[實用新型]一種MEMS微鏡陣列有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202222262196.4 | 申請日: | 2022-08-26 |
| 公開(公告)號: | CN218099784U | 公開(公告)日: | 2022-12-20 |
| 發(fā)明(設計)人: | 李偉;李芳萌;徐靜 | 申請(專利權(quán))人: | 安徽中科米微電子技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G02B26/08 | 分類號: | G02B26/08;B81B7/02;B81C1/00 |
| 代理公司: | 上海光華專利事務所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 余明偉 |
| 地址: | 233000 安徽*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 mems 陣列 | ||
1.一種MEMS微鏡陣列,其特征在于,所述MEMS微鏡陣列包括:
MEMS微鏡基板,所述MEMS微鏡基板包括連接在一起的呈陣列分布的MEMS微鏡,且所述MEMS微鏡的正面具有電極焊盤;
布線基板,所述布線基板位于所述MEMS微鏡基板上方,所述布線基板的背面具有焊盤,所述焊盤與所述電極焊盤對應電連接,且所述布線基板具有開孔,所述開孔與所述MEMS微鏡的反射鏡一一對應設置以顯露所述反射鏡。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的MEMS微鏡陣列,其特征在于:所述布線基板的所述開孔中還設置有濾光片。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的MEMS微鏡陣列,其特征在于:所述布線基板包括硅基板、PCB基板及陶瓷基板中的一種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的MEMS微鏡陣列,其特征在于:所述布線基板設置有與所述焊盤電連接的電極,且所述電極位于所述布線基板的正面、背面及側(cè)面中的一種或組合。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的MEMS微鏡陣列,其特征在于:當所述電極位于所述布線基板的側(cè)面時,所述MEMS微鏡基板與所述布線基板具有相同尺寸。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的MEMS微鏡陣列,其特征在于:所述MEMS微鏡基板上包括M×N個連接在一起的呈陣列分布的所述MEMS微鏡,其中,M×N的總值大于等于2,所述MEMS微鏡陣列包括平行陣列及交錯陣列中的一種或組合。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的MEMS微鏡陣列,其特征在于:所述MEMS微鏡包括一維運動MEMS微鏡和二維運動MEMS微鏡中的任意一種或組合。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的MEMS微鏡陣列,其特征在于:所述MEMS微鏡包括靜電驅(qū)動MEMS微鏡、電磁驅(qū)動MEMS微鏡、壓電驅(qū)動MEMS微鏡及電熱驅(qū)動MEMS微鏡中的任意一種或組合。
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