[實用新型]一種穩定高效的電子束真空鍍膜設備

有效

• 申請號: 202220431614.5
• 申請日: 2022-03-01
• 公開（公告）號: CN216808949U
• 公開（公告）日: 2022-06-24
• 發明（設計）人: 徐從康;陳捷豪;賀濤;馬賽;胡立泓
• 申請（專利權）人: 浙江弘康半導體技術股份有限公司
• 主分類號: C23C14/30
• 分類號: C23C14/30;C23C14/56;C23C14/54
• 代理公司: 紹興市寅越專利代理事務所(普通合伙) 33285
• 代理人: 陳澤元

本實用新型公開了一種穩定高效的電子束真空鍍膜設備，包括鍍膜室和卷繞室兩部分，鍍膜室內設有鍍膜系統，卷繞室內設有卷繞系統和線膜厚檢測儀，卷繞室與鍍膜室分別單獨連接有不同真空抽速的抽真空系統，且兩者間采用隔板隔開并獨立抽真空，兩個抽真空系統的抽速分別由鍍膜原料的材料以及通入的反應氣體決定。本實用新型能夠有效克服由于鍍膜室的局部壓強差過大引起材料蒸發不均勻導致成膜質量下降等問題，具有蒸發穩定、成膜質量高的特點，還能有效地改善由于卷繞室與鍍膜室的壓強差過大導致材料的有效利用率降低的問題，有效提高鍍膜材料的利用率，并且能有效地解決鍍膜室真空度變化過大引起的電子槍產生打火的現象，有效提高電子槍的穩定性。

技術領域

本實用新型涉及柔性塑料基材真空鍍膜設備技術領域，具體為一種穩定高效的電子束真空鍍膜設備。

背景技術

隨著真空卷繞鍍膜技術的不斷發展，各種真空卷繞鍍膜設備也在不斷改進以便滿足不同工業生產的需求。其中，電子束真空卷繞鍍膜設備因其生產效率高、成膜速度快備受關注。

在電子束蒸鍍中，電子槍的正常穩定工作往往需要較高的真空度(通常在10^-3～10^-2pa)，而且鍍膜室內壁及內部器件壁在真空中會發出大量氣體，再加上塑料薄膜卷材也會在卷繞的過程中放氣，且若是進行反應蒸發鍍膜還需通入氣體。因此，電子束真空卷繞鍍膜設備通常需配備抽速在一萬L/s甚至幾萬L/s的大型高真空泵。

傳統的電子束真空卷繞鍍膜設備中，通常采用多室結構將設備分為鍍膜室以及卷繞室，兩者之間用隔板分隔開通過一些連接處縫隙相連，而這些設備的抽真空系統通常僅是與卷繞室或鍍膜室中其一相連。雖然通過鍍膜室和卷繞室之間的縫隙抽真空系統可以對整個設備進行抽真空，但也會引發一些問題，如當真空泵僅與卷繞室相連，會導致在電子槍工作時鍍膜室的局部壓強差過大，引起的蒸發不均勻導致成膜質量下降，甚至有可能導致電子槍出現打火現象導致鍍膜過程不能繼續進行。而當真空泵僅與鍍膜室相連時，鍍膜室的真空度比卷繞室的真空度高，由于卷繞室的壓強比鍍膜室的壓強大，會減少蒸發鍍膜材料時材料蒸汽附著到基底上、使材料的有效利用率降低。

為了解決上述問題，本案由此而生。

實用新型內容

(一)解決的技術問題

針對現有技術的不足，本實用新型提供了一種穩定高效的電子束真空鍍膜設備，解決了上述背景技術中提出的問題。

(二)技術方案

為實現以上目的，本實用新型通過以下技術方案予以實現：一種穩定高效的電子束真空鍍膜設備，包括鍍膜系統、卷繞系統、在線膜厚檢測儀、抽真空系統。設備分為鍍膜室和卷繞室兩部分，設備的上半部為卷繞室，下半部為鍍膜室，卷繞室與鍍膜室之間用隔板隔開并獨立抽真空，兩者通過鍍膜主輥相連。

鍍膜室中設有鍍膜系統和抽真空系統。所述鍍膜系統包括電子槍系統、坩堝、等離子輔助系統。

所述電子槍系統位于鍍膜室一側，包括直型電子槍、偏轉磁場系統。所述直型電子槍由燈絲、發射電子的陰極、加速陽極和聚焦陽極組成。所述偏轉磁場系統位于電子槍的電子束射出區域，由對稱安放的電磁鐵組成，可以產生一個磁場使電子束行進路徑彎曲并垂直入射到坩堝上的蒸發材料。

所述坩堝位于電子槍系統的下方，外形呈圓柱形，內部有凹槽結構用來裝放鍍膜材料，并且坩堝連有水冷系統，可以通過外置的冷卻水循環進行冷卻降溫。

所述等離子輔助系統位于坩堝的正上方，包括空心陰極電子槍、陽極和氣體進氣系統，可以對反應氣體進行等離子化處理。所述空心陰極電子槍連接氣體進氣系統，用金屬鉭管做陰極，工作時通入氣體，發射出的低壓大電流電子束實現等離子體激發。所述氣體進氣系統通過進氣閥控制氣體的進入，可以通入反應氣體。

卷繞室內設有卷繞系統、在線膜厚檢測儀和抽真空系統。