[實用新型]光學系統的空間結構

有效

• 申請號: 202220138142.4
• 申請日: 2022-01-19
• 公開（公告）號: CN217484529U
• 公開（公告）日: 2022-09-23
• 發明（設計）人: 楊陽;歐陽君怡;代林茂;李曉春
• 申請（專利權）人: 深圳市麓邦技術有限公司
• 主分類號: G02B5/18
• 分類號: G02B5/18;G03F7/20
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種光學系統的空間結構，其特征在于，包括：

位于最上層的曝光光路組件和光源監控組件；

位于中間層由上到下依次排布的掩膜板、模板及樣品基片；所述樣品基片設有用于經過曝光轉化或復制所述模板偏振信息的光敏材料并置于位移臺上；所述掩膜板與所述模板為垂直于光路的平行關系；

位于最底層的對準及對齊光路組件；

在所述曝光光路組件與所述光源監控組件之間設有第一分束器，所述第一分束器用于將一束曝光光源水平透送至所述光源監控組件，并將另一束曝光光源反射成入射至所述中間層的掩膜板、模板及樣品基片的垂直光源；

所述對準及對齊光路組件包括一用于將所述中間層的垂直光路轉換成所述最底層內部水平方向光路的反射鏡。

2.根據權利要求1所述的光學系統的空間結構，其特征在于，所述第一分束器采用非偏振分束器，所述曝光光路組件還包括：

位于所述第一分束器一側，按光路先后順序依次部署有激光光源、第一線性偏振片和第一1/4波片。

3.根據權利要求2所述的光學系統的空間結構，其特征在于，所述第一線性偏振片部署于一能對偏振方向進行調校的旋轉器件上，且所述第一1/4波片部署于一能對快軸方向與所述第一線性偏振片所對應偏振方向之間的夾角進行調校的旋轉器件上；調校范圍內的所述夾角至少包括0度和正負45度。

4.根據權利要求3所述的光學系統的空間結構，其特征在于，所述模板通過激光直寫或干涉曝光方式對內部材料的排布進行取向以形成相應的偏振信息；其中，當采用線偏光復制的時候，所述模板采用半波片；當采用圓偏光復制的時候，所述模板采用1/4波片。

5.根據權利要求3所述的光學系統的空間結構，其特征在于，在所述第一線性偏振片與所述第一1/4波片之間設有光斑大小調節裝置。

6.根據權利要求2所述的光學系統的空間結構，其特征在于，所述光源監控組件包括：

位于所述第一分束器另一側的第二1/4波片、第三偏振片和第二圖像采集裝置，所述第三偏振片位于所述第二1/4波片與所述第二圖像采集裝置之間，且所述第三偏振片固定的偏振方向與所述第一線性偏振片的偏振方向垂直；以及還包括：與所述第二圖像采集裝置連接的第二控制主機，用于分析所述第二圖像采集裝置所采集的圖像，當所采集圖像存在漏光則判斷所述曝光光路中的器件產生了應力漂移。

7.根據權利要求1至6任一所述的光學系統的空間結構，其特征在于，所述對齊及對準光路組件還包括：

獨立于曝光光源的對齊光源，且所述對齊光源的波長范圍對所述樣品基片中的光敏材料不產生反應；

攜帶對齊圖像信息的對齊版，部署在所述對齊光源與所述樣品基片之間；

與第一控制主機連接的第一圖像采集裝置，用于采集所述模板空置狀態下的所述掩膜板所輸出的第一曝光光斑圖像，并在所述模板添加至光路后，采集過濾掉所述模板所產出偏振信息的第二曝光光斑圖像；以及在所述樣品基片添加至光路后，采集所述對齊版所攜帶對齊圖像信息分別經所述樣品基片和所述模板反射后的重疊圖像；

所述第一控制主機，用于根據所述第一曝光光斑圖像確定所述掩膜板的中心位置，及根據所述第二曝光光斑圖像確定所述模板的中心位置，將所述掩膜板的中心與所述模板的中心通過曝光光路進行對準處理；并在對準處理后，根據所述樣品基片添加至光路后的所述重疊圖像之間的圖像重疊實況計算所述樣品基片與所述模板之間的距離，并根據所計算結果指令所述位移臺帶動所述樣品基片執行與所述模板的對齊處理；

其中，在所述第一圖像采集裝置采集過濾掉所述模板所產出偏振信息的第二曝光光斑圖像過程中，在所述圖像采集裝置與所述樣品基片之間部署一用于過濾掉所述模板所產出偏振信息的第二線性偏振片。

8.根據權利要求7所述的光學系統的空間結構，其特征在于，所述對齊版到所述樣品基片之間的光程與所述樣品基片到所述圖像采集裝置之間的光程相等。