[實用新型]掩模版清洗裝置和掩模版清洗設備

有效

• 申請號: 202223296229.3
• 申請日: 2022-12-08
• 公開（公告）號: CN219003921U
• 公開（公告）日: 2023-05-12
• 發明（設計）人: 張健澄;高東元;徐龍
• 申請（專利權）人: 上海集成電路裝備材料產業創新中心有限公司;上海集成電路研發中心有限公司
• 主分類號: B08B3/02
• 分類號: B08B3/02;B08B3/08;B08B11/02;B08B7/00;H01L21/67
• 代理公司: 上海恒銳佳知識產權代理事務所(普通合伙) 31286
• 代理人: 吳浩

1.一種掩模版清洗裝置，其特征在于，包括：

承載臺，用于放置掩模版；

清洗載具，所述清洗載具設置于所述承載臺上方；

設置于所述清洗載具上的藥劑噴灑組件和紫外發射組件，所述藥劑噴灑組件用于向所述掩模版噴灑清洗藥劑，所述紫外發射組件用于向所述掩模版照射紫外線；

其中，所述紫外發射組件位于所述藥劑噴灑組件與所述承載臺之間，所述紫外發射組件包括紫外線發射器和保護罩，所述保護罩設置于所述紫外線發射器靠近所述藥劑噴灑組件的一側，用于阻止所述清洗藥劑與所述紫外線發射器接觸。

2.根據權利要求1所述的掩模版清洗裝置，其特征在于，所述清洗載具包括間隔設置的第一固定件和第二固定件，所述藥劑噴灑組件的兩端和所述紫外發射組件的兩端均分別連接所述第一固定件和所述第二固定件。

3.根據權利要求2所述的掩模版清洗裝置，其特征在于，所述紫外線發射器為柱狀的紫外燈管，所述紫外燈管的兩端分別連接所述第一固定件和所述第二固定件。

4.根據權利要求3所述的掩模版清洗裝置，其特征在于，所述藥劑噴灑組件包括儲液腔體，所述儲液腔體開設有沿所述紫外燈管延伸方向排列設置的噴淋孔。

5.根據權利要求4所述的掩模版清洗裝置，其特征在于，所述噴淋孔包括第一列噴淋孔和第二列噴淋孔，所述第一列噴淋孔和所述第二列噴淋孔位于所述紫外燈管的兩側上方，使所述清洗藥劑從所述紫外燈管的兩側落下。

6.根據權利要求5所述的掩模版清洗裝置，其特征在于，所述儲液腔體包括平行設置的第一噴淋管和第二噴淋管，所述第一列噴淋孔位于所述第一噴淋管上，所述第二列噴淋孔位于所述第二噴淋管上。

7.根據權利要求3所述的掩模版清洗裝置，其特征在于，所述保護罩為管狀結構，所述保護罩的兩端分別連接所述第一固定件和所述第二固定件且所述保護罩圍繞所述紫外燈管。

8.根據權利要求1所述的掩模版清洗裝置，其特征在于，所述保護罩靠近所述承載臺的一側具有開口；和/或，所述保護罩的材料為石英。

9.根據權利要求2所述的掩模版清洗裝置，其特征在于，所述清洗載具包括驅動裝置，所述驅動裝置連接所述第一固定件和所述第二固定件，用于驅動所述藥劑噴灑組件和所述紫外發射組件移動。

10.一種掩模版清洗設備，其特征在于，包括清洗腔室和設置于所述清洗腔室內的如權利要求1至9任一項所述的掩模版清洗裝置。