[實用新型]一種旋轉陰極磁控濺射鍍膜單元

有效

• 申請號: 202220480163.4
• 申請日: 2022-03-07
• 公開（公告）號: CN217127521U
• 公開（公告）日: 2022-08-05
• 發明（設計）人: 孫偉明;眭凌杰;吳景權;伊伙根;郭振浩
• 申請（專利權）人: 福建新越金屬材料科技有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/54
• 代理公司: 泉州市博一專利事務所(普通合伙) 35213
• 代理人: 方傳榜;呂森裕

1.一種旋轉陰極磁控濺射鍍膜單元，旋轉陰極磁控濺射鍍膜單元用于為鍍膜基材鍍膜，鍍膜基材可移動設置且移動方向經過旋轉陰極磁控濺射鍍膜單元；該旋轉陰極磁控濺射鍍膜單元包括陰極靶材、陰極裝配座以及兩個側遮蔽板，陰極靶材外周沿呈圓柱狀，陰極靶材長度方向上的兩端分別可定軸轉動地裝配于一個陰極裝配座，陰極靶材長度方向垂直于所述鍍膜基材移動方向，兩個側遮蔽板相互平行且分別位于陰極靶材在鍍膜基材移動方向上的兩側設置；其特征在于：還包括數個輔助遮蔽板，輔助遮蔽板一端可拆卸地裝配于所述側遮蔽板，輔助遮蔽板另一端朝向所述陰極靶材與所述鍍膜基材之間延伸。

2.根據權利要求1所述的一種旋轉陰極磁控濺射鍍膜單元，其特征在于：還包括陽極以及頂遮蔽板，陽極設于其附設的陽極屏蔽罩內，頂遮蔽板設于所述鍍膜基材上方，頂遮蔽板、鍍膜基材、所述陰極靶材、陽極屏蔽罩由上往下依次設置。

3.根據權利要求2所述的一種旋轉陰極磁控濺射鍍膜單元，其特征在于：所述鍍膜基材正對所述陰極靶材的一面為鍍膜面；該陰極靶材設有兩個，兩個陰極靶材長度方向平行設置，兩個陰極靶材長度方向所在平面平行于所述鍍膜面；兩個所述側遮蔽板分別設于兩個陰極靶材相互背離的一側。

4.根據權利要求3所述的一種旋轉陰極磁控濺射鍍膜單元，其特征在于：所述頂遮蔽板設有兩個，兩個頂遮蔽板沿平行于所述陰極靶材長度方向的方向布設；所述頂遮蔽板呈折板狀，頂遮蔽板位于所述鍍膜基材上方的一端平行于所述鍍膜面，頂遮蔽板位于鍍膜基材上方的一端相向延伸至鍍膜基材中部設置且頂遮蔽板折板狀結構的另一端分別位于所述陰極裝配座背離陰極靶材所在位置的兩側。

5.根據權利要求3或4所述的一種旋轉陰極磁控濺射鍍膜單元，其特征在于：所述輔助遮蔽板包括遮蔽主體以及連接端，遮蔽主體與連接端一體成型設置，遮蔽主體通過連接端可拆卸地裝配于所述側遮蔽板。

6.根據權利要求5所述的一種旋轉陰極磁控濺射鍍膜單元，其特征在于：所述輔助遮蔽板分兩組設置，兩組輔助遮蔽板分別可拆卸裝配于兩個所述側遮蔽板。

7.根據權利要求6所述的一種旋轉陰極磁控濺射鍍膜單元，其特征在于：所述輔助遮蔽板整體呈F字型結構設置，輔助遮蔽板F字型結構內相互平行的兩個板狀結構為所述連接端，輔助遮蔽板F字型結構內位于與連接端兩塊板狀結構處于相互垂直平面的板狀結構為所述遮蔽主體；該連接端的兩個相互平行的板狀結構之間間距與所述側遮蔽板的厚度相配適，連接端卡設于側遮蔽板頂沿，連接端兩個相互平行的板狀結構夾設于側遮蔽板兩側；該遮蔽主體所在平面平行于所述鍍膜面；兩組輔助遮蔽板一一對應且對應輔助遮蔽板的遮蔽主體相向延伸。

8.根據權利要求5所述的一種旋轉陰極磁控濺射鍍膜單元，其特征在于：所述輔助遮蔽板沿平行于所述陰極靶材長度方向的方向依次布設且相鄰的輔助遮蔽板相互鄰接。

9.根據權利要求7或8所述的一種旋轉陰極磁控濺射鍍膜單元，其特征在于：所述遮蔽主體由其所在的所述側遮蔽板朝向另一個側遮蔽板所在位置的方向延伸的延伸距離為所述輔助遮蔽板的長度，遮蔽主體沿平行于所述陰極靶材長度方向的方向延伸的延伸距離為輔助遮蔽板的寬度；每一輔助遮蔽板的寬度均相等；每一輔助遮蔽板均對應一段長度為一個輔助遮蔽板寬度的陰極靶材；每一輔助遮蔽板的長度與跟其對應的一段陰極靶材在輔助遮蔽板裝配前旋轉陰極磁控濺射鍍膜單元完成一個鍍膜周期該陰極靶材外徑的減少量對應。

10.根據權利要求1所述的一種旋轉陰極磁控濺射鍍膜單元，其特征在于：還包括兩組冷卻管路，兩個冷卻管路分別位于兩個所述側遮蔽板相互背離的一側設置；該側遮蔽板裝配于所述冷卻管路。