[實用新型]一種多層式濕化學處理設備有效
| 申請號： | 202223333869.7 | 申請日： | 2022-12-12 |
| 公開（公告）號： | CN219169077U | 公開（公告）日： | 2023-06-13 |
| 發明（設計）人： | 付金海;高志峰;吳晉;黃允文;劉二壯 | 申請（專利權）人： | 上海普達特半導體設備有限公司 |
| 主分類號： | B08B3/08 | 分類號： | B08B3/08;F26B21/00 |
| 代理公司： | 北京永新同創知識產權代理有限公司 11376 | 代理人： | 楊勝軍 |
| 地址： | 201210 上海市浦東新區中國（上海）*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 多層 化學 處理 設備 | ||
1.一種多層式濕化學處理設備，其特征在于，所述多層式濕化學處理設備至少包括第一清洗單元和第二清洗單元，其中，所述第一清洗單元通過上下疊置的方式布置在所述第二清洗單元之上，并且其中，所述第二清洗單元的頂部蓋板被構造為平面。
2.根據權利要求1所述的多層式濕化學處理設備，其特征在于，所述第一清洗單元和所述第二清洗單元包括共用的液體通道。
3.根據權利要求2所述的多層式濕化學處理設備，其特征在于，所述液體通道包括進液通道和排液通道。
4.根據權利要求1所述的多層式濕化學處理設備，其特征在于，所述第一清洗單元和所述第二清洗單元分別包括獨立的排氣通道。
5.根據權利要求1所述的多層式濕化學處理設備，其特征在于，所述多層式濕化學處理設備還包括第三清洗單元，其中，所述第二清洗單元通過上下疊置的方式布置在所述第三清洗單元之上，并且其中，所述第三清洗單元的頂部蓋板被構造為平面。
6.根據權利要求5所述的多層式濕化學處理設備，其特征在于，所述第一清洗單元、所述第二清洗單元以及所述第三清洗單元包括共用的液體通道。
7.根據權利要求5所述的多層式濕化學處理設備，其特征在于，所述第一清洗單元、所述第二清洗單元以及所述第三清洗單元分別包括獨立的排氣通道。
8.根據權利要求5所述的多層式濕化學處理設備，其特征在于，所述第二清洗單元的排氣通道和所述第三清洗單元的排氣通道位于所述第一清洗單元的排氣通道的同一側。
9.根據權利要求5所述的多層式濕化學處理設備，其特征在于，所述第二清洗單元的排氣通道和所述第三清洗單元的排氣通道分別位于所述第一清洗單元的排氣通道的不同側。
10.根據權利要求1所述的多層式濕化學處理設備，其特征在于，所述第一清洗單元和所述第二清洗單元分別包括接液盤。
11.根據權利要求10所述的多層式濕化學處理設備，其特征在于，所述接液盤的底部布置有漏液傳感器。
12.根據權利要求1所述的多層式濕化學處理設備，其特征在于，所述第一清洗單元和所述第二清洗單元分別包括傳動機構。
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