[實用新型]光學系統的空間結構

有效

• 申請號: 202220138142.4
• 申請日: 2022-01-19
• 公開（公告）號: CN217484529U
• 公開（公告）日: 2022-09-23
• 發明（設計）人: 楊陽;歐陽君怡;代林茂;李曉春
• 申請（專利權）人: 深圳市麓邦技術有限公司
• 主分類號: G02B5/18
• 分類號: G02B5/18;G03F7/20
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型涉及光學技術領域，公開一種光學系統的空間結構，以在簡易空間內提高衍射光學元件的制作效率并確保產品的可靠性。包括：位于最上層的曝光光路組件和光源監控組件；位于中間層由上到下依次排布的掩膜板、模板及樣品基片；樣品基片設有用于經過曝光轉化或復制模板偏振信息的光敏材料并置于位移臺上；掩膜板與模板為垂直于光路的平行關系；位于最底層的對準及對齊光路組件；在曝光光路組件與光源監控組件之間設有第一分束器，其用于將一束曝光光源水平透送至光源監控組件，并經另一束曝光光源反射成入射至中間層的掩膜板、模板及樣品基片的垂直光源；對準及對齊光路組件包括用于將中間層的垂直光路轉換成最底層內部水平方向光路的反射鏡。

技術領域

本實用新型涉及光學技術領域，尤其涉及一種光學系統的空間結構。

背景技術

激光直寫是制作衍射光學元件的主要技術之一，它利用強度可變的激光束對基片表面的抗蝕材料實施變劑量曝光，顯影后便在抗蝕層表面形成要求的浮雕輪廓，制作精度可以達到亞微米量級。

通常激光直寫的效率比較低，如何提高衍射光學元件的制作效率并簡化制備系統的空間結構成為當前的研究熱點。

實用新型內容

本實用新型目的在于公開一種光學系統的空間結構，以在簡易空間內提高衍射光學元件的制作效率并確保產品的可靠性。

為達上述目的，本實用新型公開一種光學系統的空間結構，包括：

位于最上層的曝光光路組件和光源監控組件；

位于中間層由上到下依次排布的掩膜板、模板及樣品基片；所述樣品基片設有用于經過曝光轉化或復制所述模板偏振信息的光敏材料并置于位移臺上；所述掩膜板與所述模板為垂直于光路的平行關系；

位于最底層的對準及對齊光路組件；

在所述曝光光路組件與所述光源監控組件之間設有第一分束器，所述第一分束器用于將一束曝光光源水平透送至所述光源監控組件，并將另一束曝光光源反射成入射至所述中間層的掩膜板、模板及樣品基片的垂直光源；

所述對準及對齊光路組件包括一用于將所述中間層的垂直光路轉換成所述最底層內部水平方向光路的反射鏡。

優選地，所述第一分束器采用非偏振分束器，所述曝光光路組件還包括：

位于所述第一分束器一側，按光路先后順序依次部署有激光光源、第一線性偏振片和第一1/4波片。

優選地，所述第一線性偏振片部署于一能對偏振方向進行調校的旋轉器件上，且所述第一1/4波片部署于一能對快軸方向與所述第一線性偏振片所對應偏振方向之間的夾角進行調校的旋轉器件上；調校范圍內的所述夾角至少包括0度和正負45度。

優選地，所述模板通過激光直寫或干涉曝光方式對內部材料的排布進行取向以形成相應的偏振信息；其中，當采用線偏光復制的時候，所述模板采用半波片；當采用圓偏光復制的時候，所述模板采用1/4波片。

優選地，在所述第一線性偏振片與所述第一1/4波片之間設有光斑大小調節裝置。

優選地，所述光源監控組件包括：

位于所述第一分束器另一側的第二1/4波片、第三偏振片和第二圖像采集裝置，所述第三偏振片位于所述第二1/4波片與所述第二圖像采集裝置之間，且所述第三偏振片固定的偏振方向與所述第一線性偏振片的偏振方向垂直；以及還包括：與所述第二圖像采集裝置連接的第二控制主機，用于分析所述第二圖像采集裝置所采集的圖像，當所采集圖像存在漏光則判斷所述曝光光路中的器件產生了應力漂移。

優選地，所述對齊及對準光路組件還包括：

獨立于曝光光源的對齊光源，且所述對齊光源的波長范圍對所述樣品基片中的光敏材料不產生反應；