[實用新型]半導體工藝設備及其副產物收集裝置有效
| 申請號: | 202222251457.2 | 申請日: | 2022-08-25 |
| 公開(公告)號: | CN217988410U | 公開(公告)日: | 2022-12-09 |
| 發明(設計)人: | 韓興;李洪利;宋新豐 | 申請(專利權)人: | 北京北方華創微電子裝備有限公司 |
| 主分類號: | B01D5/00 | 分類號: | B01D5/00;B65G33/26;H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京國昊天誠知識產權代理有限公司 11315 | 代理人: | 周永強 |
| 地址: | 100176 北京市*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 半導體 工藝設備 及其 副產物 收集 裝置 | ||
1.一種半導體工藝設備的副產物收集裝置,其特征在于,包括冷凝腔室(100)、副產物收集容器(200)、驅動機構(300)和螺旋輸送件(400),所述冷凝腔室(100)設有副產物排放孔(110),所述副產物收集容器(200)通過所述副產物排放孔(110)與所述冷凝腔室(100)連通,所述螺旋輸送件(400)至少部分設于所述冷凝腔室(100)內,且一端部伸至所述副產物排放孔(110)中,所述驅動機構(300)與所述螺旋輸送件(400)相連,用于驅動所述螺旋輸送件(400)轉動,以使所述螺旋輸送件(400)向所述副產物收集容器(200)輸送副產物。
2.根據權利要求1所述的副產物收集裝置,其特征在于,所述螺旋輸送件(400)包括轉軸(410)和螺旋凸起(420),所述轉軸(410)的第一端部與所述驅動機構(300)相連,所述螺旋凸起(420)螺旋設于所述轉軸(410)的第二端部,所述螺旋凸起(420)至少位于所述副產物排放孔(110)中;
所述螺旋輸送件(400)為兩個,兩個所述螺旋輸送件(400)的所述螺旋凸起(420)嚙合。
3.根據權利要求2所述的副產物收集裝置,其特征在于,兩個所述螺旋輸送件(400)中,一者的所述螺旋凸起(420)與另一者的所述轉軸(410)滾動接觸,兩個所述螺旋輸送件(400)的所述螺旋凸起(420)均與所述冷凝腔室(100)的圍成所述副產物排放孔(110)的內壁滾動接觸,以使在所述轉軸(410)處于靜止狀態下,兩個所述螺旋輸送件(400)之間以及兩個所述螺旋輸送件(400)與所述內壁之間形成密封腔,所述副產物收集容器(200)與所述冷凝腔室(100)可拆卸相連。
4.根據權利要求1所述的副產物收集裝置,其特征在于,所述驅動機構(300)設于所述冷凝腔室(100)之外;
所述螺旋輸送件(400)的第一端部處在所述冷凝腔室(100)之外,且與所述驅動機構(300)相連,或者,所述驅動機構(300)的動力輸出軸穿入所述冷凝腔室(100)內,且與所述螺旋輸送件(400)的第一端部相連;
所述螺旋輸送件(400)的第二端部位于所述冷凝腔室(100)內,且伸至所述副產物排放孔(110)中。
5.根據權利要求4所述的副產物收集裝置,其特征在于,所述驅動機構(300)安裝在所述冷凝腔室(100)上,所述冷凝腔室(100)開設有避讓孔,所述螺旋輸送件(400)的第一端部穿過所述避讓孔而伸至所述冷凝腔室(100)之外,或,所述動力輸出軸穿過所述避讓孔而伸至所述冷凝腔室(100)之內,所述驅動機構(300)與所述避讓孔的外側端口所在的表面之間設有密封件。
6.根據權利要求5所述的副產物收集裝置,其特征在于,所述驅動機構(300)通過安裝支架(500)安裝在所述冷凝腔室(100)上,所述螺旋輸送件(400)的第一端部穿過所述避讓孔和所述安裝支架(500),且與所述驅動機構(300)相連,或,所述動力輸出軸穿過所述安裝支架(500)和所述避讓孔,且與所述螺旋輸送件(400)的第一端部相連,所述安裝支架(500)與所述避讓孔的外側端口所在的表面之間設有所述密封件。
7.根據權利要求1所述的副產物收集裝置,其特征在于,所述冷凝腔室(100)包括錐形段(120)和等徑段(130),所述等徑段(130)圍成所述副產物排放孔(110),所述等徑段(130)的第一端部與所述錐形段(120)的面積較小的端口連通,所述等徑段(130)的第二端部與所述副產物收集容器(200)連通。
8.根據權利要求1所述的副產物收集裝置,其特征在于,所述副產物收集裝置還包括加熱器(600),所述加熱器(600)設于所述冷凝腔室(100)的外側壁上,用于加熱所述冷凝腔室(100)內的副產物。
9.根據權利要求8所述的副產物收集裝置,其特征在于,所述副產物收集裝置還包括交變電源(700),所述交變電源(700)與所述加熱器(600)相連,用于驅使所述加熱器(600)的加熱溫度循環變化。
10.一種半導體工藝設備,其特征在于,包括工藝腔室(1000)和權利要求1至9中任一項所述的副產物收集裝置,所述副產物收集裝置的一端與所述工藝腔室(1000)相連,另一端與廠務端相連。
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