[實用新型]用于氣懸式涂布機的氣懸浮平臺和氣懸式涂布機

有效

• 申請號: 202223120016.5
• 申請日: 2022-11-21
• 公開（公告）號: CN219003605U
• 公開（公告）日: 2023-05-12
• 發明（設計）人: 闕磊
• 申請（專利權）人: 成都拓米智能系統技術有限公司
• 主分類號: B05C13/02
• 分類號: B05C13/02
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 尉立

1.一種用于氣懸式涂布機的氣懸浮平臺，其特征在于，包括：

涂布機架；

氣懸浮平臺體，所述氣懸浮平臺體設置在所述涂布機架上，所述氣懸浮平臺體包括沿所述涂布機架的長度方向上依次設置的上料浮起臺、涂布浮起臺和下料浮起臺，所述涂布浮起臺能夠與涂布模頭對應設置；和

定位移載機構，所述定位移載機構用于移載玻璃基材，所述定位移載機構可移動地設置在所述涂布機架上以便所述玻璃基材能夠與所述上料浮起臺、所述涂布浮起臺和所述下料浮起臺可切換地對應。

2.根據權利要求1所述的用于氣懸式涂布機的氣懸浮平臺，其特征在于，所述涂布機架包括涂布架體和至少兩個導軌，至少兩個所述導軌沿所述涂布機架的寬度方向上間隔開地設置在所述涂布架體上，且至少兩個所述導軌均沿所述涂布機架的長度方向延伸，所述定位移載機構包括沿所述涂布機架的寬度方向上間隔且相對設置的第一定位支撐架和第二定位支撐架，所述第一定位支撐架和所述第二定位支撐架與其中兩個所述導軌對應配合，所述第一定位支撐架和所述第二定位支撐架中的每一者均能夠移載所述玻璃基材。

3.根據權利要求2所述的用于氣懸式涂布機的氣懸浮平臺，其特征在于，所述第一定位支撐架和所述第二定位支撐架中的每一者均包括導向件、限位件和定位吸附件，所述導向件與所述導軌導向配合，所述限位件與所述導向件連接，所述定位吸附件沿所述涂布機架的長度方向上可移動地設置在所述導向件上，所述定位吸附件能夠吸附所述玻璃基材。

4.根據權利要求3所述的用于氣懸式涂布機的氣懸浮平臺，其特征在于，所述導向件包括導塊和升降調節臺，所述導塊與所述導軌導向配合，所述升降調節臺的一端與所述導塊連接，所述升降調節臺沿上下方向延伸，所述限位件設置在所述升降調節臺上，且所述限位件沿上下方向可移動地設置在所述升降調節臺上。

5.根據權利要求3所述的用于氣懸式涂布機的氣懸浮平臺，其特征在于，所述定位吸附件包括吸附架體和真空吸板，所述吸附架體沿所述涂布機架的長度方向可移動地設置在所述導向件上，所述真空吸板設置在所述吸附架體上，所示真空吸板具有真空吸孔，所述真空吸板能夠通過所述真空吸孔吸附所述玻璃基材。

6.根據權利要求5所述的用于氣懸式涂布機的氣懸浮平臺，其特征在于，所述真空吸板包括調節部和真空吸板部，所述調節部沿所述涂布機架的寬度和/或長度方向可移動地設置在所述吸附架體上，所述真空吸板部設置在所述調節部上，所述真空吸板部能夠吸附所述玻璃基材。

7.根據權利要求5所述的用于氣懸式涂布機的氣懸浮平臺，其特征在于，所述定位吸附件還包括糾偏機構，所述糾偏機構設置在所述吸附架體上且能夠糾正偏移的所述玻璃基材。

8.根據權利要求7所述的用于氣懸式涂布機的氣懸浮平臺，其特征在于，所述糾偏機構包括驅動缸體、導向板和定位輪，所述導向板通過所述驅動缸體沿所述涂布機架的寬度方向可移動地設置在所述吸附架體上，所述定位輪設置在所述導向板上，且所述定位輪繞著沿上下方向延伸的中心軸轉動，所述定位輪能夠糾正偏移的所述玻璃基材。

9.根據權利要求1-8中任一項所述的用于氣懸式涂布機的氣懸浮平臺，其特征在于，所述涂布浮起臺包括涂布氣密板和氣密支撐件，所述氣密支撐件設置在所述涂布機架上，所述氣密支撐件與所述涂布氣密板形成正壓通道，所述涂布氣密板上具有多個涂布氣孔，多個所述涂布氣孔均與所述正壓通道連通，所述正壓通道能夠與氣源連通，多個所述涂布氣孔能夠噴出用于支撐所述玻璃基材的氣體以便對所述玻璃基材施加向上的作用力。

10.根據權利要求9所述的用于氣懸式涂布機的氣懸浮平臺，其特征在于，所述氣密支撐件與所述涂布氣密板之間還具有負壓通道，所述負壓通道與所述正壓通道相互獨立，所述負壓通道能夠與抽吸泵連通，所述涂布氣密板上還具有多個真空孔，多個所述真空孔與所述負壓通道連通，所述真空孔用于抽取所述玻璃基材與所述涂布氣密板之間的氣體，以便調整由所述涂布氣孔噴出的氣體對所述玻璃基材的作用力。