[實用新型]一種濺射真空電子束蒸鍍裝置有效
| 申請號: | 202223323342.6 | 申請日: | 2022-12-09 |
| 公開(公告)號: | CN218910493U | 公開(公告)日: | 2023-04-25 |
| 發明(設計)人: | 黃祥恩;談勇;屈顯波;蔣華 | 申請(專利權)人: | 桂林光隆科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/30 | 分類號: | C23C14/30;C23C14/02;C23C14/56;B01D46/10;B01D46/42 |
| 代理公司: | 桂林文必達專利代理事務所(特殊普通合伙) 45134 | 代理人: | 張學平 |
| 地址: | 541004 廣西壯族自治區桂林*** | 國省代碼: | 廣西;45 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 濺射 真空 電子束 裝置 | ||
本實用新型涉及鍍膜設備技術領域,具體涉及一種濺射真空電子束蒸鍍裝置,包括清潔室、蒸鍍室、鍍膜機構和過濾組件,過濾組件包括連接管、抱窟、濾網和安裝機構;濾網通過安裝機構安裝在連接管上,并將連接管安裝于進氣口的一側,通過使用抱窟將連接管在進氣口的一側,避免連接管在設備運轉時掉落,完成安裝后,將離化氣通過連接管放入清潔室內,通過濾網對離化氣進行過濾,通過對離化氣進行過濾,提高離化氣的清潔度,避免有雜質掉落在帶材上,從而解決在通過進氣口將離化氣放入清潔室內時,不能對離化氣進行過濾,使得離化氣內的雜質跟隨進入清潔室掉落在帶材上,影響帶材的鍍膜質量的問題。
技術領域
本實用新型涉及鍍膜設備技術領域,具體涉及一種濺射真空電子束蒸鍍裝置。
背景技術
在半導體工藝中,金屬薄膜是一種常見的工藝,而電子束蒸鍍和磁控濺射是金屬薄膜工藝的主流技術。
目前,現有技術(CN209144244U)公開了一種裝置,包括清潔室、蒸鍍室和鍍膜機構,清潔室具有進氣口和出氣口,蒸鍍室具有抽氣口,在對帶材進行鍍膜之前,通過出氣口和抽氣口,將蒸鍍室和清潔室內的空氣排出,再通過清潔室的進氣口將清潔離化氣通過進氣口放入清潔室內,對帶材進行清潔,在將帶材放入蒸鍍室內,啟動鍍膜機構將鍍膜材料融化蒸發后在帶材上進行鍍膜,通過清潔的帶材能夠提高鍍膜層的結合力,改善鍍膜層的應力。
但是采用上述方式,在通過進氣口將離化氣放入清潔室內時,不能對離化氣進行過濾,使得離化氣內的雜質跟隨進入清潔室掉落在帶材上,影響帶材的鍍膜質量。
實用新型內容
本實用新型的目的在于提供一種濺射真空電子束蒸鍍裝置,旨在解決在通過進氣口將離化氣放入清潔室內時,不能對離化氣進行過濾,使得離化氣內的雜質跟隨進入清潔室掉落在帶材上,影響帶材的鍍膜質量的問題。
為實現上述目的,本實用新型提供了一種濺射真空電子束蒸鍍裝置,包括清潔室、蒸鍍室、鍍膜機構和過濾組件,清潔室具有進氣口和出氣口,蒸鍍室具有抽氣口,所述蒸鍍室與所述清潔室連通,并位于所述清潔室的一側,所述鍍膜機構與所述蒸鍍室連接,并位于所述蒸鍍室的一側,所述過濾組件包括連接管、抱窟、濾網和安裝機構;
所述連接管與所述清潔室連通,并位于所述清潔室靠近所述進氣口的一側,所述抱窟與所述連接管連接,并位于所述連接管靠近所述清潔室的一側,所述濾網與所述連接管滑動連接,并位于所述連接管的一側,所述安裝機構與所述濾連接,并位于所述濾網的一側。
其中,所述過濾組件還包括密封機構,所述密封機構設置于所述連接管的一側。
其中,所述抱窟包括圓圈、卡扣和螺栓,所述圓圈與所述連接管連接,并位于所述連接管靠近所述清潔室的一側,所述卡扣與所述圓圈固定連接,并位于所述圓圈的一側,所述螺栓與所述圓圈螺紋連接,且穿過所述卡扣。
其中,所述安裝機構包括彈簧、滑動塊和拉桿,所述彈簧與所述連接管固定連接,并位于所述連接管的一側,所述滑動塊與所述彈簧固定連接,且與所述連接管滑動連接,所述拉桿與所述滑動塊固定連接,且與所述連接管滑動連接。
其中,所述密封機構包括合頁、密封蓋和紗布,所述合頁與所述連接管轉動連接,并位于所述連接管的一側,所述密封蓋與所述合頁固定連接,并位于所述合頁的一側,所述紗布與所述密封蓋固定連接,并位于所述密封蓋的一側。
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