[發明專利]光閘調試系統及光閘調試系統的調試方法

在審

• 申請號: 202211735722.2
• 申請日: 2022-12-30
• 公開（公告）號: CN116315987A
• 公開（公告）日: 2023-06-23
• 發明（設計）人: 王法平;劉明峰;姚強;閆大鵬
• 申請（專利權）人: 武漢銳科光纖激光技術股份有限公司;湖北光谷實驗室
• 主分類號: H01S3/00
• 分類號: H01S3/00;H01S5/00
• 代理公司: 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570
• 代理人: 李莎

1.一種光閘調試系統，其特征在于，所述光閘調試系統包括：

激光發生器，用于發射第一調試光束；

第一調節模塊，包括沿所述第一調試光束的發射光路依次設置的第一反射鏡、第二反射鏡和第一調同軸組件，所述第一調試光束依次經所述第一反射鏡和所述第二反射鏡反射后沿第一方向射出至所述第一調同軸組件；

第二調節模塊，設置在所述第二反射鏡的反射光路上，所述第二調節模塊位于所述第二反射鏡和所述第一調同軸組件之間；所述第二調節模塊包括多個沿所述第一方向依次設置的子調節模塊，所述子調節模塊包括第三反射鏡和耦合筒，所述第三反射鏡位于所述第二反射鏡的反射光路上；所述第一調試光束依次經所述第一反射鏡、所述第二反射鏡和其中一個所述子調節模塊的第三反射鏡反射后沿第二方向射出，所述第二方向與對應的所述耦合筒同軸。

2.根據權利要求1所述的光閘調試系統，其特征在于，所述第一調同軸組件包括第一光斑檢測結構，所述第一光斑檢測結構用于接收所述第一調試光束經所述第二反射鏡反射后形成的光斑，并沿所述第一方向移動，所述第一調試光束經所述第二反射鏡反射后與所述第一光斑檢測結構同軸。

3.根據權利要求2所述的光閘調試系統，其特征在于，所述第一調節模塊還包括光闌，所述光闌位于所述第二反射鏡的反射光路上，且所述光闌位于所述第二反射鏡與所述第一調同軸組件之間；所述光闌上形成有用于所述第一調試光束穿過的透光孔，所述透光孔與所述第一光斑檢測結構同軸。

4.根據權利要求1所述的光閘調試系統，其特征在于，所述第二調節模塊還包括第二調同軸組件，所述第二調同軸組件位于所述第三反射鏡的反射光路上；所述第二調同軸組件包括第二光斑檢測結構，所述第二光斑檢測結構用于接收所述第一調試光束經所述第三反射鏡反射后形成的光斑，并沿所述第二方向移動，所述第一調試光束經所述第三反射鏡反射后與所述第二光斑檢測結構同軸。

5.根據權利要求4所述的光閘調試系統，其特征在于，所述激光發生器還用于發射第二調試光束，所述第二調試光束與所述第一調試光束同軸；所述光閘調試系統還包括功率檢測模塊和輸出光纖，所述輸出光纖與所述耦合筒連接，所述功率檢測模塊位于所述輸出光纖的出光側；所述第二調試光束依次經所述第一反射鏡、所述第二反射鏡和所述第三反射鏡反射至所述耦合筒，并經所述輸出光纖耦合后發射至所述功率檢測模塊，所述功率檢測模塊用于檢測所述第二調試光束經所述輸出光纖耦合后的功率。

6.根據權利要求1所述的光閘調試系統，其特征在于，所述第一反射鏡和所述第二反射鏡為固定反射鏡，所述第三反射鏡為旋轉反射鏡。

7.一種光閘調試系統的調試方法，其特征在于，所述光閘調試系統包括激光發生器、第一調節模塊和第二調節模塊；所述激光發生器用于發射第一調試光束，所述第一調節模塊包括沿所述第一調試光束的發射光路依次設置的第一反射鏡、第二反射鏡和第一調同軸組件，所述第二調節模塊設置在所述第二反射鏡的反射光路上，所述第二調節模塊包括多個沿所述第二反射鏡的反射方向依次設置的子調節模塊，所述子調節模塊包括第三反射鏡和耦合筒，所述第三反射鏡位于所述第二反射鏡的反射光路上；所述方法包括：

打開所述激光發生器，使所述激光發生器發射所述第一調試光束；

調節所述第一反射鏡和所述第二反射鏡的傾角，使所述第一調試光束依次經所述第一反射鏡和所述第二反射鏡反射后沿第一方向射出至所述第一調同軸組件；

固定所述第一反射鏡和所述第二反射鏡的位置；

將其中一個所述子調節模塊的第三反射鏡旋轉至第一預設位置；

調節所述第三反射鏡的傾角，使所述第一調試光束依次經所述第一反射鏡、所述第二反射鏡和所述第三反射鏡反射后沿第二方向射出，所述第二方向與對應的所述耦合筒同軸；

將所述第三反射鏡旋轉至第二預設位置；

依次將剩余所述子調節模塊的第三反射鏡旋轉至對應的第一預設位置，并對所述第三反射鏡的傾角進行調節，以使所述第一調試光束經對應的第三反射鏡反射后與對應的耦合筒同軸。