[實用新型]卷對卷鍍膜系統用的抽真空機組

有效

• 申請號: 202220334601.6
• 申請日: 2022-02-18
• 公開（公告）號: CN217077778U
• 公開（公告）日: 2022-07-29
• 發明（設計）人: 夏文豪;金湛;曹蔚琦;馮歡;駱中濤
• 申請（專利權）人: 重慶諾獎二維材料研究院有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56
• 代理公司: 廣州市華學知識產權代理有限公司 44245
• 代理人: 黃宗波

本實用新型涉及真空鍍膜領域，公開了一種卷對卷鍍膜系統用的抽真空機組，包括兩個初級抽真空機構和一個深度抽真空機構，兩個初級抽真空機構分別作用于鍍膜腔室其中一側的第一腔室、第二腔室、第三腔室和第四腔室，初級抽真空機構包括第一粗抽真空組、第二粗抽真空組、第三粗抽真空組，第一粗抽真空組對第一腔室和第二腔室進行粗抽真空，第二粗抽真空組對第三腔室進行粗抽真空，第三粗抽真空組對第四腔室進行粗抽真空。本實用新型不僅能夠縮短卷對卷鍍膜系統抽真空的時間，也能夠降低對真空泵以及兩側密封結構的要求和壓力，并且還能夠使鍍膜腔室內維持一個較高較穩的真空度，提高鍍膜質量和效率。

技術領域

本實用新型涉及真空鍍膜技術領域，尤其涉及卷對卷鍍膜系統用的抽真空機組。

背景技術

真空鍍膜應用是真空應用中的一個大分支，在光學、電子學、理化儀器、包裝、機械以及表面處理技術等眾多方面有著十分廣泛的應用。真空鍍膜應用，簡單地理解就是在真空環境下，利用蒸鍍、濺射以及凝結的辦法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。

卷對卷鍍膜系統是真空鍍膜設備的其中一種，卷對卷鍍膜系統的首端安裝有收卷機構、尾端安裝有放卷機構，卷對卷鍍膜系統的內部設置有多個串聯的腔室，其中包括設置在最中間的鍍膜腔室，以及設置在鍍膜腔室兩側的多個過渡腔室，這些過渡腔室沿末端至鍍膜腔室方向依次包括第一腔室、第二腔室、第三腔室、第四腔室、第五腔室、第六腔室和第七腔室，相鄰腔室之間以及兩端腔室與放卷機構、收卷機構的連接處均設有供基材穿過的矩形通孔，并且在矩形通孔處會設置密封結構，將相鄰的腔室獨立分隔開，在收卷機構和放卷機構的作用下，基材可以通過所有的密封結構連續不斷地穿過這些串聯的腔室，以此實現連續鍍膜。在鍍膜的過程中，鍍膜腔室內需要保持較高的真空度，鍍膜腔室內的真空度以及真空度的穩定性會直接影響到鍍膜的效率和質量，目前市場上的鍍膜機通常是給每個腔室均配置一臺真空泵，鍍膜機工作前，同時開啟所有的真空泵，對所有腔室同時抽真空，待最中間的鍍膜腔室內的真空度達到要求后，便開始鍍膜。

但是采用上述抽真空的方式不僅需要較長的時間，并且要使所有的腔室內均保持較高的真空度，這不僅對真空泵的要求和壓力較大，對維持真空度所消耗的能源也較大，并且對所有密封結構的要求和壓力同樣很高。

實用新型內容

有鑒于此，本實用新型的目的是提供卷對卷鍍膜系統用的抽真空機組，解決現有的卷對卷鍍膜系統抽真空方式對真空泵的要求和壓力較大的問題。

本實用新型通過以下技術手段解決上述技術問題：

卷對卷鍍膜系統用的抽真空機組，所述抽真空控制系統包括兩個初級抽真空機構和一個深度抽真空機構，兩個所述初級抽真空機構分別作用于鍍膜腔室其中一側的第一腔室、第二腔室、第三腔室和第四腔室，所述初級抽真空機構包括第一粗抽真空組、第二粗抽真空組、第三粗抽真空組，所述第一粗抽真空組對第一腔室和第二腔室進行粗抽真空，所述第二粗抽真空組對第三腔室進行粗抽真空，所述第三粗抽真空組對第四腔室進行粗抽真空；所述深度抽真空機構作用于鍍膜腔室兩側的第五腔室、第六腔室和第七腔室，所述深度抽真空機構包括一個第四粗抽機組、兩個第一精抽機組和兩個第二精抽機組，所述第四粗抽機組對兩側的第五腔室、第六腔室和第七腔室進行粗抽真空，兩個所述第一精抽機組分別對其中一側的第五腔室和第六腔室進行精抽真空，兩個所述第二精抽機組分別對兩側的第七腔室進行精抽真空。

進一步，所述第一粗抽真空組包括第一粗抽泵、第一粗抽閥和第二粗抽閥，所述第一粗抽泵的抽氣端與第一腔室、第二腔室均連通，所述第一粗抽閥安裝在第一腔室與第一粗抽泵之間，所述第二粗抽閥安裝在第二腔室與第一粗抽泵之間。

進一步，所述第二粗抽真空組包括第二粗抽泵和第三粗抽閥；所述第二粗抽泵的抽氣端與第三腔室連通，所述第三粗抽閥安裝在第二腔室與第一粗抽泵之間。