[實(shí)用新型]光罩局部顯影輔助裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202221250468.2 | 申請(qǐng)日: | 2022-05-23 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN217543655U | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-10-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王小光;謝慶豐 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 深圳市科利德光電材料股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G03F1/68 | 分類(lèi)號(hào): | G03F1/68;G03F7/30 |
| 代理公司: | 深圳市翼智博知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44320 | 代理人: | 黃莉 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 局部 顯影 輔助 裝置 | ||
本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種光罩局部顯影輔助裝置,包括:懸空設(shè)置以在下方形成用于供待顯影光罩放置及移動(dòng)的放置區(qū)域的承載支架;組裝于承載支架上用于供操作人員查找及觀察待顯影光罩表面的待顯影區(qū)域的顯微鏡;組裝于承載支架上用于向待顯影區(qū)域供應(yīng)顯影液的液滴供應(yīng)器;以及組裝于承載支架上用于從顯影完成后的待顯影區(qū)域吸取殘留顯影液的殘液吸取器。本實(shí)施例避免通過(guò)肉眼直接查找,減小勞動(dòng)強(qiáng)度,并提高精確度,然后液滴供應(yīng)器向待顯影區(qū)域供應(yīng)顯影液,對(duì)其進(jìn)行顯影,同時(shí)可借助顯微鏡對(duì)待顯影區(qū)域進(jìn)行觀察,殘液吸取器直接將殘留的顯影液吸附帶走,保證光罩顯影的有效性。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型實(shí)施例涉及光罩顯影技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種光罩局部顯影輔助裝置。
背景技術(shù)
在光罩的制程中,需要對(duì)曝光后的光罩實(shí)施顯影,其中,在顯影過(guò)程中,通常需要對(duì)光罩表面局部的待顯影區(qū)域進(jìn)行顯影。傳統(tǒng)針對(duì)光罩表面局部的待顯影區(qū)域進(jìn)行顯影的方法主要是通過(guò)操作人員肉眼在光罩表面查找出待顯影區(qū)域,然后將顯影液滴落在待顯影區(qū)域上,最后在待顯影區(qū)域顯影完成后,再將光罩活動(dòng)使光罩表面殘留的顯影液排除。但是,人工肉眼很難準(zhǔn)確的在光罩表面找出待顯影區(qū)域,不但勞動(dòng)強(qiáng)度大,而且也很難判斷顯影狀態(tài),容易導(dǎo)致出現(xiàn)欠顯或過(guò)顯現(xiàn)象;另外,當(dāng)待顯影區(qū)域在光罩中部區(qū)域時(shí),排除顯影液時(shí),顯影液在滑落的過(guò)程容易對(duì)光罩的其他區(qū)域造成污染,最終造成光罩的部分區(qū)域過(guò)度顯影。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型實(shí)施例要解決的技術(shù)問(wèn)題在于,提供一種光罩局部顯影輔助裝置,能有效減小勞動(dòng)強(qiáng)度,提高光罩局部顯影的精度。
為了解決上述技術(shù)問(wèn)題,本實(shí)用新型實(shí)施例提供以下技術(shù)方案:一種光罩局部顯影輔助裝置,包括:
懸空設(shè)置以在下方形成用于供待顯影光罩放置及移動(dòng)的放置區(qū)域的承載支架;
組裝于所述承載支架上用于供操作人員查找及觀察所述待顯影光罩表面的待顯影區(qū)域的顯微鏡;
組裝于所述承載支架上用于向所述待顯影區(qū)域供應(yīng)顯影液的液滴供應(yīng)器;以及
組裝于所述承載支架上用于從顯影完成后的所述待顯影區(qū)域吸取殘留顯影液的殘液吸取器。
進(jìn)一步的,所述承載支架底部對(duì)稱(chēng)地設(shè)置有若干個(gè)支撐腳,所述放置區(qū)域位于所述若干個(gè)支撐腳之間。
進(jìn)一步的,所述液滴供應(yīng)器為滴管或注射器。
進(jìn)一步的,所述殘液吸取器為滴管或注射器。
進(jìn)一步的,所述液滴供應(yīng)器和所述殘液吸取器均借助固定件傾斜地固定于所述承載支架上,且所述液滴供應(yīng)器和所述殘液吸取器的底端位于所述顯微鏡的觀察窗的正下方側(cè)旁。
進(jìn)一步的,所述固定件包括對(duì)應(yīng)套設(shè)于所述液滴供應(yīng)器或殘液吸取器外側(cè)的套環(huán)以及將所述套環(huán)固定于所述承載支架上的固定螺栓。
采用上述技術(shù)方案后,本實(shí)用新型實(shí)施例至少具有如下有益效果:本實(shí)用新型實(shí)施例通過(guò)采用光罩局部顯影輔助裝置,在具體操作時(shí),操作人員可通過(guò)移動(dòng)放置于放置區(qū)域內(nèi)的待顯影光罩,使其表面的待顯影區(qū)域落入承載支架上的顯微鏡的觀察窗內(nèi),從而被操作人員找到,避免通過(guò)肉眼直接查找,減小勞動(dòng)強(qiáng)度,并提高精確度,然后利用液滴供應(yīng)器向待顯影區(qū)域供應(yīng)顯影液,對(duì)其進(jìn)行顯影,同時(shí)可借助顯微鏡對(duì)待顯影區(qū)域進(jìn)行觀察,保證顯影的準(zhǔn)確,避免發(fā)生欠顯或過(guò)顯,最后,利用殘液吸取器直接將殘留的顯影液吸附帶走,無(wú)需通過(guò)側(cè)傾光罩的方式排出殘留的顯影液,也避免對(duì)光罩其他區(qū)域的污染,保證光罩顯影的有效性。
附圖說(shuō)明
圖1為本實(shí)用新型光罩局部顯影輔助裝置一個(gè)可選實(shí)施例的立體結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為本實(shí)用新型光罩局部顯影輔助裝置一個(gè)可選實(shí)施例固定件位置的橫截面示意圖。
具體實(shí)施方式
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G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專(zhuān)門(mén)適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過(guò)帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過(guò)電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過(guò)100nm或更短波長(zhǎng)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計(jì)工藝
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