[實用新型]一種勻漿裝置和淋釉器

有效

• 申請號: 202222677034.7
• 申請日: 2022-10-11
• 公開（公告）號: CN218928150U
• 公開（公告）日: 2023-04-28
• 發明（設計）人: 廖紹基;黃彬成
• 申請（專利權）人: 佛山市瓏華臺科技開發有限公司;廖紹基
• 主分類號: B28B11/04
• 分類號: B28B11/04;B01F25/46
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 胡楓

本實用新型公開了一種勻漿裝置，包括用于容置釉漿的釉槽、用于勻化釉漿的勻漿輥和用于驅動所述勻漿輥轉動的驅動機構，所述勻漿輥設于所述釉槽內；其中，所述勻漿輥內設有釉漿流通通道，所述勻漿輥的表面設有與所述釉漿流通通道連通的勻漿孔。相應地，本實用新型還公開了一種采用上述勻漿裝置的淋釉器。采用本實用新型，結構簡單、勻漿效果好且可對釉漿液面的平穩性的影響小，且能有效防止釉漿凝結。

技術領域

本實用新型涉及陶瓷生產技術領域，尤其涉及一種勻漿裝置和淋釉器。

背景技術

釉漿屬于易于凝結物，特別是，靜止狀態或流動過慢的釉漿特別容易凝結。因此，現有淋釉設備的儲蓄槽往往會設有攪拌裝置，以避免釉漿粘結的產生。

但對高要求的瓷磚來說，現有攪拌裝置的攪拌力度過大，容易在釉漿的液面產生波紋，而影響釉漿上輥的均勻程度，從而影響瓷磚的上釉效果。特別是，采用螺旋葉片式的攪拌裝置，會使儲蓄槽內的釉漿產生來回的震蕩。

實用新型內容

本實用新型實施例所要解決的技術問題在于，提供一種勻漿裝置，結構簡單、勻漿效果好且可對釉漿液面的平穩性的影響小。

本實用新型實施例所要解決的技術問題在于，提供一種淋釉器，淋釉穩定均勻，而且能有效防止釉漿的凝結。

為了解決上述技術問題，本實用新型實施例提供了一種勻漿裝置，包括用于容置釉漿的釉槽、用于勻化釉漿的勻漿輥和用于驅動所述勻漿輥轉動的驅動機構，所述勻漿輥設于所述釉槽內；

其中，所述勻漿輥內設有釉漿流通通道，所述勻漿輥的表面設有與所述釉漿流通通道連通的勻漿孔。

作為上述方案的改進，所述勻漿輥呈中空結構，所述勻漿輥的表面均勻分布有多個所述勻漿孔。

作為上述方案的改進，所述勻漿孔至少設有2個，所述勻漿孔在所述勻漿輥的表面上呈螺旋狀分布。

一種淋釉器，包括上述的勻漿裝置、用于導出釉漿的淋釉板和與所述淋釉板對應設置的載釉滾筒，所述釉槽內的釉漿通過粘附轉動的載釉滾筒，移至所述淋釉板處；

其中，所述釉槽設有與所述釉槽連通的進釉管，所述勻漿輥位于所述載釉滾筒的下方。

作為上述方案的改進，所述進釉管與所述勻漿輥相對應設置，以供釉漿流向所述勻漿輥。

作為上述方案的改進，所述進釉管設有一段用于與外部供釉設備連通的輸釉管，所述輸釉管設有與所述輸釉管連通的排氣閥。

作為上述方案的改進，所述釉槽的側壁開設有用于控制液面高度的溢流口。

作為上述方案的改進，還包括位于所述淋釉板下方的接釉槽，所述釉槽的底部設有用排釉管，所述排釉管與接釉槽之間設有導流槽，以將所述排釉管流出的釉漿引入所述接釉槽。

作為上述方案的改進，所述淋釉板的兩側設有用于穩定釉幕流動狀態的穩流板；

所述淋釉板的上下兩邊分別為接釉邊和出釉邊，所述接釉邊與所述載釉滾筒之間留有預設間距的載釉縫隙，所述穩流板設于所述出釉邊的兩側。

作為上述方案的改進，還包括振動器，所述振動器設于所述釉槽上。

實施本實用新型，具有如下有益效果：

本實用新型實施例公開了一種勻漿裝置，包括用于容置釉漿的釉槽、勻漿輥和用于驅動所述勻漿輥轉動的驅動機構，所述勻漿輥設于所述釉槽內；