[實用新型]一種晶圓片清洗周轉裝置有效
| 申請號： | 202223163338.8 | 申請日： | 2022-11-28 |
| 公開（公告）號： | CN219203180U | 公開（公告）日： | 2023-06-16 |
| 發明（設計）人： | 何勇;黃家柳;李朝翔 | 申請（專利權）人： | 福建兆元光電有限公司 |
| 主分類號： | H01L33/00 | 分類號： | H01L33/00;H01L21/67;H01L21/677;F26B25/18;F26B25/00;F26B5/00 |
| 代理公司： | 福州市博深專利事務所(普通合伙) 35214 | 代理人： | 董晗 |
| 地址： | 350000 福建省福州*** | 國省代碼： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 晶圓片 清洗 周轉 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種晶圓片清洗周轉裝置，其特征在于，包括機架、萬向輪、濕放置板、干放置板和濾網；
所述萬向輪設置在機架底部，所述濕放置板和干放置板均水平設置在機架上，所述濕放置板與機架可拆卸連接，所述濕放置板上表面開設儲水槽，所述濾網水平設置在儲水槽中，所述濾網與儲水槽的槽底間隔設置，所述濾網與濕放置板可拆卸連接。
2.根據權利要求1所述的晶圓片清洗周轉裝置，其特征在于，所述機架包括多個立柱，所述立柱呈矩陣排布，所述立柱上水平延伸出多個支承條，所述支承條承接濕放置板或干放置板，所述濕放置板和干放置板在豎直的間隔設置。
3.根據權利要求1或2所述的晶圓片清洗周轉裝置，其特征在于，所述濕放置板的側壁設有排水管，所述排水管連接儲水槽，所述排水管中設有手動開閉的閥門。
4.根據權利要求3所述的晶圓片清洗周轉裝置，其特征在于，所述儲水槽的槽底傾斜，所述排水管的輸入端在儲水槽的槽底的最低點。
5.根據權利要求1所述的晶圓片清洗周轉裝置，其特征在于，所述機架的側上部設有把手。
6.根據權利要求1所述的晶圓片清洗周轉裝置，其特征在于，所述干放置板上表面設有放置槽。
7.根據權利要求2所述的晶圓片清洗周轉裝置，其特征在于，還包括兩個防水擋板，所述防水擋板立設，兩個所述防水擋板互相平行的間隔設置，所述干放置板在兩個防水擋板之間。
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