[實用新型]一種帶有清潔功能的真空手臂

有效

• 申請號: 202221637322.3
• 申請日: 2022-06-28
• 公開（公告）號: CN217588890U
• 公開（公告）日: 2022-10-14
• 發明（設計）人: 王瑞華;章程;朱帥;董國慶;文國昇;金從龍
• 申請（專利權）人: 江西兆馳半導體有限公司
• 主分類號: H01L21/683
• 分類號: H01L21/683
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 何世磊

本實用新型提供一種帶有清潔功能的真空手臂，其中手臂板為一端直臂、另一端帶有兩個延伸臂的平板，延伸臂下端設有吸附層，延伸臂上貫穿設有操作孔，操作孔穿入設有吸嘴，直臂上端設有正壓電磁閥、負壓電磁閥，兩者分別連于四通管的兩個輸入端，四通管的兩個輸出端分別連于兩個吸嘴。將吸嘴作為吸附孔，將吸附層作為吸附面，在針對手臂板延伸臂實施晶圓的多次吸附作業后，通過更換電磁閥氣路對吸嘴內的塵埃堵塞進行一次性吹氣清除，下端面吸附層的聚四氟乙烯材質提供防粘性及潤滑性，以避免灰塵粘附并為晶圓提供光滑平整的貼合面，以此對真空手臂吸盤孔及吸盤面的堵塞、污染實施簡易高效的清潔操作，避免生產損失并保障晶圓生產工藝的正常實施。

技術領域

本實用新型屬于半導體制造技術領域，具體涉及一種帶有清潔功能的真空手臂。

背景技術

現有的半導體行業，晶圓片大多需要真空手臂取放片，目前行業內取放片都以直接接觸真空吸附片源為主，為確保晶圓形態平整，真空手臂的吸盤孔與吸盤面需保持齊平，從而與晶圓形成良好的貼合吸附效果。

然而，隨著作業工況的粉塵彌漫，真空手臂的吸盤面表面易粘附灰塵污染，如不能及時清理則會對吸附晶圓表面的平整形態造成破壞，影響產品品質；同時，隨著晶圓拾取作業的多次實施，真空手臂的吸盤孔內部容易吸入塵埃顆粒形成堵塞，引起吸附力下降，導致取片過程因吸附力不足而令晶圓摔碎，造成生產損失并阻礙晶圓生產工藝的正常實施。而每次針對上述部位的清潔操作較為繁瑣，因此，需要一種新的技術方案加以解決。

實用新型內容

針對上述現有技術中的不足，本實用新型提供了一種帶有清潔功能的真空手臂，以此對真空手臂吸盤孔及吸盤面的堵塞、污染實施簡易高效的清潔操作，避免生產損失并保障晶圓生產工藝的正常實施。

本實用新型通過以下技術方案實施：一種帶有清潔功能的真空手臂，包括手臂板，其中，所述手臂板為一端直臂、另一端帶有兩個延伸臂的Y形平板，所述延伸臂下端面貼附設有聚四氟乙烯材質的吸附層，每個所述延伸臂上都貫穿設有操作孔，每個所述操作孔都穿入設有吸嘴，所述吸嘴與所述吸附層的下端面齊平；所述直臂上端面設有正壓電磁閥、負壓電磁閥，所述正壓電磁閥、所述負壓電磁閥的輸入端分別通過氣管連接于壓縮泵、真空泵，所述正壓電磁閥、所述負壓電磁閥的輸出端分別通過氣管連接于四通管的兩個輸入端，所述四通管的兩個輸出端分別通過氣管連接于兩個所述吸嘴。

進一步的，所述負壓電磁閥與所述真空泵之間的連接管路設有真空計。

進一步的，二個所述吸嘴下方吸附設有晶圓，二個所述吸嘴的連接線與所述晶圓中心線重合。

進一步的，所述吸附層呈U形。

本實用新型的有益效果是：本裝置通過手臂板上分別設置正壓電磁閥、負壓電磁閥形成的二種回路，將吸嘴作為吸附孔，將吸附層作為貼合吸附面，在針對手臂板延伸臂實施晶圓的多次吸附作業后，可通過更換電磁閥氣路對吸嘴內的塵埃堵塞進行一次性吹氣清除，同時下端面吸附層的聚四氟乙烯材質提供防粘性及潤滑性，以避免灰塵粘附并為晶圓提供光滑平整的貼合面，以此對真空手臂吸盤孔及吸盤面的堵塞、污染實施簡易高效的清潔操作，避免生產損失并保障晶圓生產工藝的正常實施。

附圖說明

圖1是本實用新型一實施例的結構俯視圖；

圖2是本實用新型一實施例的結構仰視圖；

圖3是本實用新型一實施例的結構管路連接圖；

圖4是本實用新型一實施例的結構側視圖；

圖5是本實用新型一實施例的作業狀態圖。

圖中：10-手臂板、11-操作孔、12-吸附層、21-正壓電磁閥、22-負壓電磁閥、30-四通管、40-氣管、41-壓縮泵、42-真空泵、43-真空計、50-吸嘴、60-晶圓。

具體實施方式