[實用新型]一種真空腔體測溫窗自動清潔檢測裝置

有效

• 申請號: 202220413734.2
• 申請日: 2022-02-28
• 公開（公告）號: CN217358788U
• 公開（公告）日: 2022-09-02
• 發明（設計）人: 周環宇;周立平;劉英斌;楊凱
• 申請（專利權）人: 山西爍科晶體有限公司
• 主分類號: G01K11/14
• 分類號: G01K11/14;G01K1/00;B08B5/02
• 代理公司: 太原高欣科創專利代理事務所(普通合伙) 14109
• 代理人: 吳立;冷錦超

本實用新型涉及一種真空腔體測溫窗自動清潔檢測裝置，屬于半導體晶體生長設備技術領域；包括測溫窗、旋轉升降系統、灰塵吹掃系統、石英片透光率檢測系統；測溫窗設置于真空腔體的開孔上方，旋轉升降系統包括升降氣缸、旋轉電機，旋轉電機固定設置在升降氣缸的伸縮桿上端，旋轉電機的輸出軸與測溫窗通過連接桿相連；灰塵吹掃系統設置于測溫窗的一側，包括吹掃頭、吹掃底座、升降機構，吹掃頭通過升降機構固定在吹掃底座上，吹掃頭頂端設有套接的壓縮空氣管道與真空管道；石英片透光率檢測系統設置于灰塵吹掃系統的一側，包括光源接收傳感器及其上方的透光率檢測光源；解決了現有測溫窗清潔過程耗費大量人力成本，且無法保證石英片清潔效果的問題。

技術領域

本實用新型屬于半導體晶體生長設備技術領域，具體涉及一種真空腔體測溫窗自動清潔檢測裝置。

背景技術

半導體晶體的生長過程其中一種為物理氣相沉積，該方法需要在真空腔體中提供不同的溫度梯度，從而達到半導體晶體由粉料到晶塊的生長過程，此過程中溫度梯度的控制極其重要，所以需要時刻對真空腔體內的溫度進行監測。目前監測腔體內溫度的方法多為在真空腔體表面進行開孔，并安裝固定式測溫窗，測溫窗由透明石英片及固定螺帽組成，在測溫窗上部安裝測溫計，通過測溫窗和測溫計實現對腔體內溫度的實時監測。該方法存在的問題為，由于真空腔體內存在大量微小石墨粉，晶體生長期間大量石墨粉會附著在石英片表面，長時間使用后嚴重影響石英片的透光率，使測溫計所監測的數值產生較大的誤差。故每次長晶作業后都需對石英片進行拆解清潔，達到使用標準后再次進行安裝，該過程需耗費大量人力成本，且因為人員作業手法不同，對石英片的清潔效果無法保證。

實用新型內容

本實用新型克服了現有技術的不足，提出一種真空腔體測溫窗自動清潔檢測裝置；解決現有測溫窗清潔過程耗費大量人力成本，且無法保證石英片清潔效果的問題。

為了達到上述目的，本實用新型是通過如下技術方案實現的。

一種真空腔體測溫窗自動清潔檢測裝置，包括測溫窗、旋轉升降系統、灰塵吹掃系統、石英片透光率檢測系統；所述測溫窗設置于真空腔體的開孔上方，所述旋轉升降系統包括升降氣缸、旋轉電機，旋轉電機固定設置在升降氣缸的伸縮桿上端，旋轉電機的輸出軸與測溫窗通過水平的連接桿相連接；灰塵吹掃系統設置于測溫窗的一側，包括吹掃頭、吹掃底座、升降機構，吹掃頭通過升降機構固定在吹掃底座上，吹掃頭的頂端設置有一個豎直的雙層管道，雙層管道的內部設置有相套接的壓縮空氣管道與真空管道；所述石英片透光率檢測系統設置于灰塵吹掃系統的一側，包括光源接收傳感器及其上方的透光率檢測光源。

進一步的，所述雙層管道與旋轉電機輸出軸之間的距離等于測溫窗與旋轉電機輸出軸之間的距離；所述光源接收傳感器與旋轉電機輸出軸之間的距離等于測溫窗與旋轉電機輸出軸之間的距離。

進一步的，真空腔體的開孔的開口上邊緣設置有O型密封圈。

進一步的，測溫窗的下端設置有測溫窗底座，所述測溫窗底座為圓柱體結構，測溫窗底座設置于開孔的上方并且與開孔同軸設置；測溫窗底座的內部為中空結構，下端為開口結構，上端與測溫窗相連通。

進一步的，所述升降氣缸設置于真空腔體的上表面外側并且位于開孔的一側，升降氣缸的缸底一端固定連接在真空腔體的上表面上，升降氣缸的伸縮桿一端豎直向上設置。

進一步的，升降氣缸的一側設置有旋轉電機支架，旋轉電機支架的下端固定設置在真空腔體的上表面上，旋轉電機支架靠近旋轉電機的一側側面上設置有豎直的滑槽，所述旋轉電機的側面上設置有滑桿，滑桿遠離旋轉電機的一端滑動連接在旋轉電機支架的滑槽內。

進一步的，所述吹掃底座為上端面開有凹槽的圓柱體結構，吹掃底座固定設置在真空腔體的上表面上，吹掃底座上端面的凹槽為圓柱形凹槽，凹槽內部插接有吹掃頭，所述吹掃頭在凹槽內部上下滑動。