[實用新型]絕緣支撐結構、鍍膜裝置和沉積裝置

有效

• 申請號: 202222766200.0
• 申請日: 2022-10-20
• 公開（公告）號: CN218321632U
• 公開（公告）日: 2023-01-17
• 發明（設計）人: 林佳繼;張武;劉群
• 申請（專利權）人: 深圳市拉普拉斯能源技術有限公司
• 主分類號: C23C16/458
• 分類號: C23C16/458;C23C16/50;H01L31/18;H01J37/32
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 潘登

1.一種絕緣支撐結構，其特征在于，所述絕緣支撐結構包括支撐主體和套體，所述支撐主體的一側支撐側開設有嵌合凹槽，另一側支撐側設置有嵌合凸起；

所述套體套設所述支撐主體，所述套體和所述支撐主體之間設置有間隔件，所述間隔件用于連接所述套體與所述支撐主體，并且所述套體與所述支撐主體之間形成具有連通間隙的夾層空間，所述連通間隙用于連通所述夾層空間與所述套體的外部空間。

2.根據權利要求1所述的絕緣支撐結構，其特征在于，在所述絕緣支撐結構的支撐方向上，所述支撐主體和所述套體的至少一個端部相錯形成所述連通間隙。

3.根據權利要求1所述的絕緣支撐結構，其特征在于，所述嵌合凸起的高度大于所述嵌合凹槽的深度。

4.根據權利要求1所述的絕緣支撐結構，其特征在于，所述支撐主體和所述套體為分體式結構，所述支撐主體和所述套體之間設置有限位結構，所述限位結構用于限位固定所述套體位于所述支撐主體的位置。

5.一種鍍膜裝置，其特征在于，所述鍍膜裝置包括權利要求1-4任一項所述的絕緣支撐結構。

6.一種沉積裝置，其特征在于，所述沉積裝置包括殼體，所述殼體內間隔交替設置激勵電極板以及接地電極板，所述激勵電極板和接地電極板之間形成沉積腔，所述激勵電極板和/或所述接地電極板用于放置基片；

所述激勵電極板和所述接地電極板之間設置有至少一個支撐件，所述激勵電極板和所述接地電極板位于所述支撐件處均開設有通孔，所述支撐件包括至少一個權利要求1-4任一項所述的絕緣支撐結構，所述絕緣支撐結構分別設置于所述激勵電極板和所述接地電極板之間，所述絕緣支撐結構的所述嵌合凸起穿過所述通孔，并嵌入相鄰的所述絕緣支撐結構的所述嵌合凹槽內。

7.根據權利要求6所述的沉積裝置，其特征在于，所述激勵電極板和/或接地電極板上設置有鏤空結構。

8.根據權利要求6所述的沉積裝置，其特征在于，所述激勵電極板和/或所述接地電極板的至少一側表面進行鈍化處理形成鈍化膜。

9.根據權利要求6所述的沉積裝置，其特征在于，所述激勵電極板的平面尺寸小于所述接地電極板的平面尺寸。

10.根據權利要求6所述的沉積裝置，其特征在于，所述沉積裝置用于制備硅片電池。