[實用新型]掩模版清洗裝置和掩模版清洗設備

有效

• 申請號: 202223296229.3
• 申請日: 2022-12-08
• 公開（公告）號: CN219003921U
• 公開（公告）日: 2023-05-12
• 發明（設計）人: 張健澄;高東元;徐龍
• 申請（專利權）人: 上海集成電路裝備材料產業創新中心有限公司;上海集成電路研發中心有限公司
• 主分類號: B08B3/02
• 分類號: B08B3/02;B08B3/08;B08B11/02;B08B7/00;H01L21/67
• 代理公司: 上海恒銳佳知識產權代理事務所(普通合伙) 31286
• 代理人: 吳浩

本實用新型提供了一種掩模版清洗裝置和掩模版清洗設備，所述掩模版清洗裝置包括：承載臺、清洗載具、藥劑噴灑組件和紫外發射組件；所述承載臺用于放置掩模版；所述清洗載具設置于所述承載臺上方；所述藥劑噴灑組件和所述紫外發射組件設置于所述清洗載具上，所述藥劑噴灑組件用于向所述掩模版噴灑清洗藥劑，所述紫外發射組件用于向所述掩模版照射紫外線；所述紫外發射組件包括紫外線發射器和保護罩，所述保護罩設置于所述紫外線發射器靠近所述藥劑噴灑組件的一側，用于阻止所述清洗藥劑與所述紫外線發射器接觸，所述紫外發射組件位于所述藥劑噴灑組件與所述承載臺之間的布局，使得所述紫外發射組件相對更臨近所述載片臺，以提升紫外線照射效果。

技術領域

本實用新型涉及半導體技術領域，尤其涉及一種掩模版清洗裝置和掩模版清洗設備。

背景技術

掩模版是在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并精確定位，以便于在基材表面沉積形成均勻的膜層的工具。

在掩模版使用較長時間之后，掩模版上會積聚較多顆粒。若掩模版被顆粒污染，則通過掩模版形成的圖形不精準，造成圖形“失真”。

現有技術中，通過化學藥劑清洗掩模版會有一定的顆粒殘留，清洗效果難以滿足需求，最終影響成品質量。

因此，有必要開發一種新型掩模版清洗裝置和掩模版清洗設備，以改善現有技術中存在的上述部分問題。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種掩模版清洗裝置，能夠提升對掩模版的清洗效果。

為實現上述目的，本實用新型提供的掩模版清洗裝置，包括：承載臺、清洗載具、藥劑噴灑組件和紫外發射組件；所述承載臺用于放置掩模版；所述清洗載具設置于所述承載臺上方；所述藥劑噴灑組件和所述紫外發射組件設置于所述清洗載具上，所述藥劑噴灑組件用于向所述掩模版噴灑清洗藥劑，所述紫外發射組件用于向所述掩模版照射紫外線；其中，所述紫外發射組件位于所述藥劑噴灑組件與所述承載臺之間，所述紫外發射組件包括紫外線發射器和保護罩，所述保護罩設置于所述紫外線發射器靠近所述藥劑噴灑組件的一側，用于阻止所述清洗藥劑與所述紫外線發射器接觸。

本實用新型提供的掩模版清洗裝置的有益效果在于：使用藥劑噴灑組件和紫外發射組件同時對位于所述承載臺上的掩模版進行清洗，顆粒吸收紫外線發生光敏氧化作用后分解，再結合清洗藥劑對所述掩模版化學清洗，實現了更好的顆粒清洗效果；設置于所述紫外線發射器與所述藥劑噴灑組件之間的保護罩阻隔所述清洗藥劑接觸所述紫外發射器，便于形成所述紫外發射組件位于所述藥劑噴灑組件與所述承載臺之間的布局，使得所述紫外發射組件相對更臨近所述載片臺，以提升紫外線照射效果。

可選的，所述清洗載具包括間隔設置的第一固定件和第二固定件，所述藥劑噴灑組件的兩端和所述紫外發射組件的兩端均分別連接所述第一固定件和所述第二固定件。其有益效果在于：通過間隔設置的所述第一固定件和所述第二固定件對所述藥劑噴灑組件和所述紫外發射組件的兩端進行固定，便于對較長尺寸的所述藥劑噴灑組件和所述紫外發射組件進行固定，有利于提升藥劑清洗的范圍和紫外清洗的范圍，進而提高所述掩模版清洗的范圍。

可選的，所述紫外線發射器為柱狀的紫外燈管，所述紫外燈管的兩端分別連接所述第一固定件和所述第二固定件。其有益效果在于：柱狀結構的所述紫外燈管有利于提升紫外線的照射范圍，進而提高所述掩模版清洗的范圍。

可選的，所述藥劑噴灑組件包括儲液腔體，所述儲液腔體開設有沿所述紫外燈管延伸方向排列設置的噴淋孔。其有益效果在于：所述噴淋孔沿所述紫外燈管延伸方向排列設置能夠使藥劑噴灑區域和紫外線照射區域重合，使待清洗區域同時被紫外線照射和清洗藥劑噴灑，以提升待清洗區域的清洗效果的均一性。