[實用新型]亞大氣壓化學氣相沉積設備的氣壓控制系統

有效

• 申請號: 202220573923.6
• 申請日: 2022-03-16
• 公開（公告）號: CN217077787U
• 公開（公告）日: 2022-07-29
• 發明（設計）人: 王磊;江為團;王建上;陳明華
• 申請（專利權）人: 廈門士蘭集科微電子有限公司
• 主分類號: C23C16/52
• 分類號: C23C16/52;C23C16/44;C23C16/458;H01L21/205
• 代理公司: 北京成創同維知識產權代理有限公司 11449
• 代理人: 馬陸娟

1.一種亞大氣壓化學氣相沉積設備的氣壓控制系統，其特征在于，包括：

反應腔；

承載臺，設置在所述反應腔中，所述承載臺承載晶圓；

第一干式真空泵，通過第一管路與所述反應腔相連通，所述第一干式真空泵抽取所述反應腔中的氣體；以及

第二干式真空泵，通過第二管路與所述承載臺相連通，所述第二干式真空泵抽取所述承載臺上的所述晶圓背面的氣體，以將所述晶圓吸附于所述承載臺上。

2.根據權利要求1所述的氣壓控制系統，其特征在于，所述氣壓控制系統還包括：

第一氣動閥，設置在所述第二管路上，用于控制所述第二管路的通斷。

3.根據權利要求1所述的氣壓控制系統，其特征在于，所述氣壓控制系統還包括：

節流閥，設置在所述第一管路上，用于控制所述反應腔中氣壓的大小。

4.根據權利要求1所述的氣壓控制系統，其特征在于，所述氣壓控制系統還包括：

第一氣壓檢測表，與所述反應腔相連接，用于檢測所述反應腔中的氣壓值。

5.根據權利要求1所述的氣壓控制系統，其特征在于，所述承載臺中設置有若干吸附孔，以將所述晶圓吸附固定在所述承載臺的表面上。

6.根據權利要求1所述的氣壓控制系統，其特征在于，所述氣壓控制系統還包括：

第一隔離閥，設置在所述第一管路上，用于控制所述第一管路的通斷。

7.根據權利要求1所述的氣壓控制系統，其特征在于，所述氣壓控制系統包括兩個所述承載臺；

所述第二管路包括：

主管路，所述主管路的第一端與所述第二干式真空泵相連接；

兩個子管路，所述子管路的第一端與所述主管路的第二端相連接，不同的所述子管路的第二端與對應的所述承載臺相連通。

8.根據權利要求7所述的氣壓控制系統，其特征在于，所述氣壓控制系統還包括：

第一子管路氣動閥，設置在所述第一子管路上，所述第一子管路氣動閥控制所述第一子管路的通斷；

第二子管路氣動閥，設置在所述第二子管路上，所述第二子管路氣動閥控制所述第二子管路的通斷。

9.根據權利要求1所述的氣壓控制系統，其特征在于，所述氣壓控制系統還包括：

第三管路，所述第三管路的第一端與所述第一管路相連通，所述第三管路的第二端與所述第二管路相連通；

第二氣動閥，設置在所述第三管路上，用于控制所述第三管路的通斷。

10.根據權利要求9所述的氣壓控制系統，其特征在于，所述氣壓控制系統還包括：

第二氣壓檢測表，與所述第一管路相連接，用于檢測所述第一管路、所述第二管路中的氣壓。