[實用新型]一種等離子設備有效
| 申請號: | 202220088471.2 | 申請日: | 2022-01-13 |
| 公開(公告)號: | CN216773192U | 公開(公告)日: | 2022-06-17 |
| 發明(設計)人: | 茍先華;張彬彬;肖峰;王鵬鵬;蘇財鈺 | 申請(專利權)人: | 重慶康佳光電技術研究院有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;H01J37/32 |
| 代理公司: | 深圳鼎合誠知識產權代理有限公司 44281 | 代理人: | 李發兵 |
| 地址: | 402760 重慶市璧*** | 國省代碼: | 重慶;50 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 等離子 設備 | ||
1.一種等離子設備,其特征在于,包括:
反應腔室,所述反應腔室的一端設有進氣口,另一端設有排氣口;
反應托盤,所述反應托盤位于所述反應腔室中用于承載基片,其盤面與所述反應腔室中氣體流動的方向平行;
連接軸,所述連接軸的一端固定在所述反應托盤的中軸點上,另一端穿過所述反應腔室的側壁與動力裝置連接;
動力裝置,所述動力裝置用于驅動所述連接軸旋轉,所述連接軸旋轉帶動所述反應托盤旋轉。
2.如權利要求1所述的等離子設備,其特征在于,所述反應托盤包括至少兩層重疊的托盤,各層托盤之間的間距相同,各層托盤之間通過支撐柱連接固定。
3.如權利要求2所述的等離子設備,其特征在于,所述反應托盤的每一層托盤上均勻的放置所承載的基片。
4.如權利要求3所述的等離子設備,其特征在于,所述反應托盤的每一層托盤上還包括定位槽,所述定位槽均勻的分布在所述反應托盤的每一層托盤上。
5.如權利要求2所述的等離子設備,其特征在于,所述反應托盤還包括:支撐盤;
所述支撐盤的底面的中軸點與所述連接軸固定,頂面用于支撐并固定所述至少兩層托盤。
6.如權利要求1所述的等離子設備,其特征在于,所述動力裝置為旋轉電機,所述旋轉電機的輸出軸為所述連接軸。
7.如權利要求1所述的等離子設備,其特征在于,所述動力裝置為旋轉電機,所述旋轉電機的輸出軸通過皮帶或傳動齒輪與所述連接軸連接。
8.如權利要求1所述的等離子設備,其特征在于,還包括控制單元,所述控制單元用于控制所述動力裝置驅動所述連接軸旋轉的轉速。
9.如權利要求1-8任一項所述的等離子設備,其特征在于,所述反應腔室為圓柱體,所述進氣口位于圓柱體一端的圓形面上,所述排氣口位于圓柱體另一端的圓形面上。
10.如權利要求9所述的等離子設備,其特征在于,所述進氣口包括氣體分流板,所述氣體分流板上有若干個均勻的分布的進氣孔。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





