整體結構圖；

圖2為本實用新型的可伸縮傳動結構的結構圖；

圖3為本實用新型的(真空)內部的結構圖；