[實用新型]一種晶圓片清洗周轉裝置有效
| 申請號: | 202223163338.8 | 申請日: | 2022-11-28 |
| 公開(公告)號: | CN219203180U | 公開(公告)日: | 2023-06-16 |
| 發明(設計)人: | 何勇;黃家柳;李朝翔 | 申請(專利權)人: | 福建兆元光電有限公司 |
| 主分類號: | H01L33/00 | 分類號: | H01L33/00;H01L21/67;H01L21/677;F26B25/18;F26B25/00;F26B5/00 |
| 代理公司: | 福州市博深專利事務所(普通合伙) 35214 | 代理人: | 董晗 |
| 地址: | 350000 福建省福州*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 晶圓片 清洗 周轉 裝置 | ||
本實用新型涉及LED芯片技術領域,具體涉及一種晶圓片清洗周轉裝置,包括機架、萬向輪、濕放置板、干放置板和濾網;所述萬向輪設置在機架底部,所述濕放置板和干放置板均水平設置在機架上,所述濕放置板與機架可拆卸連接,所述濕放置板上表面開設儲水槽,所述濾網水平設置在儲水槽中,所述濾網與儲水槽的槽底間隔設置,所述濾網與濕放置板可拆卸連接。本實用新型的有益效果在于:本實用新型提供的晶圓片清洗周轉裝置實現干濕分離的同時轉運去膠機中取出的晶圓片和甩干機中取出的晶圓片,避免清潔液污染環境。
技術領域
本實用新型涉及LED芯片技術領域,具體涉及一種晶圓片清洗周轉裝置。
背景技術
在LED芯片制備的過程中,經常需要應用到光刻工藝;所謂光刻工藝即在晶圓片上涂光刻膠,通過掩膜版和顯影使光刻膠上形成光刻孔,隨后在上述結構表面鍍膜,最后去除光刻膠。
上述顯影工序后,工作人員需要將晶圓片放入去膠機以清潔光刻孔;因為去膠機中會使用清洗液來清潔光刻孔,故而隨后工作人員又需要將晶圓片從去膠機轉運到甩干機中以干燥晶圓片。
現有技術中,將晶圓片從去膠機轉運到甩干機的工序,沒有對應的專門的轉運裝置,晶圓片從去膠機中取出后,晶圓片上的清潔液流到生產車間的地面上,污染了環境。
實用新型內容
本實用新型所要解決的技術問題是:提供一種晶圓片清洗周轉裝置,實現干濕分離的同時轉運去膠機中取出的晶圓片和甩干機中取出的晶圓片,避免清潔液污染環境。
為了解決上述技術問題,本實用新型采用的一種技術方案為:一種晶圓片清洗周轉裝置,包括機架、萬向輪、濕放置板、干放置板和濾網;
所述萬向輪設置在機架底部,所述濕放置板和干放置板均水平設置在機架上,所述濕放置板與機架可拆卸連接,所述濕放置板上表面開設儲水槽,所述濾網水平設置在儲水槽中,所述濾網與儲水槽的槽底間隔設置,所述濾網與濕放置板可拆卸連接。
進一步地,所述機架包括多個立柱,所述立柱呈矩陣排布,所述立柱上水平延伸出多個支承條,所述支承條承接濕放置板或干放置板,所述濕放置板和干放置板在豎直的間隔設置。
進一步地,所述濕放置板的側壁設有排水管,所述排水管連接儲水槽,所述排水管中設有手動開閉的閥門。
進一步地,所述儲水槽的槽底傾斜,所述排水管的輸入端在儲水槽的槽底的最低點。
進一步地,所述機架的側上部設有把手。
進一步地,所述干放置板上表面設有放置槽。
進一步地,還包括兩個防水擋板,所述防水擋板立設,兩個所述防水擋板互相平行的間隔設置,所述干放置板在兩個防水擋板之間。
本實用新型的有益效果在于:工作人員在使用本實用新型提供的晶圓片清洗周轉裝置時,工作人員推動機架,所述萬向輪的滾動方便機架移動。
工作人員將機架移動到去膠機旁,將攜帶清洗液的晶圓片放置在濕放置板的濾網中,清潔液將流到儲水槽中,避免了污染環境。
隨后工作人員將機架移動到甩干機旁,將甩干機中的晶圓片取出放置在干放置板上,將濕放置板上的晶圓片放入甩干機中。最后將所述晶圓片清洗周轉裝置上的晶圓片轉移到下個工位。
所述濕放置板的可拆卸連接使工作人員可從機架上取下濕放置板將儲水槽的清洗液倒掉,所述濾網的可拆卸連接方便濾網損壞后更換濾網。
故本實用新型提供的晶圓片清洗周轉裝置實現干濕分離的同時轉運去膠機中取出的晶圓片和甩干機中取出的晶圓片,避免清潔液污染環境。
附圖說明
圖1為本實用新型具體實施方式的一種晶圓片清洗周轉裝置的整體結構示意圖;
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