[實用新型]光罩局部顯影輔助裝置有效
| 申請號： | 202221250468.2 | 申請日： | 2022-05-23 |
| 公開（公告）號： | CN217543655U | 公開（公告）日： | 2022-10-04 |
| 發明（設計）人： | 王小光;謝慶豐 | 申請（專利權）人： | 深圳市科利德光電材料股份有限公司 |
| 主分類號： | G03F1/68 | 分類號： | G03F1/68;G03F7/30 |
| 代理公司： | 深圳市翼智博知識產權事務所(普通合伙) 44320 | 代理人： | 黃莉 |
| 地址： | 518000 廣東省深圳市龍崗區寶龍街道寶*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 局部 顯影 輔助 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種光罩局部顯影輔助裝置，其特征在于，所述裝置包括：
懸空設置以在下方形成用于供待顯影光罩放置及移動的放置區域的承載支架；
組裝于所述承載支架上用于供操作人員查找及觀察所述待顯影光罩表面的待顯影區域的顯微鏡；
組裝于所述承載支架上用于向所述待顯影區域供應顯影液的液滴供應器；以及
組裝于所述承載支架上用于從顯影完成后的所述待顯影區域吸取殘留顯影液的殘液吸取器。
2.如權利要求1所述的光罩局部顯影輔助裝置，其特征在于，所述承載支架底部對稱地設置有若干個支撐腳，所述放置區域位于所述若干個支撐腳之間。
3.如權利要求1所述的光罩局部顯影輔助裝置，其特征在于，所述液滴供應器為滴管或注射器。
4.如權利要求1所述的光罩局部顯影輔助裝置，其特征在于，所述殘液吸取器為滴管或注射器。
5.如權利要求1所述的光罩局部顯影輔助裝置，其特征在于，所述液滴供應器和所述殘液吸取器均借助固定件傾斜地固定于所述承載支架上，且所述液滴供應器和所述殘液吸取器的底端位于所述顯微鏡的觀察窗的正下方側旁。
6.如權利要求5所述的光罩局部顯影輔助裝置，其特征在于，所述固定件包括對應套設于所述液滴供應器或殘液吸取器外側的套環以及將所述套環固定于所述承載支架上的固定螺栓。
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G03 攝影術；電影術；利用了光波以外其他波的類似技術；電記錄術；全息攝影術
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
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G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
