[實用新型]清潔設(shè)備的基站、清潔機構(gòu)和清潔系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202221309144.1
• 申請日: 2022-05-27
• 公開（公告）號: CN218515695U
• 公開（公告）日: 2023-02-24
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 趙國棟;王靈童;郭豹
• 申請（專利權(quán)）人: 科沃斯機器人股份有限公司
• 主分類號: A47L11/40
• 分類號: A47L11/40
• 代理公司: 深圳紫藤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570
• 代理人: 徐成澤

1.一種清潔設(shè)備的基站，用于清洗清潔設(shè)備的清潔模塊，其特征在于，包括，

本體，具有清潔槽，所述清潔槽具有用于供清潔設(shè)備進入的第一端以及位于所述第一端的側(cè)面的側(cè)壁；

清潔凸筋，位于所述清潔槽內(nèi)且其上設(shè)置有表面粗糙結(jié)構(gòu)，所述清潔凸筋包括第一凸筋，所述第一凸筋上形成有供液通道，所述供液通道上設(shè)置有所述表面粗糙結(jié)構(gòu)；

進風(fēng)口，設(shè)置在所述清潔槽內(nèi)以用于供烘干氣流進入所述清潔槽；

其中，相較于所述第一凸筋靠近所述側(cè)壁的一端，所述進風(fēng)口更遠離所述側(cè)壁。

2.如權(quán)利要求1所述的清潔設(shè)備的基站，其特征在于，所述清潔模塊在所述清潔槽內(nèi)的投影具有圓形的外輪廓線，所述外輪廓線的半徑為R，所述進風(fēng)口的軸線與所述外輪廓線的圓心之間的圓心距為d，圓心距d小于半徑R的1/3。

3.如權(quán)利要求1所述的清潔設(shè)備的基站，其特征在于，

所述清潔槽還具有與所述第一端相對的第二端；

所述第一凸筋由所述清潔槽靠近所述第二端的壁面的端部向所述清潔槽內(nèi)延伸；

所述進風(fēng)口位于所述清潔槽靠近所述第二端的壁面上。

4.如權(quán)利要求3所述的清潔設(shè)備的基站，其特征在于，

所述清潔槽內(nèi)沿著靠近所述第二端的壁面的延伸方向?qū)ΨQ地設(shè)置有兩個清潔區(qū)域，每個清潔區(qū)域中均設(shè)置有所述第一凸筋；

所述清潔凸筋還包括第二凸筋，所述第二凸筋橫跨兩個所述清潔區(qū)域并為兩個所述清潔區(qū)域共用，所述第一凸筋和所述第二凸筋不相交。

5.如權(quán)利要求4所述的清潔設(shè)備的基站，其特征在于，在每個清潔區(qū)域中，所述第一凸筋的延長線和所述第二凸筋的延長線相交于一交點。

6.如權(quán)利要求4所述的清潔設(shè)備的基站，其特征在于，所述清潔凸筋還包括第三凸筋，所述第一凸筋、第二凸筋和第三凸筋均不相交，并且三者的延長線相交于一交點。

7.如權(quán)利要求5或6所述的清潔設(shè)備的基站，其特征在于，所述進風(fēng)口的軸線經(jīng)過所述交點。

8.如權(quán)利要求7所述的清潔設(shè)備的基站，其特征在于，所述交點與所述清潔模塊在所述清潔槽內(nèi)的投影的中心之間的距離小于所述清潔模塊的半徑的1/3。

9.如權(quán)利要求6所述的清潔設(shè)備的基站，其特征在于，相鄰兩個所述清潔凸筋之間的夾角在90°-160°之間。

10.如權(quán)利要求9所述的清潔設(shè)備的基站，其特征在于，所述第一凸筋和所述第二凸筋之間的夾角，大于所述第二凸筋和所述第三凸筋之間的夾角以及所述第一凸筋和所述第三凸筋之間的夾角。

11.如權(quán)利要求1所述的清潔設(shè)備的基站，其特征在于，

還包括進液口，所述進液口設(shè)置在所述清潔槽上以用于接入清潔介質(zhì)；

所述第一凸筋上相對設(shè)置有槽壁，相對設(shè)置的所述槽壁之間形成有供液通道，所述進液口連通所述供液通道，并且所述槽壁上形成有用于對所述清潔模塊進行承載和限位的階梯結(jié)構(gòu)。

12.如權(quán)利要求1所述的清潔設(shè)備的基站，其特征在于，所述清潔槽在靠近所述第一端的壁面的中部設(shè)置有支撐件，所述支撐件上形成有用于對所述清潔模塊進行承載和限位的階梯結(jié)構(gòu)，并且所述支撐件的下側(cè)設(shè)有一凹陷區(qū)域，所述凹陷區(qū)域內(nèi)設(shè)置有排液口，所述支撐件上設(shè)置有位于所述排液口上游的過濾組件。

13.如權(quán)利要求12所述的清潔設(shè)備的基站，其特征在于，所述支撐件可拆卸地連接在所述本體上。

14.如權(quán)利要求1所述的清潔設(shè)備的基站，其特征在于，還包括至少一個限位凸筋，所述限位凸筋位于所述清潔模塊在所述清潔槽內(nèi)的投影的外側(cè)，以用于對所述清潔模塊進行粗限位。