[實用新型]熱阻式蒸鍍裝置及蒸鍍設備

有效

• 申請號: 202220062545.5
• 申請日: 2022-01-11
• 公開（公告）號: CN216891171U
• 公開（公告）日: 2022-07-05
• 發明（設計）人: 黃琪兵;楊然翔;王懷超
• 申請（專利權）人: 重慶康佳光電技術研究院有限公司
• 主分類號: C23C14/26
• 分類號: C23C14/26
• 代理公司: 上海光華專利事務所(普通合伙) 31219
• 代理人: 張博

1.一種熱阻式蒸鍍裝置，其特征在于，包括：

蒸鍍容器；

支撐腔，密封包覆于所述蒸鍍容器外部；

噴嘴組件，包括多個噴嘴，設置于所述支撐腔的頂壁，并與所述支撐腔連通；

柵格板，固定于所述支撐腔內，且位于所述蒸鍍容器與噴嘴組件之間，所述柵格板與支撐腔的內側壁密封連接；以及

鍍鍋，位于所述噴嘴組件上方，并能夠繞自身軸線旋轉。

2.如權利要求1所述的熱阻式蒸鍍裝置，其特征在于，所述柵格板上設置有多個鏤空結構，且各個所述鏤空結構均勻布置，各個所述鏤空結構的尺寸相同。

3.如權利要求1所述的熱阻式蒸鍍裝置，其特征在于，所述柵格板沿平行于所述噴嘴組件的方向設置，且所述柵格板在平行于所述噴嘴組件所在平面內的形狀與所述支撐腔的截面形狀一致。

4.如權利要求3所述的熱阻式蒸鍍裝置，其特征在于，所述支撐腔的形狀為圓柱形，所述柵格板的形狀為圓盤形。

5.如權利要求1所述的熱阻式蒸鍍裝置，其特征在于，多個所述噴嘴在所述支撐腔的頂壁上均勻布置，且多個所述噴嘴等高。

6.如權利要求1所述的熱阻式蒸鍍裝置，其特征在于，所述柵格板及噴嘴采用耐高溫材料。

7.如權利要求1所述的熱阻式蒸鍍裝置，其特征在于，所述噴嘴組件的總體噴射范圍覆蓋所述鍍鍋的外緣。

8.如權利要求1所述的熱阻式蒸鍍裝置，其特征在于，所述鍍鍋的自身軸線垂直于所述支撐腔頂壁所在平面，且所述鍍鍋的自身軸線對應于所述蒸鍍容器的中部。

9.如權利要求1所述的熱阻式蒸鍍裝置，其特征在于，所述鍍鍋的內壁上設置有多個用于承載基片的承載位。

10.一種蒸鍍設備，其特征在于，包括：蒸鍍腔室以及如權利要求1-9中任一項所述的熱阻式蒸鍍裝置，所述熱阻式蒸鍍裝置設置于所述蒸鍍腔室中。