[發(fā)明專利]拋光頭、拋光裝置和拋光方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202211728960.0
• 申請日: 2022-12-30
• 公開（公告）號: CN115946026A
• 公開（公告）日: 2023-04-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 徐德勤;張佳浩;劉增偉;曾柏翔;李瑞評;陳銘欣
• 申請（專利權(quán)）人: 福建晶安光電有限公司
• 主分類號: B24B29/02
• 分類號: B24B29/02;B24B1/04
• 代理公司: 北京金咨知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11612
• 代理人: 王曉雅

本申請?zhí)峁┮环N拋光頭、拋光裝置和拋光方法，用于安裝被拋光工件，拋光頭用于安裝被拋光工件，包括：拋光頭本體和壓電陶瓷，壓電陶瓷安裝于所述拋光頭本體之內(nèi)，壓電陶瓷用于與超聲發(fā)生器連接以使拋光頭振動。有效減小了壓電陶瓷與安裝在拋光頭上的被拋光工件之間的距離，進(jìn)而減小壓電陶瓷產(chǎn)生的振動在傳遞至被拋光工件的過程中的功率損耗，在拋光被拋光工件時使被拋光工件的振幅相對較大，最終達(dá)到獲得更好的拋光效果的目的；而且，減小壓電陶瓷產(chǎn)生的振動在傳遞至被拋光工件的過程中的功率損耗，還可以使被拋光工件在拋光時獲得較高的振動頻率，進(jìn)而獲得更好的拋光效果。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請涉及半導(dǎo)體加工制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及拋光頭、拋光裝置和拋光方法。

背景技術(shù)

由于傳統(tǒng)的化學(xué)機(jī)械拋光方法拋光后的半導(dǎo)體工件粗糙度有限，無法完全滿足后續(xù)生產(chǎn)的需求，超聲輔助化學(xué)機(jī)械拋光的方法逐步得到應(yīng)用，相較于傳統(tǒng)的化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)，超聲輔助化學(xué)機(jī)械拋光由于超聲振動的引入，拋光液溫度升高，磨粒加速沖擊工件，因此工件可以獲得更高的移除率和更低的粗糙度。現(xiàn)有的超聲輔助化學(xué)機(jī)械拋光裝置，一般是將用來產(chǎn)生振動效果的壓電陶瓷安裝在拋光頭的上表面，但這使壓電陶瓷距離被拋光工件較遠(yuǎn)，振動在傳遞至被拋光工件的過程中功率損耗較大，在拋光被拋光工件時使被拋光工件的振幅相對較小，對拋光效果產(chǎn)生不利影響。

發(fā)明內(nèi)容

鑒于此，本申請實施例提供了一種拋光頭、拋光裝置和拋光方法，以消除或改善現(xiàn)有技術(shù)中存在的一個或更多個缺陷。

本申請的一個方面提供了一種拋光頭，包括：

用于安裝被拋光工件，所述拋光頭包括拋光頭本體和壓電陶瓷，所述壓電陶瓷安裝于所述拋光頭本體之內(nèi)，所述壓電陶瓷用于與超聲發(fā)生器連接以使所述拋光頭振動。

在本申請的一些實施例中，

所述拋光頭本體包覆所述壓電陶瓷。

在本申請的一些實施例中，

在所述拋光頭本體上形成有容納槽和工件安裝部，所述容納槽的槽口的朝向背離所述工件安裝部，所述壓電陶瓷可拆卸的安裝在所述容納槽內(nèi)。

在本申請的一些實施例中，

所述拋光頭包括至少兩個所述壓電陶瓷，所述拋光頭本體為圓盤狀，各所述壓電陶瓷在所述拋光頭的周向上均勻分布。

在本申請的一些實施例中，

至少一個所述壓電陶瓷為軸向振動壓電陶瓷，且至少一個所述壓電陶瓷為徑向振動壓電陶瓷，所述軸向振動壓電陶瓷用于產(chǎn)生在所述拋光頭的軸向上的振動，所述徑向振動壓電陶瓷用于產(chǎn)生在所述拋光頭的徑向上的振動。

在本申請的一些實施例中，

所述拋光頭包括偶數(shù)個所述壓電陶瓷，一半數(shù)量的所述壓電陶瓷為所述軸向振動壓電陶瓷，另一半數(shù)量的所述壓電陶瓷為所述徑向振動壓電陶瓷，在所述拋光頭的周向上各所述軸向振動壓電陶瓷與各所述徑向振動壓電陶瓷交錯排列，所述偶數(shù)大于或等于4。

在本申請的一些實施例中，

在所述拋光頭的周向上相鄰的兩個軸向振動壓電陶瓷之間僅設(shè)置一個所述徑向振動壓電陶瓷，且相鄰的兩個所述徑向振動壓電陶瓷之間僅設(shè)置一個所述軸向振動壓電陶瓷。

在本申請的一些實施例中，

在所述拋光頭本體上形成有工件安裝部，所述工件安裝部用于與真空泵連接以吸附被拋光工件。

本申請的另一方面還提供了一種拋光裝置，包括：