[實用新型]熱阻式蒸鍍裝置及蒸鍍設備

有效

• 申請號: 202220062545.5
• 申請日: 2022-01-11
• 公開（公告）號: CN216891171U
• 公開（公告）日: 2022-07-05
• 發明（設計）人: 黃琪兵;楊然翔;王懷超
• 申請（專利權）人: 重慶康佳光電技術研究院有限公司
• 主分類號: C23C14/26
• 分類號: C23C14/26
• 代理公司: 上海光華專利事務所(普通合伙) 31219
• 代理人: 張博

本實用新型涉及半導體技術領域，尤其涉及一種熱阻式蒸鍍裝置及蒸鍍設備，熱阻式蒸鍍裝置包括蒸鍍容器；支撐腔，密封包覆于蒸鍍容器外部；噴嘴組件，包括多個噴嘴，設置于支撐腔的頂壁，并與支撐腔連通；柵格板，固定于支撐腔內，且位于蒸鍍容器與噴嘴組件之間，柵格板與支撐腔的內側壁密封連接；以及鍍鍋，位于噴嘴組件上方，并能夠繞自身軸線旋轉。蒸鍍設備包括蒸鍍腔室以及熱阻式蒸鍍裝置。通過本實用新型在基片表面形成的膜層質量佳，致密性更優，同時能保證成膜后膜層厚度的均一性。

技術領域

本實用新型涉及半導體技術領域，尤其涉及熱阻式蒸鍍裝置及蒸鍍設備。

背景技術

蒸鍍技術，是指在真空條件下，采用一定的加熱蒸發方式，蒸發鍍膜材料使之氣化，氣化粒子沉積至基片或器件表面凝聚成膜的工藝方法。主要采用蒸鍍設備向待鍍膜基片或器件上以蒸汽形式噴射成膜材料，以在該基片或器件表面上形成膜層。其中，熱阻式蒸鍍設備是半導體、LED(發光二極管)、OLED(Organic Light-Emitting Diode；簡稱：OLED，有機發光二極管)面板行業的成膜設備，通過對鎢舟加熱，將置于鎢舟內的固態或液態的成膜材料進行融化蒸發，使其蒸汽無序的飄至上方的基片表面，形成薄膜。

然而，由于蒸發出的膜料無外力約束，并且其運動具有無序性，導致制程得出的膜層粗糙，質量較差，且片內或片間膜厚均一性較差。因此，如何改善膜層質量以及膜厚均一性是亟需解決的問題。

實用新型內容

鑒于上述現有技術的不足，本申請的目的在于提供一種熱阻式蒸鍍裝置及蒸鍍設備，旨在解決現有技術中膜層粗糙且均一性差的問題。

一種熱阻式蒸鍍裝置，包括：

蒸鍍容器；

支撐腔，密封包覆于所述蒸鍍容器外部；

噴嘴組件，包括多個噴嘴，設置于所述支撐腔的頂壁，并與所述支撐腔連通；

柵格板，固定于所述支撐腔內，且位于所述蒸鍍容器與噴嘴組件之間，所述柵格板與支撐腔的內側壁密封連接；以及

鍍鍋，位于所述噴嘴組件上方，并能夠繞自身軸線旋轉。

上述熱阻式蒸鍍裝置，通過柵格板及噴嘴組件能夠均勻的噴射出氣態成膜材料，以使得被噴射出的均勻的氣態成膜材料在基片表面能夠形成質量佳的膜層，使得致密性更優，同時鍍鍋做自轉運動能保證其上的基片均勻的被氣態成膜材料覆蓋到，進一步保證成膜后膜層厚度的均一性。

可選地，所述柵格板上設置有多個鏤空結構，且各個所述鏤空結構均勻布置，各個所述鏤空結構的尺寸相同。通過設置鏤空結構，可使氣態成膜材料從鏤空結構中通過并到達噴嘴組件；并且，各個鏤空結構均布且尺寸相同，能夠保證氣態成膜材料均勻地飄出，保證成膜時的膜層質量。

可選地，所述柵格板沿平行于所述噴嘴組件的方向設置，且所述柵格板在平行于所述噴嘴組件所在平面內的形狀與所述支撐腔的截面形狀一致。如此，能夠保證柵格板與支撐腔的內側壁密封連接，以使柵格板下方的氣態成膜材料從鏤空結構中通過，保證柵格板對氣態成膜材料的約束作用。

可選地，所述支撐腔的形狀包括圓柱形，所述柵格板的形狀包括圓盤形。圓柱形支撐腔結構簡單，便于制造，柵格板與支撐腔結構匹配，圓盤形柵格板同樣便于制造加工；同時，也利于噴嘴組件在支撐腔體上的均布設置，利于鏤空結構在柵格板上的均布設置。

可選地，多個所述噴嘴在所述支撐腔的頂壁上均勻布置，且多個所述噴嘴等高。如此，通過噴嘴的均布設計，保證氣態成膜材料在從柵格板的鏤空結構中飄出后，經由各個噴嘴均勻地噴射向待蒸鍍的基片表面，從而保證成膜質量及致密性。

可選地，所述柵格板及噴嘴采用耐高溫材料。如此，能夠保證柵格板及噴嘴在高溫環境下不會發生形變、腐蝕等，保證其各自形狀及特性，延長使用壽命，保證成膜效果。