[實用新型]磁體位置可調節的物理氣相沉積設備

有效

• 申請號: 202221631627.3
• 申請日: 2022-06-28
• 公開（公告）號: CN217628599U
• 公開（公告）日: 2022-10-21
• 發明（設計）人: 禪明;王金;黃善發;李靖
• 申請（專利權）人: 盛吉盛半導體科技（無錫）有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/54
• 代理公司: 上海市匯業律師事務所 31325
• 代理人: 王函

本實用新型涉及一種磁體位置可調節的物理氣相沉積設備，其中，包括傳動裝置承載機構包括固定于腔體上側的軸承座、安裝于軸承座的中心孔內的調心軸承、安裝于軸承座上側的軸承端蓋、用于承載傳動裝置的浮動板；數個第一螺釘分別從浮動板的上側穿過對應的第一螺紋孔與軸承端蓋的上頂面相抵接觸；數個第二螺釘分別從浮動板的上側穿過對應的第一通孔與軸承端蓋螺紋連接，并由第二螺釘壓緊設于浮動板與軸承端蓋之間的第一彈性元件；轉軸的第一端依次穿過浮動板、軸承端蓋、調心軸承及腔體上的第二通孔與連接磁體組件的夾套相連接，轉軸的第二端與傳動裝置相連接、頂撐于調心軸承與夾套之間的第二彈性元件。該設備具備靈活、適應性好的特點。

技術領域

本實用新型涉及芯片制造技術領域，尤其涉及一種磁體位置可調節的物理氣相沉積設備。

背景技術

物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)廣泛用于當今的平板顯示器等半導體產品的制造工藝中。PVD一般在高真空腔室中執行并通常包括磁控濺射工藝。通過將靶材放置于襯底上方，在靶和襯底之間導入諸如氬氣等氣體，并利用高電壓直流信號激發氣體以產生轟擊靶材的離子，靶材包含需要在襯底上形成薄膜的材料。由于離子轟擊靶材，靶原子離開原位并沉積在襯底上。離開原位的靶原子通常具有相當大的動能并且當它們撞擊襯底時，該原子趨向強粘附到襯底上。磁控進一步包括旋轉或直線移動的磁場，以增加PVD腔室中的等離子密度，并因此增加襯底上靶材的沉積速度。

為了使沉積成膜均勻，通常要求磁場與靶材具有很好的匹配性，而如圖1所示的現有PVD設備結構包括設于腔體13外側的電機1、電機支架2、第一從動帶輪 3、同步帶4、第二從動帶輪5、固定螺母6、軸承7及軸承座8等部件，以及設于腔體內側的磁體組件9、靶材10、底材托板11，其中，腔體13上還設有絕緣外殼 12，腔體13上設有一通孔，供轉軸15穿過腔體外側的軸承等部件通過腔體內部的夾套14與磁體組件9相連接，靶材10通過螺釘16固定于絕緣外殼上，同時靶材的上下兩側還設有上密封圈17和下密封圈18進行密封，具體連接關系可參閱圖1 所示。這種通常裝配結構由于軸承7與夾套14、磁體組件硬性連接，故安裝后無法進行磁控組件與靶材的距離和角度關系調整，這就無法進行磁場與靶材進行匹配調試。因此提出一種可以調整的磁控組件是本領域技術人員需要解決的問題。

實用新型內容

本實用新型的目的是克服了上述現有技術中的缺點，提供了一種結構靈活、便于調節、適應性好的磁體位置可調節的物理氣相沉積設備。

為了實現上述的目的，本實用新型的磁體位置可調節的物理氣相沉積設備如下：

該磁體位置可調節的物理氣相沉積設備，其主要特點是，包括設于腔體外側的傳動裝置承載機構及設于腔體內側的磁體組件；其中，傳動裝置承載機構包括：

軸承座，固定于所述腔體上側；

調心軸承，安裝于所述軸承座的中心孔內，且所述調心軸承與所述軸承座同軸設置；

軸承端蓋，安裝于所述軸承座上側，以限制所述調心軸承軸向移動；

浮動板，用于承載傳動裝置，所述浮動板上包括數個分布于所述浮動板外圍的第一螺紋孔及第一通孔；

數個第一螺釘分別從所述浮動板的上側穿過對應的所述第一螺紋孔與所述軸承端蓋的上頂面相抵接觸；數個第二螺釘分別從所述浮動板的上側穿過對應的所述第一通孔與所述軸承端蓋螺紋連接，并由所述第二螺釘壓緊設于所述浮動板與所述軸承端蓋之間的第一彈性元件；

轉軸，所述轉軸的第一端依次穿過所述浮動板、軸承端蓋、調心軸承及所述腔體上的第二通孔與連接磁體組件的夾套相連接，所述轉軸的第二端與所述傳動裝置相連接；

第一彈性元件，頂撐于所述調心軸承與所述夾套之間，且所述第一彈性元件套設于所述轉軸上。