[實用新型]表面活化工藝室

有效

• 申請號: 202222990029.1
• 申請日: 2022-11-07
• 公開（公告）號: CN218755990U
• 公開（公告）日: 2023-03-28
• 發明（設計）人: 李小彭;朱功
• 申請（專利權）人: 浙江生波智能裝備有限公司
• 主分類號: C23C14/02
• 分類號: C23C14/02;C23C14/56;C23C14/20
• 代理公司: 中山市捷凱專利商標代理事務所(特殊普通合伙) 44327
• 代理人: 石仁

本實用新型實施例公開了一種表面活化工藝室，其左上方和右下方分別設有加熱器，其中，左上方的加熱器用于對柔性PI基材的正面進行二次烘烤，右下方的加熱器用于對柔性PI基材的背面進行二次烘烤；表面活化工藝室的離子源位于左上方和右下方的加熱器之間，包括第一離子源和第二離子源，其中，第一離子源位靠近左上方的加熱器并用于對柔性PI基材的背面進行材料表面活化處理，第二離子源位靠近右下方的加熱器并用于對柔性PI基材的正面進行材料表面活化處理。本實用新型實施例，工藝室整體結構簡單，可進一步去除PI基材表面殘留的水分子，并提高柔性PI基材的表面活化程度，為后續能夠制備出表面附著力符合要求的真空鍍膜設備提供良好的前期準備。

技術領域：

本實用新型涉及一種表面活化工藝室，尤其是一種應用于卷繞式銅膜真空鍍膜設備中的表面活化工藝室。

背景技術：

隨著科技發展，特別是柔性電路板技術以及鋰電池技術的發展，對電池電極和電路板的輕薄柔性化需求越來越高。PI材料具有良好的耐溫耐腐蝕的化學穩定性以及優越的機械穩定性，是作為銅膜基材的最佳選擇。

利用PI材料實現卷繞式銅膜鍍膜的真空鍍膜設備中，通常需要配備表面活化工藝室，然而現有表面活化工藝室，存在結構復雜、表面活化效果程度不佳的缺陷。

發明內容：

為克服現有表面活化工藝室存在結構復雜的問題，本實用新型實施例提供了一種表面活化工藝室。

一種表面活化工藝室，應用于卷繞式銅膜真空鍍膜設備中，

表面活化工藝室的左上方和右下方分別設有加熱器，其中，左上方的加熱器用于對柔性PI基材的正面進行二次烘烤，右下方的加熱器用于對柔性PI基材的背面進行二次烘烤；

表面活化工藝室的離子源位于左上方和右下方的加熱器之間，包括第一離子源和第二離子源，其中，第一離子源位靠近左上方的加熱器并用于對柔性PI基材的背面進行材料表面活化處理，第二離子源位靠近右下方的加熱器并用于對柔性PI基材的正面進行材料表面活化處理。

本實用新型實施例，工藝室整體結構簡單，通過在表面活化工藝室內設置加熱器，可分別對柔性PI基材的正反兩面進行二次烘烤，以進一步去除PI基材表面殘留的水分子；并通過雙離子源對柔性PI基材的正反兩面進行材料表面活化處理，提高柔性PI基材的表面活化程度，為后續能夠制備出表面附著力符合要求的真空鍍膜設備提供良好的前期準備。

附圖說明：

為了更清楚地說明本實用新型實施例中的技術方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本實用新型實施例的用于電路板或電池電極的卷繞式銅膜真空鍍膜設備的示例性布局示意圖；

圖2為本實用新型實施例的放卷室的結構示意圖；

圖3為本實用新型實施例的表面活化工藝室的結構示意圖；

圖4為本實用新型實施例的改性工藝室的結構示意圖；

圖5為本實用新型實施例的弧靶離子鍍膜工藝室的結構示意圖；

圖6為本實用新型實施例的磁控濺射鍍膜工藝室的結構示意圖；

圖7為本實用新型實施例的收卷室的結構示意圖；

圖8為本實用新型實施例的加熱器的主視圖；

圖9為本實用新型實施例的加熱器的俯視圖；

圖10為本實用新型實施例的冷卻輥的結構示意圖；

圖11為本實用新型實施例的冷卻輥的剖視圖；