[實用新型]一種勻漿裝置和淋釉器

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202222677034.7
• 申請日: 2022-10-11
• 公開（公告）號: CN218928150U
• 公開（公告）日: 2023-04-28
• 發(fā)明（設計）人: 廖紹基;黃彬成
• 申請（專利權）人: 佛山市瓏華臺科技開發(fā)有限公司;廖紹基
• 主分類號: B28B11/04
• 分類號: B28B11/04;B01F25/46
• 代理公司: 廣州三環(huán)專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 胡楓

1.一種勻漿裝置，其特征在于，包括用于容置釉漿的釉槽、用于勻化釉漿的勻漿輥和用于驅動所述勻漿輥轉動的驅動機構，所述勻漿輥設于所述釉槽內；

其中，所述勻漿輥內設有釉漿流通通道，所述勻漿輥的表面設有與所述釉漿流通通道連通的勻漿孔。

2.如權利要求1所述的勻漿裝置，其特征在于，所述勻漿輥呈中空結構，所述勻漿輥的表面均勻分布有多個所述勻漿孔。

3.如權利要求1所述的勻漿裝置，其特征在于，所述勻漿孔至少設有2個，所述勻漿孔在所述勻漿輥的表面上呈螺旋狀分布。

4.一種淋釉器，其特征在于，包括權利要求1至3任意一項的勻漿裝置、用于導出釉漿的淋釉板和與所述淋釉板對應設置的載釉滾筒，所述釉槽內的釉漿通過粘附轉動的載釉滾筒，移至所述淋釉板處；

其中，所述釉槽設有與所述釉槽連通的進釉管，所述勻漿輥位于所述載釉滾筒的下方。

5.如權利要求4所述的淋釉器，其特征在于，所述進釉管與所述勻漿輥相對應設置，以供釉漿流向所述勻漿輥。

6.如權利要求4所述的淋釉器，其特征在于，所述進釉管設有一段用于與外部供釉設備連通的輸釉管，所述輸釉管設有與所述輸釉管連通的排氣閥。

7.如權利要求4所述的淋釉器，其特征在于，所述釉槽的側壁開設有用于控制液面高度的溢流口。

8.如權利要求4所述的淋釉器，其特征在于，還包括位于所述淋釉板下方的接釉槽，所述釉槽的底部設有用排釉管，所述排釉管與接釉槽之間設有導流槽，以將所述排釉管流出的釉漿引入所述接釉槽。

9.如權利要求4所述的淋釉器，其特征在于，所述淋釉板的兩側設有用于穩(wěn)定釉幕流動狀態(tài)的穩(wěn)流板；

所述淋釉板的上下兩邊分別為接釉邊和出釉邊，所述接釉邊與所述載釉滾筒之間留有預設間距的載釉縫隙，所述穩(wěn)流板設于所述出釉邊的兩側。

10.如權利要求4所述的淋釉器，其特征在于，還包括振動器，所述振動器設于所述釉槽上。