[實用新型]一種穩定高效的電子束真空鍍膜設備

有效

• 申請號: 202220431614.5
• 申請日: 2022-03-01
• 公開（公告）號: CN216808949U
• 公開（公告）日: 2022-06-24
• 發明（設計）人: 徐從康;陳捷豪;賀濤;馬賽;胡立泓
• 申請（專利權）人: 浙江弘康半導體技術股份有限公司
• 主分類號: C23C14/30
• 分類號: C23C14/30;C23C14/56;C23C14/54
• 代理公司: 紹興市寅越專利代理事務所(普通合伙) 33285
• 代理人: 陳澤元

1.一種穩定高效的電子束真空鍍膜設備，包括鍍膜室和卷繞室兩部分，鍍膜室內設有鍍膜系統，卷繞室內設有卷繞系統和線膜厚檢測儀，其特征在于：所述卷繞室與鍍膜室分別單獨連接有不同真空抽速的抽真空系統，且兩者間采用隔板隔開并獨立抽真空，兩個抽真空系統的抽速分別由鍍膜原料的材料以及通入的反應氣體決定。

2.根據權利要求1所述的一種穩定高效的電子束真空鍍膜設備，其特征在于：所述抽真空系統采用粗抽和精抽兩種模式，低真空時使用粗抽模式進行快速抽真空，然后再開啟精抽模式對設備進行精抽，以達到高真空的工作條件。

3.根據權利要求2所述的一種穩定高效的電子束真空鍍膜設備，其特征在于：所述卷繞室的抽真空系統由位于卷繞室頂部的真空管道連接外部的機械泵、羅茨泵和分子泵或者低溫泵中任意一種構成。

4.根據權利要求2所述的一種穩定高效的電子束真空鍍膜設備，其特征在于：所述鍍膜室的抽真空系統由位于鍍膜室下方的真空管道連接外部的機械泵、羅茨泵和分子泵或者低溫泵任意一種構成。

5.根據權利要求1所述的一種穩定高效的電子束真空鍍膜設備，其特征在于：所述鍍膜系統包括電子槍系統、坩堝、等離子輔助系統，所述電子槍系統位于鍍膜室一側，包括直型電子槍、偏轉磁場系統，所述直型電子槍包括燈絲、發射電子的陰極、加速陽極和聚焦陽極，所述偏轉磁場系統位于電子槍的電子束射出區域，由對稱安放的電磁鐵組成，以產生一個磁場使電子束行進路徑彎曲并垂直入射到坩堝上的蒸發材料，所述坩堝位于電子槍系統的下方，等離子輔助系統位于坩堝的正上方，所述等離子輔助系統用以對反應氣體進行等離子化處理，其包括空心陰極電子槍、陽極和氣體進氣系統，所述空心陰極電子槍連接氣體進氣系統。

6.根據權利要求1所述的一種穩定高效的電子束真空鍍膜設備，其特征在于：所述卷繞系統用于收卷薄膜卷材，包括沿薄膜卷材傳遞方向依次布設的收卷輥、傳導輥、鍍膜主輥、放卷輥，并通過卷繞張力控制系統的控制下控制系統連接所有的輥，還包括線膜厚檢測儀，其位于鍍膜主輥到收卷輥間的兩個傳導輥之間。