[實用新型]一種旋轉陰極磁控濺射鍍膜單元

有效

• 申請號: 202220480163.4
• 申請日: 2022-03-07
• 公開（公告）號: CN217127521U
• 公開（公告）日: 2022-08-05
• 發明（設計）人: 孫偉明;眭凌杰;吳景權;伊伙根;郭振浩
• 申請（專利權）人: 福建新越金屬材料科技有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/54
• 代理公司: 泉州市博一專利事務所(普通合伙) 35213
• 代理人: 方傳榜;呂森裕

本實用新型涉及一種旋轉陰極磁控濺射鍍膜單元，包括陰極靶材、陰極裝配座、兩個側遮蔽板以及數個輔助遮蔽板，陰極靶材外周沿呈圓柱狀，陰極靶材長度方向上的兩端分別可定軸轉動地裝配于一個陰極裝配座，兩個側遮蔽板相互平行且分別位于陰極靶材在鍍膜基材移動方向上的兩側設置。上述輔助遮蔽板一端可拆卸地裝配于上述側遮蔽板，輔助遮蔽板另一端朝向上述陰極靶材與上述鍍膜基材之間延伸。本實用新型通過輔助遮蔽板的設置，當鍍膜基材運行至鍍膜腔體內并開始鍍膜時，從旋轉陰極靶材濺射出來的鍍膜材料在向鍍膜基材運行的過程當中，位于輔助遮蔽板下方的陰極靶材濺射出的物質將受到輔助遮蔽板遮擋，進而改善在鍍膜基材上形成的膜層厚度的均勻性。

技術領域

本實用新型涉及物理氣相沉積中的磁控濺射設備領域，具體涉及一種旋轉陰極磁控濺射鍍膜單元。

背景技術

磁控濺射旋轉圓柱陰極靶（簡稱旋轉靶）自發明至今，已經被廣泛的應用于工業制備大面積功能性薄膜的生產中。雖然經歷了幾十年的發展和創新，旋轉靶在工業生產中仍然存在著如下問題：其一，在靶材表面上垂直于電場的磁場分布不均勻，造成靶材濺射刻蝕不均勻，使靶材利用率降低；同時，由于靶材濺射刻蝕不均勻，也導致了大面積鍍膜過程中膜層厚度沿著靶材的長度方向的不均勻，進而影響到膜層的質量以及產品的顏色；其二，旋轉靶材沿長度方向的材料密度及質量均勻性也將影響到靶材沿其長度方向的濺射刻蝕均勻性。在實際生產過程當中我們發現，直徑相同的兩根靶材，在同一個磁控濺射單元中使用后，靶材的刻蝕均勻性也有所不同，這主要是由于靶材的質量及密度不均勻導致。

而如申請公布號為CN108193183A的中國發明專利申請公開文件中涉及的一種可調節陰極擋板，通過在陰極擋板設置兩塊相對放置、軸對稱的L型擋板，并在L型擋板的長板底端設可調節的伸縮機構，通過調整擋板開口大小達到調節磁控濺射陰極成膜速率從而優化大面積鍍膜玻璃橫向均勻性。但是該結構實際應用中并不便捷，具體的如上述每一批次陰極靶材由于材料密度、質量均勻性等不同，都會影響膜層厚度均勻性，即針對每一批次陰極靶材都需要相應調整上述開口大小，而該L型擋板即使同一以開口調到最大作為該調整的參照狀態不夠精確且該螺栓調整方式在實際操作中每一次調整都要反復拆裝螺栓，操作繁瑣。

發明內容

本實用新型提供一種旋轉陰極磁控濺射鍍膜單元，以解決上述問題。

本實用新型采用如下技術方案：

一種旋轉陰極磁控濺射鍍膜單元，旋轉陰極磁控濺射鍍膜單元用于為鍍膜基材鍍膜，鍍膜基材可移動設置且移動方向經過旋轉陰極磁控濺射鍍膜單元。該旋轉陰極磁控濺射鍍膜單元包括陰極靶材、陰極裝配座、兩個側遮蔽板以及數個輔助遮蔽板，陰極靶材外周沿呈圓柱狀，陰極靶材長度方向上的兩端分別可定軸轉動地裝配于一個陰極裝配座，陰極靶材長度方向垂直于上述鍍膜基材移動方向，兩個側遮蔽板相互平行且分別位于陰極靶材在鍍膜基材移動方向上的兩側設置。上述輔助遮蔽板一端可拆卸地裝配于上述側遮蔽板，輔助遮蔽板另一端朝向上述陰極靶材與上述鍍膜基材之間延伸。

進一步地：

一種旋轉陰極磁控濺射鍍膜單元還包括陽極以及頂遮蔽板，陽極設于其附設的陽極屏蔽罩內，頂遮蔽板設于上述鍍膜基材上方，頂遮蔽板、鍍膜基材、上述陰極靶材、陽極屏蔽罩由上往下依次設置。

上述鍍膜基材正對上述陰極靶材的一面為鍍膜面。該陰極靶材設有兩個，兩個陰極靶材長度方向平行設置，兩個陰極靶材長度方向所在平面平行于上述鍍膜面。兩個上述側遮蔽板分別設于兩個陰極靶材相互背離的一側。

上述頂遮蔽板設有兩個，兩個頂遮蔽板沿平行于上述陰極靶材長度方向的方向布設。上述頂遮蔽板呈折板狀，頂遮蔽板位于上述鍍膜基材上方的一端平行于上述鍍膜面，頂遮蔽板位于鍍膜基材上方的一端相向延伸至鍍膜基材中部設置且頂遮蔽板折板狀結構的另一端分別位于上述陰極裝配座背離陰極靶材所在位置的兩側。

一種旋轉陰極磁控濺射鍍膜單元還包括兩組冷卻管路，兩個冷卻管路分別位于兩個上述側遮蔽板相互背離的一側設置。該側遮蔽板裝配于上述冷卻管路。