[實用新型]一種IC用掩膜版半自動滴膠裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202220349160.7
• 申請日: 2022-02-21
• 公開（公告）號: CN216727996U
• 公開（公告）日: 2022-06-14
• 發(fā)明（設計）人: 林超;林偉
• 申請（專利權）人: 成都路維光電有限公司
• 主分類號: B05C5/02
• 分類號: B05C5/02;B05C11/10;B05C11/00;B05C9/14
• 代理公司: 成都行之專利代理事務所(普通合伙) 51220
• 代理人: 張楊

本實用新型涉及半導體掩膜版制造技術領域，公開了一種IC用掩膜版半自動滴膠裝置，包括：光刻膠瓶體，所述光刻膠瓶體用于盛放光刻膠；過濾組件，用于對所述光刻膠里的大顆粒雜質進行過濾，所述過濾組件的輸入口與所述光刻膠瓶體通過出液管連通，所述過濾組件的輸出口通過后端管路與滴嘴連通；旋轉組件，用于旋轉所述后端管路，以改變所述滴嘴的位置。本實用新型在光刻膠瓶體的后端增加了過濾機構，將光刻膠原材中超過規(guī)格的大顆粒雜質過濾掉，避免原材帶來的缺陷。

技術領域

本實用新型涉及半導體掩膜版制造技術領域，具體涉及一種IC用掩膜版半自動滴膠裝置。

背景技術

掩膜版又稱光掩膜版、光罩(Photo mask)，由石英或蘇打玻璃作為基板襯底，先在玻璃基板上鍍上一層金屬鉻層，然后在鉻層上面涂覆光刻膠使其成為一種感光材料，把已設計好的電路圖形通過電子激光設備使光刻膠感光，被曝光的區(qū)域通過顯影、蝕刻在金屬鉻上形成電路圖形，成為類似曝光后的底片的光掩模母版。近年來國內新型顯示面板產量逐年增加，芯片半導體市場逐漸轉向內需，因而對掩膜版的需求量也越來越大。

在半導體芯片制造過程中，通過利用掩膜版將圖形轉移到Wafer(晶圓)上。而在掩膜版的制造過程中，涂覆光刻膠是非常重要且關鍵的一步，光刻膠的涂布是先在掩膜版上滴上光刻膠，然后高速旋轉得到一層膜厚均勻的感光材料。在掩膜版的生產過程對無塵環(huán)境及操作過程中particle的控制有著嚴格的要求。如果在滴膠的過程中引入大量的particle，則在旋涂完成后掩膜版整版都會存在大量的涂膠缺陷，導致涂膠失敗，造成材料、時間的損耗，增加成本。

因此為了避免光刻膠中的大顆粒雜質滴入掩膜版上，設計一種半自動滴膠裝置來解決以上述問題。

實用新型內容

本實用新型提供一種IC用掩膜版半自動滴膠裝置，解決了在小版涂膠過程中，光刻膠中的大顆粒雜質落在掩膜版上。

本實用新型通過下述技術方案實現(xiàn)：

一種IC用掩膜版半自動滴膠裝置，包括：

光刻膠瓶體，所述光刻膠瓶體用于盛放光刻膠；

過濾組件，用于對所述光刻膠里的大顆粒雜質進行過濾，所述過濾組件的輸入口與所述光刻膠瓶體通過出液管連通，所述過濾組件的輸出口通過后端管路與滴嘴連通；

旋轉組件，用于旋轉所述后端管路，以改變所述滴嘴的水平位置。

作為優(yōu)化，所述光刻膠瓶體的頂部可拆卸連接有光刻膠瓶蓋，貫穿所述光刻膠瓶蓋的上表面設有進氣管和出液管，所述進氣管的進氣端連接有供氣裝置。

作為優(yōu)化，所述供氣裝置包括但不限于為氣泵。

作為優(yōu)化，所述進氣管上設有電磁閥。

作為優(yōu)化，所述過濾組件包括過濾殼體，所述過濾殼體內設置有用于過濾大顆粒雜質的濾芯，所述過濾殼體的輸入口連接有出液管，所述過濾殼體的輸出口連接有第一連接管。

作為優(yōu)化，所述旋轉組件包括豎向設置的固定支架，所述固定支架的側面水平設置有支撐板，所述支撐板的上表面轉動設置有旋鈕，所述支撐板內設置有密封軸承，所述密封軸承與所述旋鈕同軸設置，所述后端管路呈“L”型，且所述后端管路遠離所述滴嘴的一端穿過所述旋鈕的側壁通過所述密封軸承與所述第一連接管連接。

作為優(yōu)化，所述光刻膠瓶蓋與所述光刻膠瓶體的連接方式包括但不限于為螺紋連接。

作為優(yōu)化，所述后端管路與滴嘴可拆卸連接。

作為優(yōu)化，所述滴嘴與所述后端管路螺紋連接或者所述滴嘴插接在所述后端管路上。

作為優(yōu)化，所述光刻膠瓶蓋與所述出液管和進氣管一體成型。

本實用新型與現(xiàn)有技術相比，具有如下的優(yōu)點和有益效果：