[實用新型]一種用于光掩模的防靜電破壞結構有效
| 申請號: | 202222297447.2 | 申請日: | 2022-08-30 |
| 公開(公告)號: | CN218103608U | 公開(公告)日: | 2022-12-20 |
| 發明(設計)人: | 郭貴琦;張家瑋;韋麗萍 | 申請(專利權)人: | 廣州新銳光掩??萍加邢薰?/a> |
| 主分類號: | H05F3/00 | 分類號: | H05F3/00;G03F1/00 |
| 代理公司: | 北京清大紫荊知識產權代理有限公司 11718 | 代理人: | 黎飛鴻;黃貞君 |
| 地址: | 510555 廣東省廣州市(*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 光掩模 靜電 破壞 結構 | ||
本申請提供了一種用于光掩模的防靜電破壞結構,屬于光掩模技術領域,具體包括用于光掩模防靜電破壞結構,包括設置在光掩??蛻魣D形區周圍的抗靜電環,抗靜電環設置為沿客戶圖形區外周的絕緣的閉環結構,抗靜電環用于防止靜電放電破壞客戶圖形區;與抗靜電環的外周相隔一定距離處設有電荷釋放區,電荷釋放區設置為條形結構,條形結構的一端始于光掩模的第一邊,條形結構的另一端始于光掩模的第二邊,第一邊與第二邊為相對邊,電荷釋放區用于將靜電產生的電荷引到客戶圖形區外進行釋放。通過本申請的處理方案,有效保護光掩模客戶圖形區,提高了芯片的良率。
技術領域
本申請涉及光掩模技術領域,尤其涉及一種用于光掩模防靜電破壞結構。
背景技術
光掩模生產及使用過程會與生產設備、儲存盒、操作人員相接觸,因摩擦產生或傳導靜電,產生的電荷通過光掩模表面金屬鉻傳導進入客戶圖形區域 (如圖1),最終聚集在線寬及間距較小的地方發生“爆炸”,從而導致光掩模圖形的毀損(如圖2)。而光掩模作為生產芯片之模板,其圖形的毀損終將造成芯片報廢,從而帶來高額的損失,因此需要一種設計來引導電荷集中在客戶圖形區域外釋放。
實用新型內容
有鑒于此,本申請實施例提供一種用于光掩模防靜電破壞結構,至少部分解決現有技術中存在的由于靜電作用導致光掩模圖形毀損的問題。
本申請實施例提供一種用于光掩模防靜電破壞結構,包括設置在光掩??蛻魣D形區周圍的抗靜電環,所述抗靜電環設置為沿所述客戶圖形區外周的絕緣的閉環結構,所述抗靜電環用于防止靜電放電破壞所述客戶圖形區;與所述抗靜電環的外周相隔一定距離處設有電荷釋放區,所述電荷釋放區設置為條形結構,所述條形結構的一端始于所述光掩模的第一邊,所述條形結構的另一端始于所述光掩模的第二邊,所述第一邊與所述第二邊為相對邊,所述電荷釋放區用于將靜電產生的電荷引到所述客戶圖形區外進行釋放。
根據本申請實施例的一種具體實現方式,所述電荷釋放區內包括設計圖形區和放電棒,所述設計圖形區的圖案具有標識性;所述放電棒的一端與所述設計圖形區的邊緣連接,所述放電棒的另一端與所述電荷釋放區的邊緣相隔一定距離,所述放電棒用于吸引電荷并在所述放電棒尖端放電。
根據本申請實施例的一種具體實現方式,所述放電棒設置為多個,多個所述放電棒均勻平行排列布置。
根據本申請實施例的一種具體實現方式,所述放電棒與相鄰放電棒之間的間距小于等于1000nm。
根據本申請實施例的一種具體實現方式,所述設計圖形區的面積大于等于 4倍所述放電棒的面積。
根據本申請實施例的一種具體實現方式,所述放電棒的另一端與所述電荷釋放區的邊緣相隔的距離小于1μm。
根據本申請實施例的一種具體實現方式,所述放電棒的寬度小于等于 1000nm,所述放電棒的長度大于4倍的所述放電棒的寬度。
根據本申請實施例的一種具體實現方式,所述電荷釋放區設置為兩個,兩個所述電荷釋放區分別位于所述光掩模的一相對側的邊緣。
有益效果
本申請實施例中的用于光掩模防靜電破壞結構,通過設置電荷釋放區,可將電荷引入客戶圖形區域外的放電棒提前釋放,而不會傳到客戶圖形區,以保證光掩模圖形質量,并且在客戶圖形區域周圍還有一圈絕緣的抗靜電環來阻止電荷進入,起到二次保護的作用,更進一步的保護了光掩模的客戶圖形區域的良好性,降低了圖形毀損的概率,提升光掩模品質及使用年限,并為芯片客戶端創造極大利益。
附圖說明
為了更清楚地說明本申請實施例的技術方案,下面將對實施例中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本申請的一些實施例,對于本領域普通技術人員來講,在不付出創造性勞動的前提下,還可以根據這些附圖獲得其它的附圖。
圖1為現有技術的靜電傳遞示意圖;
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