[實用新型]刻蝕硅片用保持裝置以及刻蝕硅片用系統

有效

• 申請號: 202220325345.4
• 申請日: 2022-02-17
• 公開（公告）號: CN217007078U
• 公開（公告）日: 2022-07-19
• 發明（設計）人: 趙迎新
• 申請（專利權）人: 賀利氏光伏科技（上海）有限公司
• 主分類號: G01N23/2202
• 分類號: G01N23/2202
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 黃麗娜;吳鵬

本實用新型涉及一種刻蝕硅片用保持裝置，其包括用于分別容納硅片的多個容納部(110)，每個容納部(110)包括：殼體，殼體界定用于容納硅片的內部空間，所述殼體設置有至少一個第一開口(113)，第一開口(113)構造成將內部空間與外界連通，并且第一開口(113)的尺寸確定成允許刻蝕用液體經其通過但阻止硅片經其通過；和供硅片進出所述內部空間的第二開口(114)。本實用新型的保持裝置由于包括多個容納部，因此，可將多個不同的硅片分別放入不同的容納部中進行刻蝕。此外，本實用新型還涉及一種刻蝕硅片用系統，其包括用于盛裝刻蝕期間所用液體的至少一個浴池和能可分離地配裝在每個所述浴池上的、上述的刻蝕硅片用保持裝置。

技術領域

本實用新型涉及掃描電子顯微鏡制樣領域，更具體地，涉及一種刻蝕硅片用保持裝置以及一種刻蝕硅片用系統。

背景技術

目前，在掃描電子顯微鏡制樣領域中，硅片的刻蝕是利用普通燒杯作為保持裝置或容器來進行的，并且對于硅片的測試而言，平均一次測試需要對多個(例如5個)不同的硅片進行刻蝕。對于這些硅片，可針對不同的硅片采用不同的燒杯同時進行刻蝕，或者也可以在一個硅片刻蝕完成后再對另一硅片進行刻蝕。

在針對不同的硅片采用不同的燒杯進行刻蝕的情況下，以5個硅片為例，首先將每個硅片切成約8mm*8mm的大小，然后將這5個硅片分別放入5個不同的燒杯中并對燒杯進行編號，之后依次地向這5個燒杯中倒入HNO₃溶液進行刻蝕并且在刻蝕后對硅片進行清洗，將這兩個步驟循環操作多次后，再依次向這5個燒杯中倒入HF溶液進行刻蝕并且之后對硅片進行清洗，其中，將這兩個步驟也循環操作多次，然后將清洗后的硅片烘干并且用導電碳膠將烘干后的硅片粘貼在樣品臺上。

或者，也可以采用以下步驟針對每個硅片進行刻蝕：

A.將硅片切成約8mm*8mm的大小；

B.例如用鑷子將切割好的硅片放入HNO₃溶液中進行刻蝕，并且在刻蝕后將硅片取出到燒杯中；

C.用純水清洗經HNO₃溶液刻蝕的硅片；

D.多次重復步驟B和C；

E.將清洗后的硅片放入HF溶液中進行刻蝕，并且在刻蝕后將硅片取出到燒杯中；

F.用純水清洗經HF溶液刻蝕的硅片；

G.多次重復步驟E和F；

H.將清洗后的硅片烘干；以及

I.用導電碳膠將烘干后的硅片粘貼在樣品臺上。

無論采用以上哪種方式同時對多個硅片進行刻蝕均存在缺陷。例如，采用這兩種方式進行刻蝕，由于需要同時針對多個不同的燒杯進行操作，其刻蝕過程是十分繁瑣復雜的。另外，采用這兩種方式還存在安全隱患，這是因為，HNO₃溶液和HF溶液都是強酸、易腐蝕，若同時在多個燒杯中都充填HNO₃溶液和HF溶液來進行刻蝕，則實驗人員在操作過程中需格外小心，否則很容易造成危險。為此，一般不建議同時準備多份HNO₃溶液和HF溶液進行操作，而是建議在一個硅片刻蝕完成后再對另一個硅片進行刻蝕。

然而，在一個硅片刻蝕完成后再對另一個硅片進行刻蝕顯然將耗費大量樣品制備時間，因為樣品制備時間取決于樣品的數量，其中，樣品的數量越多，則所需的刻蝕時間就越長。例如，若1個硅片的制備時間為10分鐘，則5個硅片的制備時間將達到50分鐘。

另外，在依次手動操作不同的多個硅片時，鑷子取放硅片的時間難以保證完全相同，并且因此刻蝕的時間難以精確控制，無法針對每次刻蝕而完全統一時間變量這一要素。

實用新型內容

本實用新型的目的是解決上述現有技術的缺陷中的至少一部分缺陷。