[發明專利]光閘調試系統及光閘調試系統的調試方法

在審

• 申請號: 202211735722.2
• 申請日: 2022-12-30
• 公開（公告）號: CN116315987A
• 公開（公告）日: 2023-06-23
• 發明（設計）人: 王法平;劉明峰;姚強;閆大鵬
• 申請（專利權）人: 武漢銳科光纖激光技術股份有限公司;湖北光谷實驗室
• 主分類號: H01S3/00
• 分類號: H01S3/00;H01S5/00
• 代理公司: 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570
• 代理人: 李莎

本申請實施例公開了一種光閘調試系統及光閘調試系統的調試方法。光閘調試系統包括激光發生器、第一調節模塊和第二調節模塊，激光發生器用于發射第一調試光束，第一調節模塊包括第一反射鏡、第二反射鏡和第一調同軸組件，第二調節模塊包括多個子調節模塊，子調節模塊包括第三反射鏡和耦合筒。本申請通過利用第一調同軸組件使第一調試光束依次經第一反射鏡和第二反射鏡反射并沿第一方向射出之后，能夠使第一反射鏡和第二反射鏡的位置保持不變，第一調試光束經第三反射鏡反射后沿第二方向射出，且第二方向與對應的耦合筒同軸，且每個第三反射鏡的調試方式能夠相同，從而有助于簡化光閘調試系統的調試方法。

技術領域

本申請涉及激光技術領域，具體涉及一種光閘調試系統及光閘調試系統的調試方法。

背景技術

隨著激光技術的發展，激光技術已經在焊接、切割、打標等領域得到了廣泛的應用，為了提高激光的利用率，通常會在同一光閘中設置多路光路，每一光路對應設置固定反射鏡、旋轉反射鏡和耦合筒，以根據使用需求將光纖與對應的耦合筒連接。但隨著光閘的光路數量的增加，對應的固定反射鏡和旋轉反射鏡的設置數量增加，需要獨立調節的光路單元也增多，從而導致整個光閘調試系統的調節方式復雜。

發明內容

本申請實施例提供一種光閘調試系統及光閘調試系統的調試方法，可以解決現有光閘調試系統的調試方法復雜的問題。

本申請實施例提供一種光閘調試系統，所述光閘調試系統包括：

激光發生器，用于發射第一調試光束；

第一調節模塊，包括沿所述第一調試光束的發射光路依次設置的第一反射鏡、第二反射鏡和第一調同軸組件，所述第一調試光束依次經所述第一反射鏡和所述第二反射鏡反射后沿第一方向射出至所述第一調同軸組件；

第二調節模塊，設置在所述第二反射鏡的反射光路上，所述第二調節模塊位于所述第二反射鏡和所述第一調同軸組件之間；所述第二調節模塊包括多個沿所述第一方向依次設置的子調節模塊，所述子調節模塊包括第三反射鏡和耦合筒，所述第三反射鏡位于所述第二反射鏡的反射光路上；所述第一調試光束依次經所述第一反射鏡、所述第二反射鏡和其中一個所述子調節模塊的第三反射鏡反射后沿第二方向射出，所述第二方向與對應的所述耦合筒同軸。

可選的，在本申請的一些實施例中，所述第一調同軸組件包括第一光斑檢測結構，所述第一光斑檢測結構用于接收所述第一調試光束經所述第二反射鏡反射后形成的光斑，并沿所述第一方向移動，所述第一調試光束經所述第二反射鏡反射后與所述第一光斑檢測結構同軸。

可選的，在本申請的一些實施例中，所述第一調節模塊還包括光闌，所述光闌位于所述第二反射鏡的反射光路上，且所述光闌位于所述第二反射鏡與所述第一調同軸組件之間；所述光闌上形成有用于所述第一調試光束穿過的透光孔，所述透光孔與所述第一光斑檢測結構同軸。

可選的，在本申請的一些實施例中，所述第二調節模塊還包括第二調同軸組件，所述第二調同軸組件位于所述第三反射鏡的反射光路上；所述第二調同軸組件包括第二光斑檢測結構，所述第二光斑檢測結構用于接收所述第一調試光束經所述第三反射鏡反射后形成的光斑，并沿所述第二方向移動，所述第一調試光束經所述第三反射鏡反射后與所述第二光斑檢測結構同軸。

可選的，在本申請的一些實施例中，所述激光發生器還用于發射第二調試光束，所述第二調試光束與所述第一調試光束同軸；所述光閘調試系統還包括功率檢測模塊和輸出光纖，所述輸出光纖與所述耦合筒連接，所述功率檢測模塊位于所述輸出光纖的出光側；所述第二調試光束依次經所述第一反射鏡、所述第二反射鏡和所述第三反射鏡反射至所述耦合筒，并經所述輸出光纖耦合后發射至所述功率檢測模塊，所述功率檢測模塊用于檢測所述第二調試光束經所述輸出光纖耦合后的功率。

可選的，在本申請的一些實施例中，所述第一反射鏡和所述第二反射鏡為固定反射鏡，所述第三反射鏡為旋轉反射鏡。