[實用新型]刻蝕硅片用保持裝置以及刻蝕硅片用系統

有效

• 申請號: 202220325345.4
• 申請日: 2022-02-17
• 公開（公告）號: CN217007078U
• 公開（公告）日: 2022-07-19
• 發明（設計）人: 趙迎新
• 申請（專利權）人: 賀利氏光伏科技（上海）有限公司
• 主分類號: G01N23/2202
• 分類號: G01N23/2202
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 黃麗娜;吳鵬

1.一種刻蝕硅片用保持裝置(100)，其特征在于，所述保持裝置(100)包括用于分別容納硅片的多個容納部(110)，每個所述容納部(110)包括：

殼體，所述殼體界定用于容納硅片的內部空間，所述殼體設置有至少一個第一開口(113)，所述第一開口(113)構造成將所述內部空間與外界連通，并且所述第一開口(113)的尺寸確定成允許刻蝕用液體經其通過但阻止所述硅片經其通過；和

供所述硅片進出所述內部空間的第二開口(114)。

2.根據權利要求1所述的刻蝕硅片用保持裝置(100)，其特征在于，所述殼體包括底壁(111)和自所述底壁(111)延伸出的筒狀的側壁(112)，所述底壁(111)和所述側壁(112)一起限定出所述內部空間，所述側壁(112)的遠離所述底壁(111)的一端限定出所述第二開口(114)。

3.根據權利要求2所述的刻蝕硅片用保持裝置(100)，其特征在于，至少一個所述第一開口(113)設置在所述殼體的底壁上。

4.根據權利要求3所述的刻蝕硅片用保持裝置(100)，其特征在于，在所述側壁(112)的至少與所述底壁連接的部分上設置有至少一個所述第一開口(113)。

5.根據權利要求4所述的刻蝕硅片用保持裝置(100)，其特征在于，所述保持裝置(100)包括呈篩網形式的基板(120)，其中，每個所述殼體的底壁(111)形成為所述基板(120)的一部分。

6.根據權利要求2所述的刻蝕硅片用保持裝置(100)，其特征在于，多個所述容納部(110)彼此相鄰地排布，相鄰的兩個所述容納部(110)的側壁(112)具有公共的側壁部分，其中，每個所述側壁(112)具有設置在其上的多個所述第一開口(113)。

7.根據權利要求6所述的刻蝕硅片用保持裝置(100)，其特征在于，所述容納部具有方體結構。

8.根據權利要求1-7中任一項所述的刻蝕硅片用保持裝置(100)，其特征在于，所述保持裝置(100)還包括用于將所述保持裝置(100)可拆卸地配裝在浴池上的安裝件，所述浴池用于盛裝刻蝕用液體。

9.根據權利要求8所述的刻蝕硅片用保持裝置(100)，其特征在于，所述安裝件是構造成鉤掛在所述浴池的邊緣上的鉤件(130)。

10.一種刻蝕硅片用系統，其特征在于，其包括用于盛裝刻蝕用液體的至少一個浴池和能可拆卸地配裝在每個所述浴池上的、根據權利要求1-9中任一項所述的刻蝕硅片用保持裝置(100)。