[實用新型]樣品承載結(jié)構(gòu)及真空系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202223395880.6 | 申請日: | 2022-12-16 |
| 公開(公告)號: | CN219079635U | 公開(公告)日: | 2023-05-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳飛;謝斌平;王天鄰 | 申請(專利權(quán))人: | 費勉儀器科技(南京)有限公司;費勉儀器科技(上海)有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/50 | 分類號: | C23C14/50;C23C14/24;C23C14/54 |
| 代理公司: | 上海國瓴律師事務(wù)所 31363 | 代理人: | 傅耀 |
| 地址: | 210000 江蘇省南*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 樣品 承載 結(jié)構(gòu) 真空 系統(tǒng) | ||
本公開提供了一種樣品承載結(jié)構(gòu)及真空系統(tǒng)。該樣品承載結(jié)構(gòu)包括:托盤,設(shè)置有多個工位,所述工位用于容納框架,所述框架用于收納多片樣品;固定件,用于將框架固定在所述工位上,所述固定件包括:基座;彈片,固定設(shè)置于所述基座上,用于在固定件固定所述框架時,與所述框架相抵靠。真空系統(tǒng)包括:真空腔;以及本公開提供的樣品承載結(jié)構(gòu),設(shè)置在所述真空腔內(nèi)。本公開提高了產(chǎn)能。
技術(shù)領(lǐng)域
本公開涉及真空設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種樣品承載結(jié)構(gòu)及真空系統(tǒng)。
背景技術(shù)
真空鍍膜設(shè)備是真空系統(tǒng)的一種,主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外等多種。在進(jìn)行真空鍍膜的過程中,通常會向真空腔中傳送樣品(例如晶圓、玻璃、巴條等),鍍膜形成于所述樣品中。
當(dāng)前的真空鍍膜設(shè)備中,每一次鍍膜所放置的樣品片數(shù)有限,從而影響了產(chǎn)能,不符合技術(shù)發(fā)展對工藝效率的要求。
實用新型內(nèi)容
本公開提供了一種樣品承載結(jié)構(gòu),包括:托盤,設(shè)置有多個工位,所述工位用于容納框架,所述框架(可以包括夾具、樣品架、樣品盒等等)用于收納多片樣品;固定件,用于將框架固定在所述工位上,所述固定件包括:基座;彈片,固定設(shè)置于所述基座上,用于在固定件固定所述框架時,與所述框架相抵靠。
一些實施例中,所述托盤是可旋轉(zhuǎn)托盤,包括中心區(qū)域和外圍區(qū)域,所述多個工位間隔排布在所述外圍區(qū)域;所述中心區(qū)域用于放置陪片。
一些實施例中,所述框架的側(cè)壁設(shè)置有滑槽;所述工位包括開設(shè)在所述托盤上的開口,所述開口的側(cè)壁設(shè)置有與所述滑槽結(jié)構(gòu)相匹配的導(dǎo)軌。
一些實施例中,所述框架的內(nèi)側(cè)壁設(shè)置有固定卡槽;所述開口的內(nèi)側(cè)壁設(shè)置有與所述固定卡槽相匹配的卡合凸起。
一些實施例中,所述彈片設(shè)置在所述基座的內(nèi)側(cè)面上,并沿所述基座的縱向延伸,所述基座在沿縱向的第一端和第二端分別設(shè)置有第一固定件和第二固定件。
一些實施例中,所述基座包括設(shè)置在在所述第一端處所述第一固定件外側(cè)的第一定位槽以及設(shè)置在所述第二端處所述第二固定件外側(cè)的第二定位槽;所述托盤還開設(shè)有與開口相連的容納槽,用于放置所述基座,所述容納槽的第一側(cè)壁上設(shè)置有與所述第一定位槽相對應(yīng)的第一定位凸起,所述容納槽與第一側(cè)壁相對的第二側(cè)壁上設(shè)置有與所述第二定位槽相對應(yīng)的第二定位凸起。
一些實施例中,所述基座包括設(shè)置在第一表面和/或第二表面上定位卡槽。
一些實施例中,所述托盤具有圓形結(jié)構(gòu),所述多個工位沿圓周方向均勻排布。
一些實施例中,所述托盤上開設(shè)有旋轉(zhuǎn)支架卡槽。
本公開還提供了一種真空系統(tǒng),包括:真空腔;以及本公開提供的樣品承載結(jié)構(gòu),設(shè)置在所述真空腔內(nèi)。
一些實施例中,還包括:旋轉(zhuǎn)支架,與所述托盤相連,用于帶動所述托盤旋轉(zhuǎn)。
一些實施例中,其特征在于,所述樣品承載結(jié)構(gòu)設(shè)置有陪片,所述真空系統(tǒng)還包括:在線監(jiān)測裝置,用于對所述陪片進(jìn)行監(jiān)測。
根據(jù)本公開一些實施例的樣品承載結(jié)構(gòu)及真空系統(tǒng)能夠帶來有益的技術(shù)效果。例如,本公開一些實施例的托盤,設(shè)置有多個工位,通過固定件的彈片與所述框架相抵靠,可以將框架固定在工位上,框架能夠容納多片樣品,這樣在真空系統(tǒng)進(jìn)行鍍膜或其他工藝時,使鍍膜均形成在各工位的樣品上,從而實現(xiàn)同時對多個框架中的多片樣品執(zhí)行同一工藝步驟,進(jìn)而提高了工藝效率,增大了產(chǎn)能。
根據(jù)本公開一些實施例的樣品承載結(jié)構(gòu)及真空系統(tǒng)能夠帶來有益的技術(shù)效果??梢酝ㄟ^使可旋轉(zhuǎn)托盤進(jìn)行旋轉(zhuǎn)(例如自驅(qū)動旋轉(zhuǎn)或它驅(qū)動旋轉(zhuǎn)),從而提高各工位框架中樣品的工藝均勻性。
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- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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