[實用新型]清潔設備的基站、清潔機構(gòu)和清潔系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202221309144.1 | 申請日: | 2022-05-27 |
| 公開(公告)號: | CN218515695U | 公開(公告)日: | 2023-02-24 |
| 發(fā)明(設計)人: | 趙國棟;王靈童;郭豹 | 申請(專利權)人: | 科沃斯機器人股份有限公司 |
| 主分類號: | A47L11/40 | 分類號: | A47L11/40 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識產(chǎn)權代理有限公司 44570 | 代理人: | 徐成澤 |
| 地址: | 215124 江蘇省蘇州市*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 清潔 設備 基站 機構(gòu) 系統(tǒng) | ||
本申請?zhí)峁┮环N清潔設備的基站、清潔機構(gòu)和清潔系統(tǒng),所述清潔設備的基站包括本體、清潔凸筋以及進風口。所述本體具有清潔槽,所述清潔槽具有用于供清潔設備進入的第一端以及位于所述第一端的側(cè)面的側(cè)壁;所述清潔凸筋上設置有表面粗糙結(jié)構(gòu),所述清潔凸筋包括第一凸筋;所述進風口設置在所述清潔槽內(nèi)以用于供烘干氣流進入所述清潔槽。其中,相較于所述第一凸筋靠近所述側(cè)壁的一端,所述進風口更遠離所述側(cè)壁,從而使用時進風口大致地對準清潔模塊的中心位置,以實現(xiàn)較佳的烘干效果。
技術領域
本申請涉及清潔裝置技術領域,具體涉及一種清潔設備的基站、清潔機構(gòu)和清潔系統(tǒng)。
背景技術
掃拖一體機器人等清潔設備上安裝有如抹布盤、滾刷等的清潔模塊,在清潔設備運行一段時間后,設置在其底部的清潔模塊將變臟,因此需要對清潔模塊進行清潔。
實用新型內(nèi)容
本申請?zhí)峁┮环N清潔設備的基站、清潔機構(gòu)和清潔系統(tǒng),以提高對清潔模塊的烘干效果。
本申請的第一方面提供一種清潔設備的基站,用于清洗清潔設備的清潔模塊,所述清潔設備的基站包括本體、清潔凸筋以及進風口。所述本體具有清潔槽,所述清潔槽具有用于供清潔模塊進入的第一端以及位于所述第一端的側(cè)面的側(cè)壁;所述清潔凸筋位于所述清潔槽內(nèi)且其上設置有表面粗糙結(jié)構(gòu),所述清潔凸筋包括第一凸筋,所述第一凸筋由所述清潔槽的側(cè)壁向所述清潔槽的內(nèi)側(cè)延伸;所述進風口設置在所述清潔槽內(nèi)以用于供烘干氣流進入所述清潔槽。
其中,相較于所述第一凸筋靠近所述側(cè)壁的一端,所述進風口更遠離所述側(cè)壁。
在一些實施例中,所述清潔模塊在所述清潔槽內(nèi)的投影具有圓形的外輪廓線,所述外輪廓線的半徑為R,所述進風口的軸線與所述外輪廓線的圓心之間的圓心距為d,圓心距d小于半徑R的1/3。
在一些實施例中,所述清潔槽還具有與所述第一端相對的第二端;所述第一凸筋由所述清潔槽靠近所述第二端的壁面的端部向所述清潔槽內(nèi)延伸;所述進風口位于所述清潔槽靠近所述第二端的壁面上。
在一些實施例中,所述清潔槽內(nèi)沿著靠近所述第二端的壁面的延伸方向?qū)ΨQ地設置有兩個清潔區(qū)域,每個清潔區(qū)域中均設置有所述第一凸筋;所述清潔凸筋還包括第二凸筋,所述第二凸筋橫跨兩個所述清潔區(qū)域并為兩個所述清潔區(qū)域共用,所述第一凸筋和所述第二凸筋不相交。
在一些實施例中,在每個清潔區(qū)域中,所述第一凸筋的延長線和所述第二凸筋的延長線相交于一交點。
在一些實施例中,所述清潔凸筋還包括第三凸筋,所述第一凸筋、第二凸筋和第三凸筋均不相交,并且三者的延長線相交于一交點。
在一些實施例中,所述進風口的軸線經(jīng)過所述交點。
在一些實施例中,所述交點與所述清潔模塊在所述清潔槽內(nèi)的投影的中心之間的距離小于所述清潔模塊的半徑的1/3。
在一些實施例中,相鄰兩個所述清潔凸筋之間的夾角在90°-160°之間。
在一些實施例中,所述第一凸筋和所述第二凸筋之間的夾角,大于所述第二凸筋和所述第三凸筋之間的夾角以及所述第一凸筋和所述第三凸筋之間的夾角。
在一些實施例中,所述清潔設備的基站還包括進液口,所述進液口設置在所述清潔槽上以用于接入清潔介質(zhì);所述第一凸筋上相對設置有槽壁,相對設置的所述槽壁之間形成有供液通道,所述進液口連通所述供液通道,所述供液通道上設置有所述表面粗糙結(jié)構(gòu),并且所述槽壁上形成有用于對所述清潔模塊進行承載和限位的階梯結(jié)構(gòu)。
在一些實施例中,所述清潔槽在靠近所述第一端的壁面的中部設置有支撐件,所述支撐件上形成有用于對所述清潔模塊進行承載和限位的階梯結(jié)構(gòu),并且所述支撐件的下側(cè)設有一凹陷區(qū)域,所述凹陷區(qū)域內(nèi)設置有排液口,所述支撐件上設置有位于所述排液口上游的過濾組件。
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