[實(shí)用新型]抑制高酸含鍺浸出液降酸時(shí)形成鐵硅鍺膠體沉淀的裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202222203568.6
• 申請日: 2022-08-22
• 公開（公告）號: CN218291065U
• 公開（公告）日: 2023-01-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊坤;張利波;夏洪應(yīng);李世偉;王仕興
• 申請（專利權(quán)）人: 昆明理工大學(xué)
• 主分類號: C22B41/00
• 分類號: C22B41/00;C22B3/02;C22B3/22
• 代理公司: 天津煜博知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 12246
• 代理人: 朱維

本實(shí)用新型涉及一種抑制高酸含鍺浸出液降酸時(shí)形成鐵硅鍺膠體沉淀的裝置，屬于鍺提取裝置技術(shù)領(lǐng)域。本實(shí)用新型裝置包括超聲預(yù)混槽和降酸槽，超聲預(yù)混槽內(nèi)豎直設(shè)置有第一機(jī)械攪拌裝置，第一機(jī)械攪拌裝置的末端插設(shè)至超聲預(yù)混槽的底部，超聲預(yù)混槽內(nèi)豎直設(shè)置有相對于第一機(jī)械攪拌裝置軸對稱的兩排超聲振子，超聲預(yù)混槽頂端設(shè)置有礦砂漿管和高酸含鍺液管，礦砂漿管和高酸含鍺液管位于第一機(jī)械攪拌裝置兩側(cè)，超聲預(yù)混槽的底部出口通過引流管與降酸槽的頂部入口連通，降酸槽內(nèi)豎直設(shè)置有第二機(jī)械攪拌裝置，第二機(jī)械攪拌裝置位于降酸槽的中心軸上，降酸槽的頂部和底部均設(shè)置有pH計(jì)。本實(shí)用新型通過超聲預(yù)混槽對高酸含鍺液和砂漿進(jìn)行快速預(yù)混。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種抑制高酸含鍺浸出液降酸時(shí)形成鐵硅鍺膠體沉淀的裝置，屬于鍺提取裝置技術(shù)領(lǐng)域。

背景技術(shù)

鍺生產(chǎn)以含克噸級別氧化鋅煙塵為原料，采用高酸浸出-沉鍺工藝將鍺初步富集到 2～30％，而后進(jìn)行深度富集，并提純。為實(shí)現(xiàn)鍺的高效浸出，需要進(jìn)行高酸浸出，終酸達(dá)到幾十克升，但沉鍺需要將pH控制到2左右，為此要對高酸含鍺浸出液進(jìn)行降酸處理。

常規(guī)降酸時(shí)，容易出現(xiàn)局部pH過高區(qū)域，形成高酸難以溶解鐵硅鍺膠體沉淀，引起浸出鍺的損失。

實(shí)用新型內(nèi)容

針對當(dāng)前高酸含鍺浸出液進(jìn)行降酸時(shí)，容易出現(xiàn)局部pH過高區(qū)域，形成高酸難以溶解鐵硅鍺膠體沉淀，本實(shí)用新型提出一種抑制高酸含鍺浸出液降酸時(shí)形成鐵硅鍺膠體沉淀的裝置，即通過超聲預(yù)混槽對高酸含鍺液和砂漿進(jìn)行快速預(yù)混，避免礦砂漿降酸時(shí)出現(xiàn)局部pH 過高，形成鐵硅鍺膠體沉淀。

本實(shí)用新型為解決其技術(shù)問題而采用的技術(shù)方案是：

一種抑制高酸含鍺浸出液降酸時(shí)形成鐵硅鍺膠體沉淀的裝置，包括超聲預(yù)混槽12和降酸槽20，超聲預(yù)混槽12內(nèi)豎直設(shè)置有第一機(jī)械攪拌裝置，第一機(jī)械攪拌裝置的末端插設(shè)至超聲預(yù)混槽12的底部，超聲預(yù)混槽12內(nèi)豎直設(shè)置有相對于第一機(jī)械攪拌裝置軸對稱的兩排超聲振子4，超聲預(yù)混槽12頂端設(shè)置有礦砂漿管2和高酸含鍺液管3，礦砂漿管2和高酸含鍺液管3位于第一機(jī)械攪拌裝置兩側(cè)，超聲預(yù)混槽12的底部出口通過引流管10與降酸槽20的頂部入口連通，降酸槽20內(nèi)豎直設(shè)置有第二機(jī)械攪拌裝置，第二機(jī)械攪拌裝置位于降酸槽 20的中心軸上，降酸槽20的頂部和底部均設(shè)置有pH計(jì)。

所述超聲預(yù)混槽12內(nèi)豎直設(shè)置有相對于第一機(jī)械攪拌裝置軸對稱的第一導(dǎo)流柱11，第一導(dǎo)流柱11位于第一機(jī)械攪拌裝置的側(cè)面，降酸槽20內(nèi)豎直設(shè)置有相對于第二機(jī)械攪拌裝置軸對稱的第二導(dǎo)流柱24。

所述第一機(jī)械攪拌裝置包括第一電機(jī)1，第一電機(jī)1設(shè)置在超聲預(yù)混槽12的正上方，第一電機(jī)1的輸出軸上固定設(shè)置有第一攪拌軸5，第一攪拌軸5的底端固定設(shè)置有渦輪式攪拌漿9。

所述第二機(jī)械攪拌裝置包括第二電機(jī)19，第二電機(jī)19設(shè)置在降酸槽20的正上方，第二電機(jī)19的輸出軸上固定設(shè)置有第二攪拌軸21，第二攪拌軸21上設(shè)置有上層葉式攪拌槳葉22 和下層葉式攪拌槳葉23，上層葉式攪拌槳葉22位于降酸槽20的中部，下層葉式攪拌槳葉23 位于降酸槽20的底部。

所述每排超聲振子4串聯(lián)，相鄰超聲振子4的間距為2～4cm。

優(yōu)選的，所述超聲振子4設(shè)置在超聲預(yù)混槽12的內(nèi)槽壁，第一導(dǎo)流柱11距離超聲預(yù)混槽12的槽壁5～10cm。

優(yōu)選的，所述渦輪式攪拌漿9距離槽底5～10cm，渦輪式攪拌漿9的直徑為超聲預(yù)混槽 12直徑的1/5～1/2，渦輪式攪拌漿9的槳葉寬度為渦輪式攪拌漿9直徑的1/3～5/6。